

蒸发镀膜装置及获得其源炉的工作温度的方法.pdf
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相关资料
蒸发镀膜装置及获得其源炉的工作温度的方法.pdf
一种蒸发镀膜装置,包括:进样室;镀膜工艺室,与进样室真空相连,镀膜工艺室包括提供铜、铟、镓或硒蒸气的源炉、薄膜生长过程中固定衬底的样片台、加热源炉和衬底的加热装置;称重室,与镀膜工艺室真空相连,用于分别称量所述衬底的重量、制备有铜、铟、镓或硒薄膜的衬底的重量;出样室,与镀膜工艺室真空相连;及衬底传输系统,用于将衬底在进样室、镀膜工艺室、称重室及出样室之间传递。该蒸发镀膜装置设置了称重室,镀膜和称重都是在真空状态下进行,避免了普通称重法中因衬底和膜层的吸湿性以及膜层在空气中发生化学反应带来的误差,获得的束流
一种蒸发炉及双面镀膜装置.pdf
本发明涉及一种蒸发炉,包括炉体和蒸发坩埚,蒸发坩埚设置在炉体内,炉体的顶面密闭,在炉体内设有加热丝,在炉体的底面设有炉体开孔,在蒸发坩埚的底面也设有与炉体开孔同轴的坩埚通孔,坩埚通孔位于待蒸镀部件上方,在蒸发坩埚内设有盛装蒸镀材料的坩埚容腔,位于坩埚容腔内的蒸镀材料的蒸发气体通过坩埚通孔和炉体开孔后向下沉积到部件表面并蒸镀沉积成所需要的镀层。本发明还公开一种使用该蒸发炉的双面镀膜装置。本发明对现有的单面镀膜装置进行改造就可以实现双面镀膜,占用体积小,制造成本低。
蒸发镀膜装置及镀膜系统.pdf
本申请涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及一种蒸发镀膜装置及镀膜系统,一种蒸发镀膜装置包括镀膜室、抽真空机构和支撑架;所述抽真空机构用于对所述镀膜室抽真空,所述支撑架设置在所述镀膜室的底部,且用于支撑所述镀膜室;所述抽真空装置包括机械泵、罗茨泵和低温泵;所述机械泵至少设置有两个,至少两个所述机械泵与所述罗茨泵连通,所述罗茨泵的另一端与所述镀膜室连通,所述低温泵至少设置有两个,所述低温泵直接与所述镀膜室连通。本申请以机械泵和罗茨泵构成低真空获得系统,以低温泵为高真空获得系统,从而使占地面积小、结构更加紧凑;除此
一种镀膜遮挡装置及包含其的镀膜装置.pdf
本发明提供了一种镀膜遮挡装置,包括:驱动部、固定板、镀膜板、支撑板、挡板和滑动结构;第一支撑板和第二支撑板分别设置在固定板的两侧;两个支撑板之间设置有导向杆;镀膜板设置在固定板上,并设置有滑槽和用于放置待加工件的开孔;滑动结构包括滑块和连接杆;导向杆间隔设置在支撑板之间;滑块滑动设置在导向杆上,并与驱动部连接;连接杆的一端与滑块连接,另一端穿过滑槽与镀膜板连接;挡板在驱动部的作用下,沿滑槽前后移动以挡住或露出待加工件。本发明还提供一种包含该遮挡装置的镀膜装置。本发明能够精确控制镀膜精度和缩短制备时间。
翻转装置、其操作方法及包括其的共蒸发设备.pdf
本发明提供了一种翻转装置、其操作方法及包括其的共蒸发设备。该翻转装置,用于翻转工件,工件包括承载基板和玻璃基板,承载基板包括多个基板定位柱,且玻璃基板通过基板定位柱固定在承载基板上,其特征在于,翻转装置包括:翻转台和设置于翻转台上方的翻转机构,且翻转机构包括由多个吸盘组成的吸盘组;顶起装置,包括设置于翻转台上的支撑架和位于支撑架上的顶针组,顶针组包括多个顶针,且顶针组中顶针的位置与吸盘组中吸盘的位置一一对应;检测装置,设置于翻转台上,且检测装置用于测量玻璃基板的各位置与翻转台之间的距离。采用翻转装置能够降