

化学气相沉积.ppt
胜利****实阿
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抽气装置、低压化学气相沉积设备以及化学气相沉积方法.pdf
本发明提供抽气装置、低压化学气相沉积设备以及化学气相沉积方法。一种抽气装置,用于抽取低压化学气相沉积设备的炉管内的气体,其特征在于,所述抽气装置包括:并联的第一阀、第二阀和第三阀,其通过导管与炉管的排气口相连;抽气泵,其通过导管与第一至第三阀相连,其中第一阀、第二阀和第三阀分别与抽气泵一起工作用于降低炉管内气压且降低炉管内气压的速率依次递减。利用本发明可以改善现有的低压化学气相沉积设备内颗粒污染较为严重的问题。
化学气相沉积技术.ppt
化学气相沉积技术目录化学气相沉积技术的基本概念化学气相沉积技术(CVD)是一种材料表面改性技术。是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体,借助气相作用或在基体表面上的化学反应在基体上制得金属或化合物薄膜的方法。它可以利用气相间的反应,在不改变基体材料成分和不消弱基体材料强度的条件下,赋予材料表面一些特殊的性能。从气相中析出的固体的形态主要有下列几种:⑴.在固体表面上生成薄膜、晶须和晶粒⑵.在气体中生成粒子化学气相沉积技术的分类化学气相沉积技术的发展历程CVD是建立在化学反应基础上的,要制备
化学气相沉积技术.ppt
化学气相沉积技术目录化学气相沉积技术的基本概念化学气相沉积技术(CVD)是一种材料表面改性技术。是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体,借助气相作用或在基体表面上的化学反应在基体上制得金属或化合物薄膜的方法。它可以利用气相间的反应,在不改变基体材料成分和不消弱基体材料强度的条件下,赋予材料表面一些特殊的性能。从气相中析出的固体的形态主要有下列几种:⑴.在固体表面上生成薄膜、晶须和晶粒⑵.在气体中生成粒子CVD技术化学气相沉积技术的发展历程CVD是建立在化学反应基础上的,要制备特定性能材料
化学气相沉积炉.pdf
本发明提供了一种化学气相沉积炉,其包括:炉体;上炉盖,设置在炉体上部,与炉体密封且可拆装式固定连接;下炉盖,设置在炉体下部,与炉体密封可拆装式固定连接;以及下炉盖升降机构,与下炉盖固定连接,以使下炉盖在脱开固定的炉体后带动下炉盖降落以进行下出料、以及带动出料后的下炉盖上升以与炉体结合。所述化学气相沉积炉还可包括:前后推送机构,设置于下炉盖的正下方,前后推送机构使下炉盖升降机构带动下降的下炉盖落在其上并前后移动到至外围,以进行出装料。炉体、上炉盖、下炉盖均可采用水冷夹层、保温层。由此,能够避免在反复拆装的过