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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107761050A(43)申请公布日2018.03.06(21)申请号201610695391.2(22)申请日2016.08.19(71)申请人合肥欣奕华智能机器有限公司地址230013安徽省合肥市新站区龙子湖路与荆山路交口西南(72)发明人李浩永金甲锡裴泳镇丁熙荣(74)专利代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司11291代理人黄志华(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图6页(54)发明名称一种掩膜板清洗系统(57)摘要本发明公开了一种掩膜板清洗系统,利用等离子体真空清洗腔替换了现有的掩膜板清洗系统中的NMP溶液和KOH溶液对掩膜板表面的残留物进行清洗,等离子体可以去除掩膜板表面的有机物并活化无机物,以便在后续的湿式清洗腔中被去除。由于不在使用NMP溶液和KOH溶液进行清洗,从而抑制污染环境的物质排放,可以通过减少废水处理而节省成本;并且在采用干式的等离子体真空清洗代替部分湿式清洗后,也省去了为了避免清洗液之间相互污染而设置冲洗室的必要,因此,可以减少清洗系统所占用的空间,提高运营效率。CN107761050ACN107761050A权利要求书1/1页1.一种掩膜板清洗系统,其特征在于,包括级联设置的以下腔室:用于采用等离子体清洗掩膜板表面的残留物的等离子体真空清洗腔;用于采用清洗液去除所述掩膜板表面的残留物的湿式清洗腔;以及,用于去除所述掩膜板表面的水分的烘干腔。2.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述等离子体真空清洗腔通过阀门与抽真空泵浦连接;在所述等离子体真空清洗腔内设置有:相对而置的上部电极和下部电极,掩膜板支撑部,以及与流量控制器连接的气体注入部;其中,所述掩膜板支撑部用于将所述掩膜板固定于所述下部电极之上;所述上部电极用于加载电压与所述下部电极产生电场后,电离所述气体注入部注入的气体产生等离子体。3.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述上部电极为平板状;所述气体注入部设置在所述上部电极的侧边;或,所述上部电极面向所述下部电极的一面具有多个排气孔,所述气体注入部为所述排气孔。4.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述气体注入部注入的气体为O2、Ar、N2、Ar和O2的混合气体、或Ar和N2的混合气体。5.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,在所述上部电极加载电压时,所述下部电极处于悬空状态或接地状态。6.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述上部电极加载的电压为50-300KHz或13.56MHz。7.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述等离子体真空清洗腔内还设置有:用于分析腔内残留气体的模块。8.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述等离子体真空清洗腔内还设置有:用于测量等离子体光谱的发射光谱测量模块。9.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述湿式清洗腔内设置有用于在所述湿式清洗腔内移动所述掩膜板的滚轮部件;或,所述湿式清洗腔内设置有用于带动所述掩膜板浸泡在所述湿式清洗腔内的挟持部件。10.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述湿式清洗腔内设置有超声波发生装置。11.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述烘干腔内设置有风刀模块。12.如权利要求1-11任一项所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,还包括:设置于所述等离子体真空清洗腔与所述湿式清洗腔之间的掩膜板旋转腔,用于将所述掩膜板从水平状态旋转至竖直状态。13.如权利要求12所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,还包括:设置于所述掩膜板旋转腔与所述湿式清洗腔之间的用于采用有机清洗液清洗掩膜板的有机物清洗腔,用于采用无机清洗液清洗掩膜板的无机物清洗腔。2CN107761050A说明书1/6页一种掩膜板清洗系统技术领域[0001]本发明涉及显示制造技术领域,尤其涉及一种掩膜板清洗系统。背景技术[0002]有机发光二极管(OLED,OrganicLight-EmittingDiode)是分别从阳极注入空穴(Hole)和从阴极注入电子(Electron)后在有机薄膜层形成p-n结后发光的器件,其响应速度比液晶显示面板(TFT-LCD)快1000倍以上;且OLED由于是自发光系统,因此不需要背光源,不仅可以将重量减少到TFT-LCD的三分之一,OLED还可以利用薄膜及塑料基板的柔韧性形成柔性显示面板,并且其视角可以达到180度,功耗低(低消耗电力),明暗比率大,可实现高画质的彩色再现性。因此,OLED作为新一代显示而备受瞩目。[0003]在制作OLED时,需要在面板的特定位置蒸镀上负责发光的有