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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113454262A(43)申请公布日2021.09.28(21)申请号202080005997.3(74)专利代理机构北京德琦知识产权代理有限(22)申请日2020.12.22公司11018代理人崔今花周艳玲(30)优先权数据2020-0118302020.01.28JP(51)Int.Cl.C23C14/30(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C23C14/06(2006.01)2021.04.30C23C14/08(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据C23C14/54(2006.01)PCT/JP2020/0479302020.12.22C23C14/56(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据WO2021/153104JA2021.08.05(71)申请人株式会社爱发科地址日本神奈川县(72)发明人宜保学江平大坂本纯一权利要求书2页说明书21页附图5页(54)发明名称沉积源及沉积装置(57)摘要本发明的沉积源在真空中被电子束加热,使沉积材料蒸发或升华,在移动的基板的表面上通过共沉积形成包含锂的化合物膜,所述沉积源包括:具备冷却部的炉缸内衬;以及收纳在所述炉缸内衬中且内部被放入所述沉积材料的多个内衬。CN113454262ACN113454262A权利要求书1/2页1.一种沉积源,在真空中被电子束加热,使沉积材料蒸发或升华,在移动的基板的表面上通过共沉积形成包含锂的化合物膜,所述沉积源包括:具备冷却部的炉缸内衬;以及收纳在所述炉缸内衬中且内部被放入所述沉积材料的多个内衬。2.根据权利要求1所述的沉积源,其中,多个所述内衬中的每一个具有与作为相邻的内衬或所述炉缸内衬的周围部件相对置的壁部,所述内衬以在加热状态下所述壁部与所述周围部件接触且在非加热状态下带着间隙与所述周围部件隔开的方式配置在所述炉缸内衬的内部。3.根据权利要求2所述的沉积源,其中,多个所述内衬中的每一个在俯视中呈矩形形状,多个所述内衬在与所述基板的移动方向正交的方向上相邻并配置在所述炉缸内衬的内部。4.根据权利要求3所述的沉积源,其中,形成多个所述内衬中的每一个的材质是在加热状态下不与所述沉积材料发生反应的材质。5.根据权利要求4所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,将锂作为所述沉积材料放入的内衬由钽构造。6.根据权利要求4所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,放入不包含锂的所述沉积材料的内衬由铜构造。7.根据权利要求4所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,放入包含锂的所述沉积材料的内衬由钽构造。8.根据权利要求4所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,放入包含锂的所述沉积材料的内衬由铜构造。9.根据权利要求2至8中的任一项所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,由铜构造的内衬配置在所述炉缸内衬的内部,在非加热状态下,所述间隙的尺寸与所述内衬的外形尺寸之比设定为0.0007~0.00839的范围。10.根据权利要求2至8中的任一项所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,由钽构造的内衬配置在所述炉缸内衬的内部,在非加热状态下,所述间隙的尺寸与所述内衬的外形尺寸之比设定为0.0007~0.0032的范围。11.根据权利要求2至8中的任一项所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,由铜构造的五个内衬配置在所述炉缸内衬的内部,在非加热状态下,在所述内衬的排列方向上的所述内衬的所述间隙的尺寸之和与所述内衬的外形尺寸之和之比设定为0.0035~0.042的范围。12.根据权利要求2至8中的任一项所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,由铜构造的三个内衬及由钽构造的两个内衬配置在所述炉缸内衬的内部,在非加热状态下,在所述内衬的排列方向上,所述间隙的尺寸之和与所述内衬的外形2CN113454262A权利要求书2/2页尺寸之和之比设定为0.0035~0.0316的范围。13.根据权利要求2至8中的任一项所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,由铜构造的两个内衬及由钽构造的三个内衬配置在所述炉缸内衬的内部,在非加热状态下,在所述内衬的排列方向上,所述间隙的尺寸之和与所述内衬的外形尺寸之和之比设定为0.0035~0.0264的范围。14.根据权利要求2至8中的任一项所述的沉积源,其中,在多个所述内衬之中,由钽构造的五个内衬配置在所述炉缸内衬的内部,在非加热状态下,在所述内衬的排列方向上,所述间隙的尺寸之和与所述内衬的外形尺寸之和之比设定为0.0035~0.016的范围。15.一种沉积装置,包括:能够在真空内移动基板的腔室;使所述基板移动的基板移动部;权利要求1至14中的任一项所述的沉积源;以及对所述沉积源照射电子束的电子束源。3CN113454262A说明书