用于包覆基板的工艺.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103717344103717344A(43)申请公布日2014.04.09(21)申请号201280022285.8(72)发明人J.H.G.马特伊(22)申请日2012.03.01(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001(30)优先权数据11165427.32011.05.10EP代理人李涛严志军(85)PCT国际申请进入国家阶段日(51)Int.Cl.B23K26/06(2014.01)2013.11.08B23K26/0622(2014.01)(86)PCT国际申请的申请数据B23K26/14(2014.01)PCT/EP2012/0535422012.03.01B23K26/34(2014.01)(87)PCT国际申请的公布数据WO2012/152461EN2012.11.15(71)申请人苏舍涡轮服务芬洛有限公司地址荷兰洛姆权权利要求书2页利要求书2页说明书13页说明书13页附图7页附图7页(54)发明名称用于包覆基板的工艺(57)摘要公开了一种用于包覆基板1的工艺。该工艺包括以下步骤：(i)将能量束2引导到所述基板1的表面4的区域3上，以在所述表面4的所述区域3处生成熔融材料池5；(ii)朝向所述熔融材料池5引导颗粒7的物质流6，以便所述颗粒7的至少第一部分进入所述熔融材料池5；(iii)使所述熔融材料池5冷却并固化，从而将所述颗粒7的第二部分俘获在固化的材料池8中，以形成被俘获颗粒71，其中，在所述表面4的所述区域3处被引导的所述能量束2呈能量脉冲的形式，并且颗粒7的物质流6呈颗粒7的脉冲的形式，其中在所述颗粒7进入所述能量束2的路径前以及在所述颗粒7进入所述熔融材料池5前结束所述能量脉冲或者重新定向所述能量束2或者使所述能量束2在功率上降低，并且其中所述能量脉冲的结束或者所述能量束2的重新定向或者所述能量束2在功率上的降低被实施成使得所述颗粒7通过所述能量束2发生的实质熔化、熔合或者形状改变得到避免。本发明还涉及用于实施所述工艺的设备16。本发明还还涉及所述工艺或者设备16在包覆CN103717344ACN10374A涡轮部件中的用途以及能够通过所述工艺获得的包覆基板。CN103717344A权利要求书1/2页1.一种用于包覆基板(1)的工艺，包括以下步骤：(i)将能量束(2)引导到所述基板(1)的表面(4)的区域(3)上，以在所述表面(4)的所述区域(3)处生成熔融材料池(5)，(ii)朝向所述熔融材料池(5)引导颗粒(7)的物质流(6)，以便所述颗粒(7)的至少第一部分进入所述熔融材料池(5)，(iii)使所述熔融材料池(5)冷却并固化，从而将所述颗粒(7)的第二部分俘获在固化的材料池(8)中，以形成被俘获颗粒(71)，其特征在于，在所述表面(4)的所述区域(3)处被引导的所述能量束(2)呈能量脉冲的形式，并且颗粒(7)的物质流(6)呈颗粒(7)的脉冲的形式，其中在所述颗粒(7)进入所述能量束(2)的路径前以及在所述颗粒(7)进入所述熔融材料池(5)前结束所述能量脉冲或者重新定向所述能量束(2)或者使所述能量束(2)在功率上降低，并且其中所述能量脉冲的结束或者所述能量束(2)的重新定向或者所述能量束(2)在功率上的降低被实施成使得所述颗粒(7)通过所述能量束(2)发生的实质熔化、熔合或者形状改变得到避免。2.如权利要求1所述的工艺，其中，在所述步骤(i)～(iii)已经在所述区域(3)上完成后，将所述能量束(2)引导到所述表面(4)的实质不同的区域上，并且在所述实质不同的区域上重复步骤(i)～(iii)。3.如权利要求1或2所述的工艺，其中，在形成所述被俘获颗粒(71)后，清洁所述基板(5)的所述表面(4)，以去除所述表面上的第三部分的未被俘获颗粒(72)。4.如权利要求3所述的工艺，其中，将被去除的第三部分的未被俘获颗粒(72)用于制备颗粒(7)的另一脉冲。5.如权利要求1～4中任一项所述的工艺，其中，将颗粒(7)的脉冲设定为1ms～100ms的持续时间，优选为5ms～50ms，最优选为20ms～30ms。6.如权利要求1～5中任一项所述的工艺，其中，将颗粒(7)的物质流(6)设定为5m/s～50m/s的速度，优选为10m/s～30m/s，最优选为大约20m/s。7.如权利要求1～6中任一项所述的工艺，其中，以30度～60度优选为40度～50度的角度(14)相对于所述表面(4)的所述区域(3)的平面(15)引导颗粒(7)的物质流(6)。8.如权利要求1～7中任一项所述的工艺，其中，所述颗粒(7)是包含碳化硅、立方氮化硼或者金刚石的涂覆或者未涂覆的颗粒。9.如权利要求1～8中任一项所述的工