一种真空镀膜机磁控溅射控制机构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111647867A(43)申请公布日2020.09.11(21)申请号202010634665.3(22)申请日2020.07.02(71)申请人杭州企势科技有限公司地址310000浙江省杭州市下城区石祥路59号43号楼304室(72)发明人赵淑鑫(51)Int.Cl.C23C14/54(2006.01)C23C14/35(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种真空镀膜机磁控溅射控制机构(57)摘要本发明涉及金属镀覆技术领域，且公开了一种真空镀膜机磁控溅射控制机构，包括箱体，所述箱体内部的底部固定连接有固定板。该真空镀膜机磁控溅射控制机构，当膜厚检测仪检测到金属镀件镀层厚度不均匀时，会启动电动机一使得齿轮一转动，移动板会左右移动，而挡板固定连接在移动板的右侧，使得挡板可以左右移动，从而达到了镀膜厚度均匀的效果。转动把手使得齿轮六转动，由于齿轮六与固定板啮合连接，使得齿轮六可以在固定板内部上下运动，从而使得喷溅靶可以上下运动，拉动拉杆使得支撑杆进入不同的凹槽内部，可以使得拉动杆拉动喷溅靶头部的角度发生改变，从而达到了根据需要调节喷溅靶位置的效果。CN111647867ACN111647867A权利要求书1/1页1.一种真空镀膜机磁控溅射控制机构，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)内部的底部固定连接有固定板(2)，所述固定板(2)的顶部活动连接有喷溅靶(3)，所述箱体(1)底部的内部活动连接有转动轴一(4)，所述转动轴一(4)远离箱体(1)的一侧固定连接有把手(5)，所述箱体(1)的内部活动连接有移动板(6)，所述移动板(6)的内部啮合连接有齿轮一(7)，所述移动板(6)的右侧固定连接有挡板(8)，所述箱体(1)的内部活动连接有固定盘(9)，所述箱体(1)内部的右侧固定连接有膜厚检测仪(10)，所述齿轮一(7)的底部固定连接有转动轴二(11)，所述转动轴二(11)的底部固定连接有齿轮二(12)，所述齿轮二(12)啮合连接有齿轮三(13)，所述齿轮三(13)的左侧固定连接有电动机一(14)，所述固定盘(9)的底部固定连接有转动轴三(15)，所述转动轴三(15)远离固定盘(9)的一端固定连接有齿轮四(16)，所述齿轮四(16)啮合连接有齿轮五(17)，所述齿轮五(17)的左侧固定连接有电动机二(18)，所述转动轴一(4)远离把手(5)的一侧固定连接有齿轮六(19)，所述喷溅靶(3)的右侧活动连接有拉动杆(20)，所述拉动杆(20)的右侧固定连接有拉杆(21)，所述拉杆(21)的正面固定连接有支撑杆(22)，所述箱体(1)的右侧开设有凹槽(23)。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机磁控溅射控制机构，其特征在于：所述移动板(6)的内部有与齿轮一(7)啮合的轮齿，所述移动板(6)在箱体(1)的内部共有两个，且中心对称。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机磁控溅射控制机构，其特征在于：所述挡板(8)在固定盘(9)与喷溅靶(3)之间。4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机磁控溅射控制机构，其特征在于：所述膜厚检测仪(10)与固定盘(9)水平平齐。5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机磁控溅射控制机构，其特征在于：所述转动轴一(4)的两端分别固定连接有喷溅靶(3)和把手(5)。6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机磁控溅射控制机构，其特征在于：所述固定板(2)的内部有与齿轮六(19)啮合连接的轮齿。2CN111647867A说明书1/3页一种真空镀膜机磁控溅射控制机构技术领域[0001]本发明涉及金属镀覆技术领域，具体为一种真空镀膜机磁控溅射控制机构。背景技术[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，属于一种常用的金属镀覆设备，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要分成两种，蒸发和溅射。蒸发是指通过加热靶使表面组分以原子团或离子团形式被蒸发出来，并且沉淀在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。溅射主要是利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子团形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，最后形成薄膜。[0003]目前磁溅式真空镀膜机一般为线式镀膜机，这种镀膜机的镀膜方式其纵向均匀性不好，现有的解决方式主要有调整磁场均匀和调整阳极罩，但是这种调节方式需要破真空才能处理，每次破真空会影响到生产效率和设备稳定性，且调整的效果不能立即确认，可能会需要多次修改，因此如何使得真空镀膜机在镀膜过程中镀膜均匀，且可以根据需要调节喷溅靶位置成为了一个重要的问题，因此我们提出了一种真空镀膜机磁控溅射控制机构。发明内容[0004](一)解决的技术问题[0005]针对