溅镀靶、透明导电膜及其制造方法,以及触控面板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CN104630723A(43)申请公布日(43)申请公布日2015.05.20(21)申请号201310571124.0(22)申请日2013.11.13(71)申请人宸鸿科技（厦门）有限公司地址361009福建省厦门市厦门火炬高新区信息光电园坂尚路199号(72)发明人戈卡尔普·贝拉默戈鲁朱浚斈杨贵宝王燕儒(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C23C14/08(2006.01)C23C14/58(2006.01)H01B5/14(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图5页(54)发明名称溅镀靶、透明导电膜及其制造方法，以及触控面板(57)摘要本发明公开一种溅镀靶，其特征在于，为掺杂杂原子之氧化锌铝所成的溅镀靶，其中所述杂原子为第2族元素、第5族元素、第10族元素或上述之组合，且所述杂原子之掺杂比例为0.5重量%至20重量%。采用本发明之溅镀靶，具有成本低、电阻温度系数高的优点。本发明亦提供使用此溅镀靶在基板上沉积形成薄膜之方法及使用此溅镀靶所制得之触控面板。CN104630723ACN104630723A权利要求书1/2页1.一种溅镀靶，其特征在于，为掺杂杂原子之氧化锌铝所成的溅镀靶，其中所述杂原子为第2族元素、第5族元素、第10族元素或上述之组合，且所述杂原子之掺杂比例为0.5重量%至20重量%。2.根据权利要求1所述之溅镀靶，其特征在于，所述杂原子为铍、镁、钙、锶、钡、钒、铌、钽、镍、钯、铂或上述之组合。3.一种透明导电膜，其特征在于，为使用根据权利要求1或2所述之溅镀靶所制得者。4.根据权利要求3所述之透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜的厚度为50nm至2000nm。5.根据权利要求3所述之透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜之透光率大于80％。6.根据权利要求3所述之透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜在-30℃至70℃的温度区间内之平均电阻温度系数的绝对值为0.5%/K至3%/K。7.根据权利要求3所述之透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜在20℃至40℃的电阻变化速率大于5％/秒。8.一种透明导电膜的制造方法，其特征在于，使用根据权利要求1或2所述之溅镀靶，并在一基板上沉积形成薄膜。9.根据权利要求8所述之透明导电膜的制造方法，其特征在于，还包括升温该基板至20℃至400℃。10.根据权利要求8所述之透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述沉积步骤是在真空度小于10-2帕下进行。11.根据权利要求8所述之透明导电膜的制造方法，其特征在于，还包含一退火步骤。12.根据权利要求11所述之透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述退火步骤之温度为300℃至600℃。13.根据权利要求11所述之透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述退火步骤之退火时间为30分钟至5小时。14.根据权利要求8所述之透明导电膜的制造方法，其特征在于，还包含一淬火步骤。15.一种触控面板，其特征在于，包括：一基板；一感测层，为使用根据权利要求1或2所述之溅镀靶沉积于该基板上并经蚀刻所制得者；以及复数条导线，设于所述基板上，且电性连接所述感测层。16.根据权利要求15所述之触控面板，其特征在于，更包括一保护层，设于所述感测层上。17.根据权利要求15所述之触控面板，其特征在于，所述基板为刚性基板或可挠式基板。18.根据权利要求15所述之触控面板，其特征在于，所述感测层包括复数个彼此间隔排列的感测单元。19.根据权利要求18所述之触控面板，其特征在于，所述感测单元的形状为菱形、正六边形、正方形、圆形、矩形或上述之组合。2CN104630723A权利要求书2/2页20.根据权利要求18所述之触控面板，其特征在于，每一所述感测单元包括一第一端及一第二端，其中所述第一端及所述第二端分别与相对应的所述导线电性连接。3CN104630723A说明书1/6页溅镀靶、透明导电膜及其制造方法，以及触控面板技术领域[0001]本发明涉及一种溅镀材料，尤其涉及一种溅镀靶，还涉及使用所述溅镀靶成膜的透明导电膜及其制造方法，以及具有所述溅镀靶所制成之感测层的触控面板。背景技术[0002]触控面板(TouchPanel)已大量运用于消费、通讯、计算机等电子产品上，例如目前广泛使用的游戏机、智能手机、平板计算机等，作为众多电子产品的输入接口。这些电子产品的显示部分一般都是由触控面板与显示面板整合而成，可供使用者用手指或触控笔依照显示画面上的功能选项点选输入所要执行的动作，藉此可在无需其它传统类型的输入设备(如，按钮、键盘、或操作杆)操作下进行输入，大幅提高了输入的便利性。[0003]目前常采用的触控面板大多以氧化铟锡(IndiumTinOxide，IT