一种掩膜板清洗系统.pdf
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相关资料
一种掩膜板清洗系统.pdf
本发明公开了一种掩膜板清洗系统,利用等离子体真空清洗腔替换了现有的掩膜板清洗系统中的NMP溶液和KOH溶液对掩膜板表面的残留物进行清洗,等离子体可以去除掩膜板表面的有机物并活化无机物,以便在后续的湿式清洗腔中被去除。由于不在使用NMP溶液和KOH溶液进行清洗,从而抑制污染环境的物质排放,可以通过减少废水处理而节省成本;并且在采用干式的等离子体真空清洗代替部分湿式清洗后,也省去了为了避免清洗液之间相互污染而设置冲洗室的必要,因此,可以减少清洗系统所占用的空间,提高运营效率。
一种掩膜板的清洗方法及清洗装置.pdf
本发明公开了一种掩膜板的清洗方法及清洗装置,该方法包括以下步骤:将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超音波浸泡清洗,将浸泡清洗后的掩膜板采用所述有机清洗剂进行超音波摇动清洗,将超音波摇动清洗后的掩膜板放入电解液中进行电解处理以及超音波纯水清洗;其中,所述有机清洗剂由以下原料按重量百分比组成:环己酮45‑65%,甲苯0.5‑10%,二丙酮醇2‑15%,丙酮20‑50%。本发明有机清洗剂不会破坏掩膜板的尺寸和而且具有重复使用性,效果得到相关生产厂商的高度认可。对比目前市售有机清洗剂,电解处理步骤前只有一种溶剂
一种掩膜板以及利用掩膜板构图的方法.pdf
本发明提供了一种掩膜板以及利用掩膜板构图的方法,涉及显示技术领域,解决了现有技术中无法制作大尺寸彩膜基板的问题。一种掩膜板,包括至少一个掩膜单元组,每一个所述掩膜单元组为一排,包括位于一端的一个第一掩膜单元,位于另一端的一个第二掩膜单元,以及位于两端之间的至少一个第三掩膜单元;每一所述掩膜单元设置有掩膜图案;每一所述掩膜单元的掩膜图案在靠近其相邻的掩膜单元的一边,在掩膜图案轮廓下包括多个微小图案和空隙,且相邻的两个掩膜单元的掩膜图案在相互靠近的两边上的微小图案和空隙相吻合。本发明适用于液晶显示装置的制造领
一种掩膜板.pdf
本发明涉及一种掩膜板。本发明的掩膜板包括:框架、至少一个掩膜条以及至少一个支撑组件。本发明通过在框架上设置支撑组件,利用支撑组件支撑掩膜条弯曲的位置,减少掩膜条与玻璃基板之间的间距,从而达到改善产品阴影的效果,提升产品品质及性能。本发明的支撑组件内设有转筒,转筒上设有限位槽,第一凹槽的侧壁上设有限位块,可以对支撑杆进行角度调节与固定;本发明的支撑杆为伸缩杆,可以对支撑杆的长度进行调节;由此可以根据不同生产型号调整支撑组件的设置位置,调节支撑杆对掩膜条的支撑点,无需持续性资金投入。
掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板.pdf
本发明涉及一种掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板,掩膜装置包括掩膜组件和掩膜框架,所述掩膜组件包括一掩膜板和一遮挡件;所述掩膜板的边沿与所述掩膜框架连接;所述掩膜板上均匀开设有若干通孔所述遮挡件开设有若干通口;所述遮挡件抵接于所述掩膜板,各所述通口分别对齐于所述掩膜板上的部分所述通孔,所述遮挡件挡设于所述掩膜板上的剩余部分所述通孔。掩膜板无需根据不同显示区设置不同的预留区,只需整体进行蚀刻,减少了蚀刻工序,降低了工艺复杂度,掩膜板整体均匀开设通孔,使得掩膜板的各部分的力学性能趋于一致,有效减少形变,能够同时蒸镀