研磨装置及研磨方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103786090103786090A(43)申请公布日2014.05.14(21)申请号201310533355.2B24B37/27(2012.01)(22)申请日2013.10.31B24B37/34(2012.01)(30)优先权数据2012-2403942012.10.31JP2012-2429512012.11.02JP(71)申请人株式会社荏原制作所地址日本国东京都大田区羽田旭町11番1号(72)发明人梅本正雄曾根忠一相泽英夫小菅隆一江里口正晃(74)专利代理机构上海市华诚律师事务所31210代理人梅高强刘煜(51)Int.Cl.B24B37/04(2012.01)权权利要求书2页利要求书2页说明书13页说明书13页附图6页附图6页(54)发明名称研磨装置及研磨方法(57)摘要一种研磨装置具有：用于支撑具有研磨面(10a)的研磨块(10)的研磨台(12)；具有顶环(14)的顶环头(16)；包围顶环头(16)的顶环头罩壳(24)；具有砂轮修整工具(20)的砂轮修整工具头(22)；包围所述砂轮修整工具头的砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)；当顶环处于基板交接位置时将清洗液喷雾到顶环的上表面及顶环头罩壳的外表面的喷雾喷嘴(58、60、62)；以及当砂轮修整工具处于退让位置时将清洗液喷雾到砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)的外表面的喷雾喷嘴(62、64、66)。本发明可防止在研磨基板时向研磨台周围飞散的研磨液附着在研磨台周围的各种构成部件表面上并干燥。CN103786090ACN1037869ACN103786090A权利要求书1/2页1.一种研磨装置，其特征在于，具有：自由旋转的研磨台，该研磨台用于支撑具有研磨面的研磨块；顶环头，该顶环头具有顶环，该顶环在所述研磨台的上方的研磨位置与所述研磨台的侧方的基板交接位置之间自由移动并将基板按压到所述研磨面上；顶环头罩壳，该顶环头罩壳包围所述顶环头；修整件头，该修整件头具有修整件，该修整件在所述研磨台的上方的修整位置与所述研磨台的侧方的退让位置之间自由移动并对所述研磨面进行修整；修整件头罩壳，该修整件头罩壳包围所述修整件头；喷雾喷嘴，当所述顶环处于所述基板交接位置时，该喷雾喷嘴将清洗液喷雾到所述顶环的上表面及所述顶环头罩壳的外表面；以及喷雾喷嘴，当所述修整件处于所述退让位置时，该喷雾喷嘴将清洗液喷雾到所述修整件头罩壳的外表面。2.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还具有：将清洗流体喷雾到所述研磨面，从而清洗该研磨面的喷雾器；以及将清洗液喷雾到所述喷雾器的外表面的喷雾喷嘴。3.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还具有：将研磨液供给到所述研磨面的研磨液供给喷嘴；以及将清洗液喷雾到所述研磨液供给喷嘴的喷雾喷嘴。4.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还具有：将清洗液喷雾到腔室的内壁面的喷雾喷嘴，所述腔室将所述研磨装置收纳在内部。5.一种研磨方法，其特征在于，使保持有基板的顶环移动到研磨台的上方的研磨位置，旋转所述研磨台，将研磨液从研磨液供给喷嘴供给到所述研磨台上的研磨块的研磨面，同时用所述顶环将基板按压到所述研磨面上从而对该基板进行研磨，使保持有研磨后的基板的所述顶环从所述研磨位置移动到所述研磨台的侧方的基板交接位置，将清洗液喷雾到所述顶环的上表面及包围顶环头的顶环头罩壳的外表面，所述顶环头具有该顶环。6.如权利要求5所述的研磨方法，其特征在于，当所述顶环处于所述基板交接位置时，使修整件移动到该研磨台的上方的修整位置，将所述修整件按压在所述研磨面上，从而对该研磨面进行修整，使所述修整件从所述修整位置移动到所述研磨台的侧方的退让位置，将清洗液喷雾到包围修整件的修整件头罩壳的外表面，所述修整件头具有所述修整件。7.如权利要求5所述的研磨方法，其特征在于，在不对基板进行研磨时，将清洗流体从喷雾器喷雾到所述研磨面，从而清洗该研磨面，同时将清洗液喷雾到所述喷雾器的外表面。8.如权利要求5所述的研磨方法，其特征在于，在不对基板进行研磨时，将清洗液喷雾到所述研磨液供给喷嘴。9.一种研磨装置，其特征在于，具有：2CN103786090A权利要求书2/2页自由旋转的研磨台，该研磨台用于支撑具有研磨面的研磨块；喷雾器头，该喷雾器头将清洗流体喷雾到所述研磨面，从而清洗该研磨面；以及喷雾器罩壳，该喷雾器罩壳覆盖所述喷雾器头的上表面，所述喷雾器罩壳具有：具有半圆筒形的半圆筒顶板；以及从所述半圆筒顶板的两下端向下方延伸的第1侧板及第2侧板，所述半圆筒顶板具有：第1顶板，所述第1顶板具有从所述喷雾器罩壳的基端至顶端、半径为一定的圆弧状的纵截面；以及第2顶板，所述第2顶板具有从所述