铜箔、覆铜层叠板、以及柔性印刷基板和电子设备.pdf
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相关资料
铜箔、覆铜层叠板、以及柔性印刷基板和电子设备.pdf
提供即使自身的厚度较薄、与树脂层层压时也难以产生褶皱的铜箔、覆铜层叠板、以及柔性印刷基板和电子设备。铜箔,其以质量率计包含99.90%以上的铜、且厚度为3~8μm,按照JIS‑B0601(2013),从沿着TD方向的50mm长度L的表面2的截面曲线S中,在轮廓曲线滤波器λc=2mm、轮廓曲线滤波器λf=25mm的条件下截去短波长和长波长成分从而求出波纹度曲线时,波纹度曲线单元的平均长度Wsm为2.5~20.0mm。
粗糙化处理铜箔、带载体铜箔、覆铜层叠板及印刷电路板.pdf
提供为适于细线电路形成的低粗糙度的粗糙化处理铜箔、并且该粗糙化处理铜箔在用于SAP法时能对层叠体赋予不仅对化学镀铜的蚀刻性及干膜分辨率优异、而且电路密合性也优异的表面轮廓。本发明的粗糙化处理铜箔在至少一侧具有粗糙化处理面,粗糙化处理面是具备多个具有收缩部分的一次粗糙化颗粒而成的,一次粗糙化颗粒在包含收缩部分的表面具有多个比一次粗糙化颗粒小的二次粗糙化颗粒,收缩部分的二次粗糙化颗粒的个数除以收缩部分的表面积所得的值即二次粗糙化颗粒密度为9~30个/μm
表面处理铜箔、带载体铜箔、以及使用它们的覆铜层叠板及印刷电路板的制造方法.pdf
提供在用于SAP法时可将不仅是镀覆电路密合性而且对化学镀铜的蚀刻性、及干膜分辨率也优异的表面轮廓赋予层叠体的表面处理铜箔。该表面处理铜箔在至少一侧具有处理表面。处理表面依据ISO25178所测定的峰顶点的算术平均曲率Spc为55mm
表面处理铜箔、覆铜层叠板及印刷电路板的制造方法.pdf
本发明提供与树脂的密合性、耐化学药品性及耐热性优异、并且蚀刻残渣不易残留、由此在印刷电路板的制造中可提高铜箔‑基材间以及基材‑基材间这两者的密合可靠性的表面处理铜箔。该表面处理铜箔具备:铜箔和设置于铜箔的至少一面的Zn‑Ni‑Mo层,所述Zn‑Ni‑Mo层的Zn附着量为3mg/m
粗糙化处理铜箔、带载体铜箔、覆铜层叠板及印刷电路板.pdf
提供一种在用于SAP法时能对层叠体赋予不仅镀覆电路密合性、而且对化学镀铜的蚀刻性及干膜分辨率也优异的表面轮廓的粗糙化处理铜箔。本发明的粗糙化处理铜箔为在至少一侧具有粗糙化处理面的粗糙化处理铜箔,粗糙化处理面具备由铜颗粒形成的多个大致球状突起,大致球状突起的平均高度为2.60μm以下、并且大致球状突起的平均最大直径b