

沉积源及沉积装置.pdf
一条****丹淑
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相关资料
沉积源及沉积装置.pdf
本发明的沉积源在真空中被电子束加热,使沉积材料蒸发或升华,在移动的基板的表面上通过共沉积形成包含锂的化合物膜,所述沉积源包括:具备冷却部的炉缸内衬;以及收纳在所述炉缸内衬中且内部被放入所述沉积材料的多个内衬。
沉积装置及沉积方法.pdf
本发明提供能够以规定的涂覆组成和速度连续涂覆的装置及方法,作为一个实施例,本发明提供一种沉积装置,其为在基板上涂覆2种以上的化合物或元素的沉积装置,包括:供应单元,将所述2种以上的化合物或元素以多个固体形式供应;加热单元,使从所述供应单元供应的固体熔融并蒸发,以形成蒸气;缓冲单元,与所述加热单元连接,并且所述蒸气停留在其中并,与之前生成的蒸气混合;以及喷嘴,与所述缓冲单元连接,并朝向基板形成开口。
沉积装置.pdf
本发明的目的是提供一种沉积装置,其能够最小化用于加热坩埚的热量到达衬底的情况,并且还能够有效地缓解堵塞。该沉积装置包括:坩埚;布置在坩埚外部以加热坩埚的加热器部分;用于将从沉积原料蒸发的沉积材料供应到沉积进行制品的多个喷嘴;以及布置在加热器部分外部的冷却部分,并且该沉积装置还可以包括屏蔽部分、热电模块和喷嘴块中的至少一者。
沉积装置.pdf
一种沉积装置,包括:外炉管;位于外炉管内的内炉管,所述内炉管的底部固定于所述外炉管的底部,所述内炉管的顶部为开口,且所述内炉管的顶部与所述外炉管的顶部不接触;位于所述内炉管内底部的基座;固定于所述基座表面的若干重叠设置的晶舟;自所述外炉管外部伸入所述内炉管内部的送气管道,所述送气管道自所述内炉管的底部向所述内炉管的顶部延伸;固定设置于所述内炉管的侧壁的固定装置,用于固定所述自内炉管底部向顶部延伸的送气管道;位于所述外炉管与内炉管之间的排气管道。所述沉积装置能够避免因此送气管道内的气体瞬间流速过快而产生歪倒
薄膜沉积方法以及薄膜沉积装置.pdf
本申请涉及一种薄膜沉积方法以及薄膜沉积装置。薄膜沉积方法包括:将基片放入炉管内,炉管包括用于放置基片的第一区段,第一区段具有反应气体的进气口;在第一预设时间内,将对第一区段进行加热的第一加热模块从第一初始温度加热至第一预设温度,第一加热模块包围第一区段;在第二预设时间内,保持第一加热模块持续处于第一预设温度;在第三预设时间内,将反应气体由进气口通入炉管内,且将第一加热模块由第一预设温度升温至第二预设温度,以于放置于第一区段的基片表面形成目标薄膜。本申请可以通过升温过程中的基片边缘与中央的升温速率差异,平衡