载板填孔工艺的填充基材选型方法及载板填孔工艺.pdf
冬易****娘子
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载板填孔工艺的填充基材选型方法及载板填孔工艺.pdf
本发明公开一种载板填孔工艺的填充基材选型方法及载板填孔工艺,其中的填充基材选型方法,包括以下步骤:(1)确定载板上通孔或盲孔的尺寸及所需性能情况;(2)选择合适的填充基材类型;(3)选择填充基材的粒径大小;其中,填充基材的粒径大小选择如下:(a)小粒填充,D=0.001~0.2d(b)串式填充,D=0.5d~2d(c)单粒整体填充,D=0.5(1.5d2h)0.5~2(1.5d2h)0.5;其中,上述式中D为填充料的直径,d为载板上通孔或盲孔的直径,h为载板上通孔或盲孔的深度。本发明的填充基材选型方法,为
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本发明公开一种基于金属压印的载板填孔工艺,包括以下步骤:(1)对待填孔的载板表面进行预处理,使载板表面与金属不具有结合力;(2)将填充基材覆盖在载板表面;(3)对填充基材施加垂直于载板表面的下压力,使得填充基材发生形变并压入载板上的通孔或盲孔中;(4)对载板和覆盖在载板表面的填充基材进行分离处理,去除载板表面的填充基材,并让载板上通孔或盲孔中的金属仍然保留在内部,完成载板的填孔加工。本发明实现载板的快速填孔,以便实现通孔、盲孔的互连结构,并且填充效果好,有利于提高通孔、盲孔的导电、导热性能。
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用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液.pdf
本发明公开了一种用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液,电镀铜溶液包括以下浓度的组分:五水硫酸铜:150‑200g/L;硫酸(98%):40‑80g/L;氯离子:30‑70mg/L;光亮剂:0.5‑4mg/L;润湿剂:200‑500mg/L;整平剂:5‑30mg/L;新添加剂:30‑100mg/L;去离子水:余量;将上述的组分按照浓度混合后形成该电镀铜溶液,该电镀铜溶液电镀时先将电镀槽用Dummy片电解至2AH/L,再用电流密度在1‑3A/dm
PCB芯板电镀填孔工艺.pdf
一种PCB芯板电镀填孔工艺,其包括以下步骤:(1)制作至少两非对称芯板,所述每一非对称芯板包括半固化片、第一铜箔及第二铜箔,第一铜箔的厚度小于第二铜箔的厚度,第一铜箔和第二铜箔分别压合于半固化片的相反两面;(2)减铜棕化处理;(3)钻孔;(4)水膜固定,将所述两非对称芯板上具有第二铜箔的一面通过水膜吸附的方式面对面粘合,使得每一非对称芯板的第一铜箔均朝外设置;(5)电镀沉铜,将固定在一起的非对称芯板固定在一PCB板电镀夹具上,该PCB板电镀夹具设有一电镀口,电镀时,对两块非对称芯板上的第一铜箔进行电镀,使