电解铜箔用混合添加剂、其配制方法以及用于制备超低轮廓电解铜箔的方法.pdf
觅松****哥哥
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电解铜箔用混合添加剂、其配制方法以及用于制备超低轮廓电解铜箔的方法.pdf
一种超低轮廓电解铜箔用混合添加剂,其特征是含有阿拉伯树胶(AG)0.3-2g/L、羟乙基纤维素(HEC)1-2.5g/L、明胶(Glue)0.5-1.6g/L、二巯基二丙烷磺酸钠(SPS)0.5-1.5g/L、乙烯硫脲(N)0.01-0.1g/L。用其生产的12μmVLP铜箔,常温(23℃)抗拉强度大于380MPa,常温延伸率大于6%,高温(180℃)抗拉强度大于200MPa,高温延伸率大于8%。晶体生长面(M面)粗糙度Rz在1.5-2.5μm,特别适用于FPC和锂离子电池。
电解无轮廓铜箔用混合添加剂及用其制备电解铜箔的方法.pdf
本发明涉及一种电解无轮廓铜箔用混合添加剂及用其制备电解铜箔的方法,每升混合添加剂的水溶液中包括如下组分:水解胶原蛋白Glue0.02‑0.4g/L,巯基咪唑丙磺酸钠MESS0.1‑0.5g/L,亚甲基双硫氰酸酯MBT0.05‑0.5g/L,苯基二硫丙烷磺酸钠BSP0.05‑0.4g/L,(O‑乙基二硫代碳酸)‑S‑(3‑磺酸基丙基)酯钾盐OPX0.01‑0.2g/L,聚乙二醇PEG0.05‑0.4g/L,盐酸10‑50g/L,使用本发明的混合添加剂得到的厚度为12‑50μm铜箔其毛面(晶体生长
电解铜箔用添加剂、电解铜箔用电解液、铜箔及其制备方法.pdf
本发明涉及电解铜箔技术领域,具体涉及一种电解铜箔用添加剂、电解铜箔用电解液、铜箔及其制备方法。该电解铜箔用添加剂包括:聚二硫二丙烷磺酸钠、醇硫基丙烷磺酸钠、高分子胶、聚乙二醇和羟乙基纤维素;其中,聚二硫二丙烷磺酸钠、醇硫基丙烷磺酸钠、高分子胶、聚乙二醇和羟乙基纤维素的质量比为3‑30:1‑15:5‑50:1‑20:1‑10。本发明提供的电解铜箔用添加剂,通过特定组分之间的协同作用,解决了铜箔力学性能差的问题,使得得到的铜箔具有制备方法简单,力学性能好的优点。
一种用于双面光电解铜箔的添加剂以及铜箔的制备方法.pdf
本发明公开了一种用于双面光电解铜箔的添加剂,其包括10‑60重量份的壬基酚聚氧乙烯醚、2‑10重量份的脂肪胺乙氧基磺化物、1‑30重量份的聚二硫二丙烷磺酸钠、0.1‑1重量份的2‑巯基苯丙咪唑和0.1‑0.3重量份的羟乙基纤维素。本发明还公开了一种双面光电解铜箔的制备方法,其采用电解设备制备铜箔,向电解液中加入本发明的添加剂。采用本发明的添加剂在高电流密度下能够制备得到毛面表面粗糙度Ra小于0.3μm,Rz小于2μm的电解铜箔,并且可以使电解铜箔的抗拉强度达到600MPa以上。
一种电解铜箔用添加剂、电解铜箔生产工艺和电解铜箔.pdf
本发明公开一种电解铜箔用添加剂、电解铜箔生产工艺和电解铜箔,该添加剂是由铜光亮剂、明胶、羟基纤维素、整平剂、润湿剂和水组成,其中,铜光亮剂:明胶:羟基纤维素:整平剂:润湿剂:水的重量比为0.1:5:1:0.2:0.4:50。本发明的电解铜箔用添加剂,利用羟基纤维素来辅助铜光亮剂对铜箔的光亮度进行控制,使得铜箔不但光亮度适中,而且表面不粗糙。本发明的电解铜箔生产工艺,其操作简单、成本低廉,制备的电解铜箔不但超厚低轮廓,而且具有面积大、无孔隙、厚度均匀性好、纯度高和导电性好等优点,能够满足医疗器械及军工要求,