镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102312219A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102312219A(43)申请公布日2012.01.11(21)申请号201010213744.3(22)申请日2010.06.30(71)申请人鸿富锦精密工业（深圳）有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号申请人鸿海精密工业股份有限公司(72)发明人许嘉麟(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)C23C16/46(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称镀膜装置(57)摘要一种镀膜装置，其采用原子层沉积方法进行镀膜，所述镀膜装置包括一腔体，所述腔体内壁设置有加热单元，所述加热单元具有一个收容空间用以收容一滚轮以对所述滚轮进行镀膜。CN10239ACCNN110231221902312221A权利要求书1/1页1.一种镀膜装置，其采用原子层沉积方法进行镀膜，其特征在于，所述镀膜装置包括一腔体，所述腔体内壁设置有加热单元，所述加热单元具有一个收容空间用以收容一滚轮以对所述滚轮进行镀膜。2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热单元包括第一加热线圈和第二加热线圈，所述第一加热线圈和第二加热线圈共同限定所述收容空间以用来容纳所述滚轮。3.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述腔体包括盖体和底座，所述第一加热线圈贴合在所述盖体内壁上，所述底第二加热线圈贴合在所述底座上。4.如权利要求1至3任一项所述的镀膜装置，其特征在于，所述腔体内具有支撑架以支持所述滚轮。5.如权利要求4所述的镀膜装置，其特征在于，所述支撑架位于所述底座内。6.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述盖体上具有进气口。7.如权利要求6所述的镀膜装置，其特征在于，所述底座上具有出气口。2CCNN110231221902312221A说明书1/3页镀膜装置技术领域[0001]本发明涉及一种镀膜装置。背景技术[0002]目前光学膜片一般利用具有微结构雕刻之铜滚轮，将树脂载体压印后照光固化完成，而在制程上，难以避免有尘粒掉落于滚轮表面。因电镀之硬质铜硬度较小，所以当滚轮继续运转时，尘粒便在树脂载体与轮面间随之带动，最后造成刮伤而导致膜片成品光学质量不良。另一方面因轮面为铜材，故暴露于大气环境容易形成氧化铜，当氧化层面积增大时将造成微结构破坏，最后滚轮报废而须重新进行雕刻。[0003]在滚轮直接镀上镍层再行雕刻，虽增加了轮面硬度但势必缩短钻石刀具使用寿命，因此最佳方式仍是在铜滚轮上雕刻微结构，再设法制作保护层以达到轮面之耐磨耗或者抗氧化效果。[0004]由于滚轮体积较大，倘若以一般PVD方式进行镀膜，因膜层均匀性的考虑，除了注意载体气体流场外，可能由于靶材置放、电浆源以及滚轮转动等等疑虑，必须重新制作一套较为复杂的系统。[0005]传统镀膜设备中，加热装置一般设置在镀膜工件下方，从下方对工件进行加热，但是，采用此方式对滚轮加热造成滚轮加热不均匀。发明内容[0006]有鉴于此，有必要提供一种可均匀加热滚轮的镀膜装置。[0007]一种镀膜装置，其采用原子层沉积制程进行镀膜，所述镀膜装置包括一腔体，所述腔体内壁设置有加热单元，所述加热单元具有一个收容空间用以收容一滚轮以对所述滚轮进行镀膜。[0008]与现有技术相比，本发明实施例的镀膜装置的加热单元围绕滚轮设置，以将滚轮围绕在中间，从而使得滚轮各个位置受热均匀，进而可均匀加热滚轮。附图说明[0009]图1是本发明实施例镀膜装置之轴向剖面图。[0010]图2是本发明实施例镀膜装置之径向剖面图。[0011]主要元件符号说明[0012]镀膜装置1[0013]腔体10[0014]盖体11[0015]底座12[0016]加热单元13[0017]支撑架143CCNN110231221902312221A说明书2/3页[0018]第一加热线圈131[0019]第二加热线圈132[0020]滚轮20[0021]第一收容空间30[0022]第二收容空间40[0023]内壁110，120[0024]进气口111[0025]出气口121具体实施方式[0026]下面将结合附图对本发明实施例作进一步详细说明。[0027]请参阅图1及图2所示，本发明实施例提供了一种镀膜装置1，其在原子层沉积(atomiclayerdeposition，ALD)过程中对滚轮20进行镀膜。[0028]镀膜装置1包括腔体10，腔体10包括盖体11、底座12、加热单元13和用来支撑滚轮20之支撑架14，支撑架14设置在底座12上，盖体11盖合在底座12上从而限定一个第一收容空间30，第一收容空间30可以为方形、圆筒形等。[0029]滚轮20设置在支撑架14上，支撑架14将滚轮20支