镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102230163A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102230163A(43)申请公布日2011.11.02(21)申请号200910308414.X(22)申请日2009.10.16(71)申请人鸿富锦精密工业（深圳）有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号申请人鸿海精密工业股份有限公司(72)发明人王仲培(51)Int.Cl.C23C14/56(2006.01)C23C14/34(2006.01)C23C14/04(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图4页(54)发明名称镀膜装置(57)摘要本发明提供一种镀膜装置，包括一个镀膜室、多个靶材、多个挡板以及多个驱动机构，所述多个靶材与多个挡板一一对应地设置于镀膜室内，每个驱动机构均包括驱动马达、与驱动马达相连接的齿轮以及与齿轮啮合的齿轨，所述驱动马达用于驱动齿轮转动，所述齿轮用于在驱动马达的驱动下带动齿轨移动，所述多个驱动机构的齿轨与所述多个挡板一一对应，每个齿轨均固设于一个与其对应的挡板，用于通过与齿轮的啮合带动该挡板相对于与该挡板对应的靶材移动，以使得挡板与该靶材相对从而遮蔽该靶材或者使得挡板与该靶材相背从而暴露该靶材。CN10236ACCNN110223016302230165A权利要求书1/1页1.一种镀膜装置，包括一个镀膜室、多个靶材、多个挡板以及多个驱动机构，所述多个靶材与多个挡板一一对应地设置于镀膜室内，每个驱动机构均包括驱动马达、与驱动马达相连接的齿轮以及与齿轮啮合的齿轨，所述驱动马达用于驱动齿轮转动，所述齿轮用于在驱动马达的驱动下带动齿轨移动，所述多个驱动机构的齿轨与所述多个挡板一一对应，每个齿轨均固设于一个与其对应的挡板，用于通过与齿轮的啮合带动该挡板相对于与该挡板对应的靶材移动，以使得挡板与该靶材相对从而遮蔽该靶材或者使得挡板与该靶材相背从而暴露该靶材。2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室具有反应腔，所述镀膜装置还包括一个抽真空装置、一个供气装置以及一个电压提供装置，所述抽真空装置和供气装置均与所述反应腔相连通，所述电压提供装置与所述靶材电连接。3.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置还包括一个设置于镀膜室内的料架，所述料架包括一个环形基座以及多个设置于基座的挂架，所述多个挂架位于多个靶材附近，用于承载待镀膜的工件。4.如权利要求3所述的镀膜装置，其特征在于，所述多个靶材环绕基座的中心轴线分布于基座的两侧。5.如权利要求4所述的镀膜装置，其特征在于，所述多个靶材两两相对。6.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，多个分布于基座的一侧的每个靶材均与一个分布于基座的另一侧的靶材相对。7.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，多个分布于基座的同一侧的靶材两两相邻。8.如权利要求3所述的镀膜装置，其特征在于，每个齿轨均固设于一个与其对应的挡板远离基座的一端。9.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，每个靶材均具有一个轰击面以及一个与轰击面相邻的侧面，每个挡板均具有一个靠近靶材的第一表面，所述第一表面的横截面为半圆形，每个齿轨的横截面形状也为半圆形，每个齿轮均位于一个靶材的一侧，且与该靶材的侧面相对。10.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，每个挡板相对于与该挡板对应的靶材的移动方式为转动或平移。2CCNN110223016302230165A说明书1/4页镀膜装置技术领域[0001]本发明涉及镀膜技术，尤其涉及一种用于进行反应式溅镀的镀膜装置。背景技术[0002]近年来，镀膜技术在新材料技术领域得到广泛应用。镀膜是指通过气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生长法等方法在基体材料表面形成一层或几层薄膜材料的技术。薄膜的厚度通常为几个纳米至几十微米，其在厚度方向的尺度和水平方向的尺度相比非常小的特性通常使其具有特殊的光、电、磁等效应。并且，薄膜通常可以赋予基体材料表面特殊的性能或对基体材料表面加以防护从而大大提高基体材料的性能。[0003]随着近代工业的发展越来越多地需要用到各种化合物薄膜，反应式溅射镀膜技术由于反应成膜纯度高、可通过调节工艺参数控制薄膜成分、低温高溅射等优点在工业规模大生产中展现出了明显的优势。用于进行反应式溅射镀膜的设备通常包括反应室以及靶材，在反应室内通入工作气体与反应气体后，施加电场可以在反应腔内电离工作气体而产生等离子体，等离子体轰击靶材即可将靶材的原子轰击出来并使轰击出来的靶材原子与反应气体反应，从而生成化合物薄膜材料并在电场作用下附着于待镀膜的基体材料表面，形成薄膜。[0004]然而，由于在镀膜过程中产生的化合物薄膜材料也可能沉积在靶材的表面，因此会造成靶材毒化(靶中毒)，靶