用于导出校正的方法和设备、用于确定结构性质的方法和设备、器件制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109690410A(43)申请公布日2019.04.26(21)申请号201780055481.8W·M·J·M·科内PD范福尔斯特(22)申请日2017.08.21··D·阿克布鲁特S·罗伊(30)优先权数据(74)专利代理机构北京市金62/393,5332016.09.12US杜律师事务所62/440,0552016.12.29US11256代理人王茂华董典红(85)PCT国际申请进入国家阶段日2019.03.08(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/EP2017/0709902017.08.21(87)PCT国际申请的公布数据WO2018/046284EN2018.03.15(71)申请人ASML荷兰有限公司地址荷兰维德霍温(72)发明人N·库马尔A·J·H·薛乐肯S·T·范德波斯特F·兹杰普权利要求书3页说明书27页附图10页(54)发明名称用于导出校正的方法和设备、用于确定结构性质的方法和设备、器件制造方法(57)摘要光学系统传送照射辐射并收集在与衬底上的目标结构的相互作用之后的辐射。测量强度轮廓被用来计算结构的性质的测量。光学系统可以包括固体浸没透镜。在校准方法中，控制光学系统以使用第一照射轮廓来获得第一强度轮廓，并使用第二照射轮廓来获得第二强度轮廓。轮廓被用来导出用于减轻重影反射影响的校正。使用例如不同取向的半月形照射轮廓，该方法甚至在SIL将引起全内反射的情况下也可以测量重影反射。光学系统可以包括污染物检测系统，以基于所接收的散射检测辐射来控制移动。光学系统可以包括具有介电涂层的光学组件，以增强渐逝波相互作用。CN109690410ACN109690410A权利要求书1/3页1.一种导出用于光学系统的校正的方法，所述光学系统可操作用于将照射辐射传送到目标结构并收集在与所述目标结构的相互作用之后的辐射，所述方法包括：获得第一强度轮廓，所述第一强度轮廓表示在根据第一照射轮廓照射所述光学系统的光瞳时由所述光学系统收集的辐射；获得第二强度轮廓，所述第二强度轮廓表示在根据不同于所述第一照射轮廓的第二照射轮廓照射所述光学系统的所述光瞳时由所述光学系统收集的辐射；以及使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓来导出校正，与和目标结构的相互作用相反，所述校正用于减轻所述照射辐射与所述光学系统的相互作用的影响。2.根据权利要求1所述的方法，其中，使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓来导出所述校正是使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓的不同部分来合成表示所述照射辐射与所述光学系统的相互作用的影响的强度轮廓。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓中的每一个轮廓表示所述光学系统的后焦平面中的辐射的轮廓，并且其中使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓来导出所述校正是使用与所述后焦平面的不同区域相对应的所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓的部分。4.根据权利要求1所述的方法，其中，获得另一强度轮廓，所述另一强度轮廓表示在根据不同于所述第一照射轮廓和所述第二照射轮廓的另一照射轮廓照射所述光学系统的所述光瞳时由所述光学系统收集的辐射，所述使用所述第一照射轮廓和所述第二照射轮廓来导出所述校正是使用所述第一强度轮廓、所述第二强度轮廓和所述另一强度轮廓来导出所述校正。5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学系统包括固体浸没透镜和安装件，所述安装件可操作用于将所述固体浸没透镜保持在距所述目标结构一定距离内，所述距离小于所述照射辐射的波长。6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一照射轮廓和所述第二照射轮廓表示在所述距离内没有目标结构的情况下收集的辐射。7.根据权利要求1所述的方法，还包括：获得第三强度轮廓，所述第三强度轮廓表示在与所述光学系统和参考结构相互作用之后由所述光学系统收集的辐射；以及使用所述第三强度轮廓来导出进一步的校正。8.根据权利要求7所述的方法，进一步地，其中，所述光学系统包括固体浸没透镜和安装件，所述安装件可操作用于将所述固体浸没透镜保持在距所述目标结构一定距离内，所述距离小于所述照射辐射的波长，并且还包括获得第四强度轮廓，所述第四强度轮廓表示在不存在SIL的情况下与所述光学系统和所述参考结构的相互作用之后由所述光学系统收集的辐射，并且使用所述第三强度轮廓和所述第四强度轮廓二者来导出所述进一步的校正。9.根据权利要求7所述的方法，还包括：获得参考强度轮廓，所述参考强度轮廓表示所述照射辐射在与所述光学系统和目标结构的相互作用之前的特性，其中使用所述第三强度轮廓来导出进一步的校正是使用所述参考强度轮廓来导出所述进一步的校正。10.根据权利要求1所述的方法，其中，在所