半导体存储器件和操作半导体存储器件的方法.pdf
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相关资料
半导体存储器件和操作半导体存储器件的方法.pdf
一种半导体存储器件包括存储单元阵列、纠错码(ECC)电路、故障地址寄存器、清理控制电路和控制逻辑电路。所述存储单元阵列包括多个存储单元行。所述清理控制电路基于对所述存储单元阵列执行的刷新操作产生清理地址。所述控制逻辑电路控制所述ECC电路,使得所述ECC电路对第一存储单元行中的多个子页面执行错误检测操作,以对错误发生数目进行计数,并基于所述错误发生数目判定是否纠正在其中检测到错误的码字。回写未纠正的码字或纠正后的码字,并且基于所述错误发生数目,可以将所述第一存储单元行的行地址作为行故障地址存储在所述故障地
半导体存储器件及其操作方法.pdf
本申请公开了半导体存储器件及其操作方法。半导体存储器件包括:多个存储块,其包括多个字线;多个感测放大电路,每个感测放大电路由多个存储块之中的相邻存储块共享;刷新计数器,其适于产生计数地址,所述计数地址的值根据刷新命令而增加;地址储存电路,其适于通过在不同时间对激活地址进行采样来储存第一目标地址和第二目标地址;以及控制电路,其适于根据所述刷新命令来激活与所述计数地址和所述第一目标地址中的一个相对应的字线,以及根据激活命令来激活与所述激活地址和所述第二目标地址中的一个或多个相对应的至少一个字线。
半导体存储器件及其制造方法.pdf
一种半导体存储器件包括第一半导体芯片和第二半导体芯片。第一半导体芯片和第二半导体芯片中的每个半导体芯片可以包括单元阵列区域和外围电路区域。单元阵列区域可以包括电极结构和竖直结构,该电极结构包括顺序地堆叠在体导电层上的电极,该竖直结构延伸穿过电极结构并连接到体导电层。外围电路区域可以包括体导电层上的残留衬底,并且外围晶体管位于该残留衬底上。第二半导体芯片的体导电层的底表面可以面向第一半导体芯片的体导电层的底表面。
半导体存储器件的制作方法.pdf
本发明公开了一种半导体存储器件的制作方法,通过在介电层上形成第一图案,所述第一图案与第一通孔在所述基底厚度方向上的投影重合;在第二介质层上形成第二图案,第二图案暴露出外围电路区上的部分第二介质层,所述第二图案与第二通孔在所述基底厚度方向上的投影错开;然后,刻蚀第二介质层,保留第一图案侧壁和第二图案下方的第二介质层;接着,去除所述第一图案;最后,刻蚀介电层,直至暴露第一介质层,在介电层中形成用于定义位线位置的第一开口和第二开口,第一开口露出第一通孔,第二开口露出第二通孔。本发明通过调整刻蚀工艺的顺序,优化整
半导体器件、其制备方法及半导体存储装置.pdf
本公开实施例公开了半导体器件、其制备方法及半导体存储装置,包括:半导体衬底,多个字线沟槽,字线结构;字线沟槽包括第一字线沟槽和第二字线沟槽;第一字线沟槽在半导体衬底的正投影位于浅沟道隔离区位于半导体衬底的正投影内;第二字线沟槽在半导体衬底的正投影位于有源区在半导体衬底的正投影内;字线结构包括相互连接的第一字线结构部和第二字线结构部;第一字线结构部形成于第一字线沟槽中,第二字线结构部形成于第二字线沟槽中;其中,一字线结构部具有避让区域,避让区域的顶面与第二字线结构部的顶面齐平,并且避让区域中具有绝缘物质。