化学气相沉积设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102373438A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102373438A(43)申请公布日2012.03.14(21)申请号201010249943.X(22)申请日2010.08.10(71)申请人鸿富锦精密工业（深圳）有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号申请人鸿海精密工业股份有限公司(72)发明人许嘉麟(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图2页(54)发明名称化学气相沉积设备(57)摘要一种化学气相沉积设备包括一个腔体，一个气体导入装置，一个抽气装置，一个加热装置，及一个驱动装置。所述腔体具有相对的第一侧与第二侧，及一个位于第一侧与第二侧之间用于放置待镀膜滚轮的镀膜区。所述气体导入装置设置于所述腔体内部且位于所述第一侧的上方，所述气体导入装置具有一个喷头，所述喷头朝向所述镀膜区以向所述镀膜区喷反应气体。所述抽气装置设置于所述第二侧的下方，所述抽气装置用于抽取所述腔体内的气体使所述腔体内形成从第一侧流向第二侧且经过所述镀膜区的气流。所述加热装置位于所述镀膜区的下方且设置于所述腔体对应镀膜区的腔壁上。所述驱动装置连接放置于所述镀膜区的待镀膜滚轮以驱动所述待镀膜滚轮绕其转轴转动。CN1023748ACCNN110237343802373441A权利要求书1/1页1.一种化学气相沉积设备，其包括：一个腔体，其具有相对的第一侧与第二侧，及一个位于所述第一侧与所述第二侧之间用于放置待镀膜滚轮的镀膜区；一个气体导入装置，其设置于所述腔体内部且位于所述腔体的第一侧的上方，所述气体导入装置具有一个喷头，所述喷头朝向所述镀膜区以向所述镀膜区喷反应气体；一个抽气装置，其设置于所述腔体的第二侧的下方，所述抽气装置用于抽取所述腔体内的气体使所述腔体内形成从所述腔体的第一侧流向第二侧且经过所述镀膜区的气流；一个加热装置，其位于所述镀膜区的下方且设置于所述腔体对应镀膜区的腔壁上；及一个驱动装置，其连接放置于所述镀膜区的待镀膜滚轮以驱动所述待镀膜滚轮绕其转动轴转动。2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述腔体为密封腔体，所述腔体对应镀膜区的底部为对应于待镀膜滚轮结构的圆弧状结构。3.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述加热装置设置于所述腔体外部且位于所述镀膜区的下方，所述加热装置包括多个电阻式加热线圈，所述多个电阻式加热线圈围绕所述腔体对应镀膜区的底部均匀地设置。4.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积设备进一步包括一个等离子产生装置，所述等离子产生装置设置于所述腔体内部且位于所述镀膜区的上方，所述等离子产生装置朝向所述镀膜区。5.如权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述等离子产生装置为平板结构，其与放置于所述镀膜区的待镀膜滚轮的转动轴相平行，且所述等离子产生装置沿所述待镀膜滚轮轴向的长度大于所述待镀膜滚轮的轴向长度。6.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积设备进一步包括一个设置于所述腔体的第二侧的抽气管，所述抽气装置包括一个抽气阀及一个抽气泵；所述抽气管连通所述腔体的内部与外部，所述抽气阀设置于所述抽气管内，所述抽气泵设置于所述抽气管内且位于所述抽气阀朝向所述腔体外部的一侧。7.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积设备进一步包括两个用于支撑待镀膜滚轮的转动轴的轴承，所述两个轴承相对且同轴地设置于所述腔体内对应镀膜区的腔壁上，所述两个轴承的轴线垂直于所述腔体的第一侧的中心与第二侧的中心的连线。8.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述驱动装置设置于所述腔体的内部且靠近所述抽气装置。9.如权利要求8所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述驱动装置包括一个电动马达及一个皮带，所述电动马达与所述待镀膜滚轮的转动轴通过所述皮带相连接。10.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述反应气体包括硅烷与氮气，或氯化铝与氨气，或氯化钛与氮气及氢气。2CCNN110237343802373441A说明书1/5页化学气相沉积设备技术领域[0001]本发明涉及一种化学气相沉积设备，尤其涉及一种用于光学膜片压印滚轮表面镀膜的化学气相沉积设备。背景技术[0002]光学膜片的加工过程中，压印滚轮用于压制成型光学膜片表面的微结构。压印滚轮基本由较硬的材质，如不锈钢或铁制成。为了获得光学膜片表面的满足光学特性要求的微结构，一般根据所需的微结构对压印滚轮外圆周面进行精密加工。而为了便于精密加工，又通常采用液相镀膜诸如电镀的方式，先于压印滚轮的外圆周面镀上一层较软材质如铜的膜层，然后对铜质膜层进行精