掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107390402A(43)申请公布日2017.11.24(21)申请号201710801197.2(22)申请日2017.09.07(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司(72)发明人王伟郝明迁曹振洋(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243代理人许静张博(51)Int.Cl.G02F1/13(2006.01)G02F1/1335(2006.01)G03F1/32(2012.01)权利要求书1页说明书5页附图3页(54)发明名称掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置(57)摘要本发明提供了一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。彩膜基板的制作方法包括：在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用如上所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光，显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。通过本发明的技术方案能够防止液晶显示面板的边缘位置出现漏光。CN107390402ACN107390402A权利要求书1/1页1.一种掩膜板，用于制作彩膜基板上的彩色滤光单元，其特征在于，所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形。3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述部分透光图形的透光率为25-40％。4.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用如权利要求1-3中任一项所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光，显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形，所述方法还包括：显影后去除黑矩阵区域和封装区域的彩色负性光阻材料。6.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，所述第一掩膜板包括对应第一子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第二掩膜板包括对应第二子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第三掩膜板包括对应第三子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述方法具体包括：在衬底基板上涂布第一颜色的负性光阻材料，利用所述第一掩膜板对所述第一颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第一子像素区域的第一颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第一颜色的负性光阻材料；在衬底基板上涂布第二颜色的负性光阻材料，利用所述第二掩膜板对所述第二颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第二子像素区域的第二颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第二颜色的负性光阻材料；在衬底基板上涂布第三颜色的负性光阻材料，利用所述第三掩膜板对所述第三颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第三子像素区域的第三颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第三颜色的负性光阻材料。7.一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区域和位于像素区域周边的虚拟像素区，其特征在于，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度与所述像素区域的彩色滤光单元的厚度的差值小于预设阈值。8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度等于所述像素区域的彩色滤光单元的厚度。9.一种液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求7或8所述的彩膜基板。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的液晶显示面板。2CN107390402A说明书1/5页掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是指一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置。背景技术[0002]现有技术在制作液晶显示面板的彩膜基板时，是在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用掩膜板对彩色负性光阻材料进行曝光，制作彩膜基板的掩膜板包括对应像素区域的透光图形，显影后像素区域的彩色负性光阻材料得以保留形成彩色滤光单元。[0003]其中，制作彩膜基板的掩膜板还包括对应像素区域周边的虚拟像素区的透光图形，这样在每一次曝光显影过程中，虚拟像素区的彩色负性光阻材料都会被保留下来，经过三次曝光显影工艺之后，虚拟像素区的膜厚会比像素区域的膜厚大很多，形成像素区域膜厚低，虚拟像素区膜厚高的