沉积装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113631751A(43)申请公布日2021.11.09(21)申请号202080023713.3(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限(22)申请日2020.01.21公司11127代理人孙东喜徐福德(30)优先权数据10-2019-00338872019.03.25KR(51)Int.Cl.C23C14/24(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C23C14/56(2006.01)2021.09.23(86)PCT国际申请的申请数据PCT/KR2020/0009922020.01.21(87)PCT国际申请的公布数据WO2020/197068KO2020.10.01(71)申请人LG电子株式会社地址韩国首尔(72)发明人文炳竣金宣基崔虔熏曹永秀权利要求书2页说明书7页附图5页(54)发明名称沉积装置(57)摘要本发明的目的是提供一种沉积装置，其能够最小化用于加热坩埚的热量到达衬底的情况，并且还能够有效地缓解堵塞。该沉积装置包括：坩埚；布置在坩埚外部以加热坩埚的加热器部分；用于将从沉积原料蒸发的沉积材料供应到沉积进行制品的多个喷嘴；以及布置在加热器部分外部的冷却部分，并且该沉积装置还可以包括屏蔽部分、热电模块和喷嘴块中的至少一者。CN113631751ACN113631751A权利要求书1/2页1.一种沉积装置，所述沉积装置包括：坩埚，其中容纳有沉积原料；加热器，所述加热器设置在所述坩埚外部以加热所述坩埚；多个喷嘴，所述多个喷嘴被配置为将从所述沉积原料蒸发的沉积材料供应到沉积靶；冷却器，所述冷却器设置在所述加热器外部；以及屏蔽件，所述屏蔽件具有由所述多个喷嘴加热的高温部分和通过连接器连接到所述高温部分并支撑在所述冷却器上的低温部分。2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，在所述屏蔽件内部形成有供制冷剂流动的制冷剂空间。3.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，所述屏蔽件是板式热管，并且其中，至少一个板式热管设置在所述冷却器的上表面上。4.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，所述屏蔽件具有长方体或圆柱形状，并且具有形成在其中心的沉积材料通道。5.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，所述屏蔽件是蒸汽室。6.根据权利要求1所述的沉积装置，所述沉积装置还包括设置在所述冷却器和所述屏蔽件之间的热电模块。7.根据权利要求6所述的沉积装置，其中，在所述冷却器的上表面中形成有设置有所述热电模块的至少一个凹槽，并且其中，所述屏蔽件由所述冷却器和所述热电模块中的至少一者支撑。8.根据权利要求6所述的沉积装置，所述沉积装置还包括温度传感器，所述温度传感器被配置为检测所述高温部分的温度，其中，当所述高温部分的温度等于或大于预定参考温度时，所述热电模块运行。9.根据权利要求6所述的沉积装置，其中，所述热电模块包括：吸热部分，所述吸热部分与所述低温部分接触；散热部分，所述散热部分与所述冷却器接触；以及热电元件，所述热电元件连接到所述吸热部分和所述散热部分。10.根据权利要求9所述的沉积装置，其中，所述热电元件包括低温区域和高温区域，并且其中，根据施加到所述热电元件的电压来确定所述低温区域和所述高温区域之间的温度差。11.根据权利要求1所述的沉积装置，所述沉积装置还包括多个喷嘴通道和喷嘴块，所述多个喷嘴通过所述多个喷嘴通道，所述喷嘴块中形成有供工作流体流动的空间。12.根据权利要求11所述的沉积装置，其中，所述喷嘴块安装在所述多个喷嘴周围，并且包括与所述坩埚的上表面热接触的蒸发部分和与所述多个喷嘴热接触的冷凝部分。13.根据权利要求12所述的沉积装置，其中，通过联接所述蒸发部分和所述冷凝部分，在所述喷嘴块中形成有供流体流动的流动空间。14.根据权利要求13所述的沉积装置，其中，在所述流动空间中形成有引导件，所述引导件沿竖直方向延伸以引导流体在所述蒸发部分和所述冷凝部分之间循环。2CN113631751A权利要求书2/2页15.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，所述加热器包括：加热器单元，所述加热器单元被配置为散发热量以加热所述坩埚；以及加热器框架，所述加热器单元安装在所述加热器框架中，其中，所述加热器框架包括用于反射从所述加热器单元散发的热量的反射器。3CN113631751A说明书1/7页沉积装置技术领域[0001]本公开涉及一种沉积装置，更具体地，涉及一种用于将沉积材料沉积在沉积靶上的沉积装置。背景技术[0002]沉积是在诸如金属或玻璃的物体的表面上喷射气态颗粒以形成薄膜的方法。[0003]近来，随着用于诸如TV或移动电话的电子装置的有机发光二极管(OLED)显示面板的使用增加，对用于OLED显示面板的装置和工艺的研究活跃。特别地，制造OLED显示面