钌系溅镀靶材及其制造方法.pdf
绮兰****文章
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钌系溅镀靶材及其制造方法.pdf
本发明的目的在于提供一种Ru系溅镀靶材及其制造方法,该Ru系溅镀靶材无空隙、纯度高、且组织的各向异性程度低,能够成膜具有低粒子性、高膜厚均匀性及高面均匀性的Ru系膜。本发明的钌系溅镀靶材是具有铸造组织的钌系溅镀靶材,所述溅镀靶材的溅镀面具有至少2种以上的区域,所述区域中由X射线绕射的主峰所特定出的结晶面互不相同。
溅镀靶、透明导电膜及其制造方法,以及触控面板.pdf
本发明公开一种溅镀靶,其特征在于,为掺杂杂原子之氧化锌铝所成的溅镀靶,其中所述杂原子为第2族元素、第5族元素、第10族元素或上述之组合,且所述杂原子之掺杂比例为0.5重量%至20重量%。采用本发明之溅镀靶,具有成本低、电阻温度系数高的优点。本发明亦提供使用此溅镀靶在基板上沉积形成薄膜之方法及使用此溅镀靶所制得之触控面板。
靶材组件及其制造方法.pdf
一种靶材组件的制造方法,包括以下步骤:提供靶材与背板;对所述靶材的焊接面进行加工,在所述靶材焊接面的中心区域加工出第一焊接平面,并在所述第一焊接平面的周围加工出第二焊接平面,其中,所述第一焊接平面相对第二焊接平面凸出;对所述背板的焊接面进行加工,使所述背板的厚度从中心向四周逐渐减小;将所述靶材、背板焊接在一起;去除部分靶材和部分背板材料,以形成靶材组件。本发明还提供一种靶材组件,包括靶材以及背板,所述靶材的焊接面嵌入所述背板的焊接面中。本发明提供的方法进一步排出了靶材、背板之间的残留气体,提高了靶材成品率
一种钌及钌合金靶材的加工方法.pdf
本发明公开了一种钌及钌合金靶材的加工方法,包括:提供钌及钌合金靶材坯料;对所述的钌及钌合金靶材坯料进行车削,所述车削采用HRC大于70的刀具,所述车削时加工的转速为50-200转/分钟,所述车削时的进刀量为0.1-0.5mm;对车削后的钌及钌合金靶材进行磨削,所述磨削时的进刀量0.005-0.02mm,所述磨削加工时砂轮的线速度为20-45米/秒;对磨削后的靶材进行超声清洗。本发明提供的钌及钌合金靶材的加工方法,减少了崩边、掉块等现象的发生,减少了应力层、避免了微裂纹的产生,使靶材的表面粗糙度较低,同时具
一种钛靶材及其制造方法.pdf
本发明涉及一种用于真空溅射镀膜的钛靶材及其制造方法,钛靶材含有Au、Cu,按质量百分比计合金组成为:0.03%>Au>0.01%、0.1%>Cu>0.07%,Fe<0.05%、0<0.04%、N<0.015%,余量为Ti。其制造方法是采用粒度在-300目至-400目的AuCu20合金粉未和1/2英寸的小规格海绵钛种钛混合后,采用电子轰击炉进行电子束冷床熔炼提纯后制成钛锭,通过机械加工方法将钛锭制成所需规格尺寸的钛靶材,采用本发明的钛靶材所制成的镀膜颜色呈金黄色,且比常规镀膜具有耐磨性强、附着力强的特点,从