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用于铜/钼膜层的蚀刻液及其应用.pdf
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诗文****仙女
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用于铜/钼膜层的蚀刻液及其应用.pdf
本发明属于液晶面板加工技术领域，尤其公开了一种用于铜/钼膜层的蚀刻液，其包括以下按质量百分数均匀混合的成分：0.1％～40％的氧化剂、0.1％～5％的无机酸、0.1％～30％的有机酸、0.001％～5％的蚀刻稳定剂以及0.1％～5％的螯合剂。根据本发明的蚀刻液是一种无氟蚀刻液，其对环境友好，不会造成玻璃等材料的基板及IGZO等特殊材料的损伤。另外，根据本发明的蚀刻液可调节铜/钼膜层的蚀刻速度，使其成为具有适当锥角的蚀刻轮廓，并控制相应的CDLoss下保证没有Mo残留，尤其适用于Mo层厚度较大的情况。本发
2023-09-01
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本发明属于液晶面板加工技术领域，尤其公开了一种用于铜/钼膜层的蚀刻液，其包括以下按质量百分数均匀混合的成分：15％～20％的氧化剂、15％～20％的酸性缓冲液、5％～10％的蚀刻调节剂、1％～3％的蚀刻抑制剂、以及3％～8％的螯合剂。在该蚀刻液中，蚀刻抑制剂是一种无氟蚀刻抑制剂，从而，本发明的无氟蚀刻液对环境友好，不会造成玻璃等材料的基板及IGZO等特殊材料的损伤。另外，根据本发明的蚀刻液可调节铜/钼膜层的蚀刻速度，使其成为具有适当锥角的蚀刻轮廓，并控制相应的CDLoss下保证没有Mo残留。本发明还提供
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2023-11-19
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