用于原子层沉积（ALD）的设备和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN114008241A
(43)申请公布日2022.02.01

(21)申请号CN202080045852.6

(22)申请日2020.04.24

(71)申请人BENEQ有限公司
地址芬兰埃斯波

(72)发明人M·马里拉P·索恩宁

(74)专利代理机构11587北京汇知杰知识产权代理有限公司

代理人吴焕芳;杨勇

(51)Int.CI
C23C16/458(20060101)
C23C16/455(20060101)
H01L21/687(20060101)
H01L21/02(20060101)
H01L21/314(20060101)

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

用于原子层沉积（ALD）的设备和
方法

(57)摘要
本发明涉及用于根据原子层沉积

(ALD)原理以批处理方式处理一个或多个
基材的设备(1)和方法。设备(1)包括反应室
(2)、用于关闭反应室(2)的室板(3)、马达
(9)以及连接至所述马达(9)的致动器臂机构
(5)，所述马达(9)被布置成使室板(3)在打开
位置和关闭位置之间移动，在所述打开位
置中反应室(2)是打开的，在所述关闭位置
中反应室(2)被关闭。致动器臂机构(5)具有

三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)，该三
个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)具有连接
至室板(3)的远端，三个或更多个致动器臂

(5a、5b、5c)的远端限定在室板(3)上的平
面。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

2022-02-01公开国际专利申请公布

实质审查的生效IPC(主分
类):C23C16/458专利申请
2022-02-22实质审查的生效
号:2020800458526申请

日:20200424
著录事项变更IPC(主分
类):C23C16/458专利申请
号:2020800458526变更事项:申

2022-09-30请人变更前:BENEQ有限公司变更著录事项变更
后:BENEQ集团有限公司变更事
项:地址变更前:芬兰埃斯波变更

后:芬兰埃斯波
专利申请权的转移IPC(主分
类):C23C16/458专利申请
号:2020800458526登记生效
日:20230427变更事项:申请人变

更前权利人:BENEQ有限公司变更
后权利人:青岛四方思锐智能技术专利申请权、专利权
2023-05-09
有限公司变更事项:地址变更前权的转移
利人:芬兰埃斯波变更后权利人:
山东省青岛市中国(山东)自由贸
易试验区青岛片区前湾保税港区
北京路45号东办公楼二楼205-

5-7室(A)

权利要求说明书

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说明书

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