掩膜组件及其制造方法、目标结构的制造方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113690396A(43)申请公布日2021.11.23(21)申请号202110984184.X(22)申请日2021.08.25(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人毕娜关新兴(74)专利代理机构北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138代理人杨广宇(51)Int.Cl.H01L51/56(2006.01)C23C14/24(2006.01)C23C14/04(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图12页(54)发明名称掩膜组件及其制造方法、目标结构的制造方法、显示装置(57)摘要本申请公开一种掩膜组件及其制造方法、目标结构的制造方法、显示装置，属于显示技术领域。掩膜组件包括：至少一个蒸镀掩膜板。蒸镀掩膜板中具有多个蒸镀孔，该掩膜组件中的每个蒸镀孔用于在目标基板的一个目标区域中形成目标结构。该掩膜组件中的蒸镀孔的孔间距被配置为：使该掩膜组件和目标基板均处于目标环境中时，该掩膜组件中的蒸镀孔与目标基板中相应的目标区域对准，该目标环境的温度为目标温度。例如，目标结构为阴极。本申请可以保证在目标环境中采用该掩膜组件在目标基板上形成目标结构时，目标结构能够准确形成在目标基板的目标区域中，避免目标结构与目标区域发生错位。CN113690396ACN113690396A权利要求书1/2页1.一种掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括：至少一个蒸镀掩膜板；所述蒸镀掩膜板中具有多个蒸镀孔，所述掩膜组件中的每个蒸镀孔用于在目标基板的一个目标区域中形成目标结构；所述掩膜组件中的蒸镀孔的孔间距被配置为：使所述掩膜组件和所述目标基板均处于目标环境中时，所述掩膜组件中的蒸镀孔与所述目标基板中相应的目标区域对准，所述目标环境的温度为目标温度。2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，在每个所述蒸镀掩膜板中，按照从所述掩膜组件的中心到所述掩膜组件的边缘的方向排布的蒸镀孔的孔间距依次增大。3.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，在每个所述蒸镀掩膜板中，按照从所述掩膜组件的中心到所述掩膜组件的边缘的方向排布的蒸镀孔的孔间距与预设间距的差值按比例增大。4.根据权利要求2或3所述的掩膜组件，其特征在于，所述蒸镀掩膜板中具有多个掩膜区域，所述多个掩膜区域对称分布在所述蒸镀掩膜板的第一轴线的两侧，所述掩膜区域中的蒸镀孔的孔间距按照第一方向依次增大，所述第一方向为从靠近所述第一轴线到远离所述第一轴线的方向；所述至少一个蒸镀掩膜板为多个蒸镀掩膜板，所述多个蒸镀掩膜板对称分布在所述掩膜组件的第二轴线的两侧，位于所述第二轴线同一侧的蒸镀掩膜板中的蒸镀孔的孔间距按照第二方向依次增大，所述第二方向为从靠近所述第二轴线到远离所述第二轴线的方向。5.根据权利要求1至4任一项所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件还包括：支撑掩膜板；所述支撑掩膜板中具有多个开口区域，所述至少一个蒸镀掩膜板中的每个蒸镀掩膜板中具有至少一个掩膜区域；所述至少一个蒸镀掩膜板层叠在所述支撑掩膜板上，所述支撑掩膜板的开口区域与所述至少一个蒸镀掩膜板的掩膜区域一一对应，所述开口区域的形状和尺寸与对应的所述掩膜区域的形状和尺寸均匹配。6.根据权利要求5所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件还包括：掩膜框架；所述支撑掩膜板和所述蒸镀掩膜板设置在所述掩膜框架上。7.一种掩膜组件的制造方法，其特征在于，所述方法包括：制造至少一个蒸镀掩膜板，所述蒸镀掩膜板中具有多个蒸镀孔；根据所述至少一个蒸镀掩膜板获得所述掩膜组件，所述掩膜组件中的每个蒸镀孔用于在目标基板的一个目标区域中形成目标结构，所述掩膜组件中的蒸镀孔的孔间距被配置为：使所述掩膜组件和所述目标基板均处于目标环境中时，所述掩膜组件中的蒸镀孔与所述目标基板中相应的目标区域对准，所述目标环境的温度为目标温度。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述蒸镀掩膜板中具有多个掩膜区域，所述多个掩膜区域对称分布在所述蒸镀掩膜板的第一轴线的两侧，所述掩膜区域中沿第一方向排布的蒸镀孔的孔间距相等，沿第二方向排布的蒸镀孔的孔间距依次增大，所述第一方向为从靠近所述第一轴线到远离所述第一轴2CN113690396A权利要求书2/2页线的方向，所述第二方向与所述第一方向相交，所述根据所述至少一个蒸镀掩膜板获得所述掩膜组件，包括：对于所述至少一个蒸镀掩膜板中的每个蒸镀掩膜板，沿所述第一方向对所述蒸镀掩膜板进行过张拉伸，使所述蒸镀掩膜板的每个掩膜区域中的蒸镀孔的孔间距按照所述第一方向依次增大；根据过张拉伸后的所述至少一个蒸镀掩膜板获得所述掩膜组件。9.一种目标结构的制造方法，其特征在于，所述方法包括：提供目标基板，所述目标基板中具