真空镀膜机转动机构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102899617A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102899617A(43)申请公布日2013.01.30(21)申请号201110210063.6(22)申请日2011.07.26(71)申请人御林汽配（昆山）有限公司地址215325江苏省苏州市昆山市花桥镇兆丰路８号(72)发明人黄水祥(74)专利代理机构昆山四方专利事务所32212代理人盛建德(51)Int.Cl.C23C14/24(2006.01)权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书22页页附图附图22页(54)发明名称真空镀膜机转动机构(57)摘要一种真空镀膜机转动机构，包括旋转支架和驱动该旋转支架旋转的马达，该旋转支架位于真空腔室内，该真空腔室由底座和安装于该底座的穹顶罩组成，该旋转支架包括可固定镀膜工件的上托架以及下环，该上托架中部固定于该穹顶罩顶部转动轴上，该上托架环周与该下环之间通过多个并行的直立杆连接固定，对应该下环的内边缘，该底座设有多个便于该下环转动的滚轮，该马达驱动紧配于该下环内边缘的驱动滚轮连带该下环转动，该上托架由上内环、上外环和多个辐条组成，该上内环固定于该穹顶罩顶部转动轴上，该多个辐条两端分别连接该上内环和上外环，并呈辐射状分布，该上外环与该下环之间通过多个并行的该直立杆连接固定。CN1028967ACN102899617A权利要求书1/1页1.一种真空镀膜机转动机构，包括旋转支架和驱动该旋转支架旋转的马达(22)，该旋转支架位于真空腔室内，该真空腔室由底座(1)和安装于该底座的穹顶罩(2)组成，其特征在于：其中：1)该旋转支架包括可固定镀膜工件的上托架以及下环(5)，该上托架中部固定于该穹顶罩(2)顶部转动轴(28)上，该上托架环周与该下环之间通过多个并行的直立杆(6)连接固定，对应该下环的内边缘，该底座设有多个便于该下环(5)转动的滚轮(4)；2)该马达(22)驱动紧配于该下环(5)内边缘的驱动滚轮(21)连带该下环(5)转动。2.根据权利要求1所述的真空镀膜机转动机构，其特征在于：该上托架由上内环(9)、上外环(14)和多个辐条(25)组成，该上内环(9)固定于该穹顶罩(2)顶部转动轴上，该多个辐条(25)两端分别连接该上内环(9)和上外环(14)，并呈辐射状分布，该上外环(14)与该下环(5)之间通过多个并行的该直立杆(6)连接固定。3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜机转动机构，其特征在于：该驱动滚轮(21)固定于一个连接轴(24)的上端，该连接轴(24)中部固定于该底座(1)而下端伸出于该底座，并通过安装于该真空腔室外部的该马达(22)驱动转动。4.根据权利要求3所述的真空镀膜机转动机构，其特征在于：该驱动滚轮(21)为齿轮，该下环(5)内边缘对应设有能与该齿轮啮合的环形齿条，该马达(22)为步进马达。2CN102899617A说明书1/2页真空镀膜机转动机构技术领域[0001]本发明属于真空镀膜设备，特别涉及一种通过转换镀膜工件位置实现蒸发镀膜的加工设备。背景技术[0002]真空镀膜是指需要在较高真空度下进行镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。[0003]对于蒸发镀膜，一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片(或称工件)表面，通过成膜过程形成薄膜。厚度均匀性和组分均匀性主要取决于：工件材料与靶材的晶格匹配程度；工件表面温度；靶材蒸发功率和速率；镀膜真空度；镀膜时间和厚度大小。当调整了工件镀膜温度和真空度，以及靶材蒸发条件后，就需要按照工件特定要求，需要通过合理设置的传机构来连续转换镀膜工件位置，才能确保工件镀膜质量，尤其对于如汽车轮毂之类的大型工件显得特别重要。发明内容[0004]为了克服上述缺陷，本发明提供一种真空镀膜机转动机构，通过连续调整镀膜工件位置达到工件镀膜均匀度，提高了效率。[0005]本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种真空镀膜机转动机构，包括旋转支架和驱动该旋转支架旋转的马达，该旋转支架位于真空腔室内，该真空腔室由底座和安装于该底座的穹顶罩组成，其中：[0006]1)该旋转支架包括可固定镀膜工件的上托架以及下环，该上托架中部固定于该穹顶罩顶部转动轴上，该上托架环周与该下环之间通过多个并行的直立杆连接固定，对应该下环的内边缘，该底座设有多个便于该下环转动的滚轮；[0007]2)该马达驱动紧配于该下环内边缘的驱动滚轮连带该下环转动。[0008]作为本发明的进一步改进，该上托架由上内环、上外环和多个辐条组成，该上内环固定于该穹顶罩顶部转动轴上，该多个辐条两端分别连接该上内环和上外环，并呈辐射状分布，该上外环与该下环之间通过多个并行