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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113015821A(43)申请公布日2021.06.22(21)申请号202080002236.2(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所(22)申请日2020.09.1011105代理人彭久云(66)本国优先权数据PCT/CN2019/1057132019.09.12CN(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日H05B33/10(2006.01)2020.10.09(86)PCT国际申请的申请数据PCT/CN2020/1145942020.09.10(87)PCT国际申请的公布数据WO2021/047610ZH2021.03.18(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司(72)发明人嵇凤丽(54)发明名称掩膜装置及其制造方法、蒸镀方法、显示装置(57)摘要一种掩膜装置及其制造方法、蒸镀方法、显示装置。该掩膜装置包括:掩膜边框;沿第一方向延伸的至少一个第一掩膜条和沿第二方向延伸的至少一个第二掩膜条,固定在掩膜边框上;以及沿第一方向延伸的第一掩膜板,固定在掩膜边框上。第一掩膜条和第二掩膜条彼此交叉限定至少一个掩膜开口,第一掩膜板包括掩膜图案区,掩膜图案区包括阵列排布的多个孔。掩膜图案区包括第一区域和对应于第一区域的第二区域,第二区域包围第一区域,第一区域中的每个孔均为通孔,第二区域中的每个孔为通孔或盲孔。掩膜开口在第一掩膜板上的正投影至少覆盖掩膜图案区中的第一区域,第一掩膜条和第二掩膜条在第一掩膜板上的正投影至少部分覆盖掩膜图案区中的第二区域。CN113015821A