掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法.pdf
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相关资料
掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法.pdf
本发明公开了一种掩膜版,包括对位标记测试窗口和间距测量测试窗口,所述掩膜版上还设置有第一检测标记和/或第二检测标记;所述第一检测标记,与所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的靠近掩膜版内部的边框齐平;所述第二检测标记,设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述对位标记测试窗口之间,和/或,设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓间距测量测试窗口之间。本发明还公开了一种掩膜版组件、曝光机和采用所述掩膜版检测测试窗口遮挡效果的方法。本发明提出的掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法,能够用于监控测试窗口
掩膜组件以及曝光显影方法.pdf
本申请提供一种掩膜组件以及曝光显影方法,掩膜组件包括至少一个掩膜板,掩膜板具有沿第一方向并排设置的拼接区和非重叠曝光区,掩膜板包括遮挡部和透光部;遮挡部包括位于拼接区的第一遮挡部和位于非重叠曝光区的第二遮挡部,第一遮挡部和第二遮挡部用于遮挡光线;透光部连接于遮挡部并用于曝光显影,透光部包括位于拼接区的第一透光部和位于非重叠曝光区的第二透光部,第一遮挡部位于第一透光部背离非重叠曝光区的一侧,其中,第一透光部的透光率大于零,且小于第二透光部的透光率。本申请提供的掩膜组件能够降低基板上本该被保留的图案被刻蚀掉的
掩膜版组件及掩膜版保护组件去除方法.pdf
本发明提供一种掩膜版组件及掩膜版保护组件的去除方法,掩膜版组件包括,光掩模版;掩膜版保护组件,掩膜版保护组件通过粘结物粘接在光掩模版上;以及冷却装置,冷却装置至少将粘结物冷却,从而使得粘结物脱离所述光掩模版。通过上述技术方案,本发明的掩膜版组件及掩膜版保护组件去除方法,通过冷却的方式使得光掩模版和保护框之间的粘结物脱离光掩模版,可以是使二者之间的粘结物硬化,从而使得粘结物脱离光掩模版,可以使得粘结物与保护框一同被移除,上述方式使得粘结物不会残留在光掩模版上,从而可以有效防止光掩模版的污染,防止光掩模版报废
掩膜组件及掩膜组件的制造方法.pdf
本发明公开一种掩膜组件及掩膜组件的制造方法,掩膜组件包括:掩膜框架,包括开口部;掩膜,布置在掩膜框架上;以及支撑杆,布置在掩膜框架与掩膜之间,并包括沿着长边而排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部,并且中心部与所述掩膜重叠,支撑杆的中心线以经过所述支撑杆的短边的中点而穿过第一夹紧部和第二夹紧部的短边的中点的方式沿着长边延伸而被定义,支撑杆的重心定义于所述中心线上,中心部以中心线为基准而分为具有不同形状的第一部分及第二部分。
掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板.pdf
本发明涉及一种掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板,掩膜装置包括掩膜组件和掩膜框架,所述掩膜组件包括一掩膜板和一遮挡件;所述掩膜板的边沿与所述掩膜框架连接;所述掩膜板上均匀开设有若干通孔所述遮挡件开设有若干通口;所述遮挡件抵接于所述掩膜板,各所述通口分别对齐于所述掩膜板上的部分所述通孔,所述遮挡件挡设于所述掩膜板上的剩余部分所述通孔。掩膜板无需根据不同显示区设置不同的预留区,只需整体进行蚀刻,减少了蚀刻工序,降低了工艺复杂度,掩膜板整体均匀开设通孔,使得掩膜板的各部分的力学性能趋于一致,有效减少形变,能够同时蒸镀