一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112501592A(43)申请公布日2021.03.16(21)申请号202011544020.7(22)申请日2020.12.24(71)申请人光驰科技（上海）有限公司地址200444上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号(72)发明人谢雄星刘新柱戴秀海王德智赵磊(74)专利代理机构上海申蒙商标专利代理有限公司31214代理人周宇凡(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)C23C16/52(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图4页(54)发明名称一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法(57)摘要本发明涉及一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法，通过对控制原子层沉积镀膜设备成膜工艺的工艺文件进行制作实现灵活工艺控制，包括如下步骤：通过工艺文本文件方式记录工艺信息，工艺信息可通过修改工艺文本文件内的自定义文本进行调整；通过编译器对工艺文本文件进行编译，将包含工艺信息的工艺文本文件转换为符合控制器程序定义的规则文件；通过控制器识别处理规则文件并以此对原子层沉积镀膜设备的工作状态进行控制，使其以规则文件内所包含的工艺信息进行执行。本发明的优点是：工艺人员直接修改工艺文件，无需修改控制程序，杜绝沟通过程中产生的错误隐患，省去控制程序设计及测试时间，提升工艺开发效率。CN112501592ACN112501592A权利要求书1/1页1.一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法，其特征在于：该实现方法通过对控制原子层沉积镀膜设备成膜工艺的工艺文件进行制作实现灵活工艺控制，包括如下步骤：通过工艺文本文件方式记录工艺信息，所述工艺信息可通过修改工艺文本文件内的自定义文本进行调整；通过编译器对所述工艺文本文件进行编译，将包含所述工艺信息的所述工艺文本文件转换为符合控制器程序定义的规则文件；通过控制器识别处理所述规则文件并以此对所述原子层沉积镀膜设备的工作状态进行控制，使其以所述规则文件内所包含的所述工艺信息进行执行。2.根据权利要求1所述的一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法，其特征在于：所述编译器包含工艺文本文件内的工艺名称、对应的控制器内变量地址，以及工艺名称允许设定的上下限值以及工艺时长计算程序；其中，所述工艺文本文件内的工艺名称以及工艺内名称允许设定的上下限值可修改，所述工艺时长计算程序。3.根据权利要求2所述的一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法，其特征在于：所述编译器以Excel为表现形式，VB为内部编程语言。4.根据权利要求1所述的一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法，其特征在于：所述控制器为PLC控制器，所述编译器对所述工艺文本文件进行编译并将其转换为可供所述PLC控制器所识别处理的规则文件。5.根据权利要求4所述的一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法，其特征在于：在所述PLC控制器的控制程序内预留多个变量地址，当所述PLC控制器识别处理所述规则文件时，将所述规则文件内的工艺信息进行拆分，并存放在对应的各所述变量地址中。6.根据权利要求1所述的一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法，其特征在于：所述工艺信息包括工艺流程以及工艺参数。2CN112501592A说明书1/6页一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法技术领域[0001]本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法。背景技术[0002]原子层沉积是一种特殊的化学气相沉积技术，是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体，在基底上化学吸附并发生反应，形成沉积膜的一种方法。[0003]原子层沉积设备主要由前驱体供应系统、载气系统、成膜腔体、抽气系统、加热系统组成。如图1所示，源1、源2、源3为前驱体，进行原子层沉积工艺时，在稳定的温度，压力等环境下，利用其自限制表面化学反应的特性，先将源1的前驱体通入成膜腔体中。然后进行吹扫，将多余前驱体吹扫干净，再通入源2的前驱体，源2前驱体与源1前驱体进行化学反应，形成一层薄膜。[0004]通常一个薄膜制程工艺会有成百上千的层数。以往的工艺文件的表现方式多是以表格的形式，每一层便是表格中的一行甚至更多行，这将导致工艺文件表格中的行数过多，编辑困难。[0005]通常在原子层沉积工艺中，除开阀门的开始，流量计的设定，各个加热器温度以及参数的设定，还有很多其他的参数需要设定。以往的工艺文件的表现方式多是以表格的形式，每一个参数便是表格中的一列，这将导致工艺文件表格中的列数过多，编辑困难。[0006]通常在原子层沉积工艺中，尤其是工艺开发过程中，存在诸多的不确定因素。前驱体通入的顺序不确定，阀门开关顺序不确定