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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113924383A(43)申请公布日2022.01.11(21)申请号202080038853.8(74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限(22)申请日2020.06.10责任公司11287代理人林彦(30)优先权数据2019-1229962019.07.01JP(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2021.11.25(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2020/0228292020.06.10(87)PCT国际申请的公布数据WO2021/002167JA2021.01.07(71)申请人株式会社古屋金属地址日本东京(72)发明人丸子智弘荒川等大友将平鈴木雄权利要求书2页说明书11页附图5页(54)发明名称钌系溅镀靶材及其制造方法(57)摘要本发明的目的在于提供一种Ru系溅镀靶材及其制造方法,该Ru系溅镀靶材无空隙、纯度高、且组织的各向异性程度低,能够成膜具有低粒子性、高膜厚均匀性及高面均匀性的Ru系膜。本发明的钌系溅镀靶材是具有铸造组织的钌系溅镀靶材,所述溅镀靶材的溅镀面具有至少2种以上的区域,所述区域中由X射线绕射的主峰所特定出的结晶面互不相同。CN113924383ACN113924383A权利要求书1/2页1.一种钌系溅镀靶材,其特征在于:具有铸造组织,且所述溅镀靶材的溅镀面具有至少2种以上的区域,所述区域中由X射线绕射的主峰所特定出的结晶面互不相同。2.根据权利要求1所述的钌系溅镀靶材,其特征在于:所述溅镀靶材的侧面具有至少2种以上的区域,所述区域中由X射线绕射的主峰所特定出的结晶面互不相同。3.根据权利要求1或2所述的钌系溅镀靶材,其特征在于:在(条件1)或(条件2)下,由所述溅镀靶材的溅镀面方向或靶材厚度方向上的X射线绕射所产生的第2峰与第3峰的相对积分强度的合计比主峰的相对积分强度多的部位有40%以上;(条件1)溅镀面方向:所述溅镀靶材是中心为O、半径为r的圆板状靶材,且X射线绕射的测定部位设定成在以中心O为交点而正交的假想十字线上,总计9处,其中1处是中心O,距离中心O为0.45r的合计4处,以及距离中心O为0.9r的合计4处;靶材厚度方向:形成穿过假想十字线中任一条线的截面,该截面是纵为t(即靶材的厚度为t)、横为2r的长方形,且关于X射线绕射的测定部位,设以下总计9处作为测定地点,其中,穿过中心O的垂直横截线上的中心X、及距离中心X上下0.45t的合计3处(称为a地点、X地点、b地点),在所述截面上从a地点向左右侧边相隔0.9r的合计2处,从X地点向左右侧边相隔0.9r的合计2处,及从b地点向左右侧边相隔0.9r的合计2处;(条件2)溅镀面方向:所述溅镀靶材是纵向长度为L1、横向长度为L2的长方形(其中,包含L1与L2相等的正方形,或长方形中包含将长度为J、周长为K的圆筒形的侧面展开而成的长方形,在该形态中,L2与长度J对应,L1与周长K对应,关于长度J与周长K,J>K、J=K或J<K的关系是成立的),且当X射线绕射的测定部位是在以重心O为交点而正交的假想十字线上,且假想十字线正交于长方形的边时,总计9处,其中1处是重心O,在假想十字线上,在纵向上与重心O相隔距离为0.25L1的合计2处,在横向上与重心O相隔距离为0.25L2的合计2处,在纵向上与重心O相隔距离为0.45L1的合计2处,及在横向上与重心O相隔距离为0.45L2的合计2处;靶材厚度方向:形成穿过假想十字线中与纵L1及横L2的任一边平行的线的截面,在一边是横L2的情况下,该截面是纵为t(即所述靶材的厚度为t)、横为L2的长方形,且关于X射线绕射的测定部位,设以下总计9处作为测定地点,其中,穿过重心O的垂直横截线上的中心X及距离中心X上下0.45t的合计3处(称为a地点、X地点、b地点),在所述截面上从a地点向左右侧边相隔0.45L2的合计2处,从X地点向左右侧边相隔0.45L2的合计2处,及从b地点向左右侧边相隔0.45L2的合计2处。4.根据权利要求3所述的钌系溅镀靶材,其特征在于:在(条件1)或(条件2)下,由所述溅镀靶材的溅镀面方向或靶材厚度方向上的X射线绕射所产生的第2峰、第3峰及第4峰的相对积分强度的合计比主峰的相对积分强度多的部位有75%以上。5.根据权利要求3或4所述的钌系溅镀靶材,其特征在于:在(条件1)或(条件2)下,通过所述溅镀靶材的溅镀面方向或靶材厚度方向上的X射线绕射,(002)成为相对积分强度主峰的测定部位数量与(101)成为相对积分强度主峰的测定部位数量的比[(101)/(002)],是在20/100~70/100的范围内。6.根据权利要求3至5中任一项所述的钌系溅镀