一种蒸发炉及双面镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111424239A(43)申请公布日2020.07.17(21)申请号202010288248.8(22)申请日2020.04.14(71)申请人杭州纤纳光电科技有限公司地址311121浙江省杭州市余杭区仓前街道龙潭路7号B幢209室(72)发明人不公告发明人(74)专利代理机构杭州奥创知识产权代理有限公司33272代理人杨文华(51)Int.Cl.C23C14/24(2006.01)C23C14/26(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图4页(54)发明名称一种蒸发炉及双面镀膜装置(57)摘要本发明涉及一种蒸发炉，包括炉体和蒸发坩埚，蒸发坩埚设置在炉体内，炉体的顶面密闭，在炉体内设有加热丝，在炉体的底面设有炉体开孔，在蒸发坩埚的底面也设有与炉体开孔同轴的坩埚通孔，坩埚通孔位于待蒸镀部件上方，在蒸发坩埚内设有盛装蒸镀材料的坩埚容腔，位于坩埚容腔内的蒸镀材料的蒸发气体通过坩埚通孔和炉体开孔后向下沉积到部件表面并蒸镀沉积成所需要的镀层。本发明还公开一种使用该蒸发炉的双面镀膜装置。本发明对现有的单面镀膜装置进行改造就可以实现双面镀膜，占用体积小，制造成本低。CN111424239ACN111424239A权利要求书1/1页1.一种蒸发炉，其特征在于，包括炉体和蒸发坩埚，蒸发坩埚设置在炉体内，炉体的顶面密闭，在炉体内设有加热丝，在炉体的底面设有炉体开孔，在蒸发坩埚的底面也设有与炉体开孔同轴的坩埚通孔，坩埚通孔位于待蒸镀部件上方，在蒸发坩埚内设有盛装蒸镀材料的坩埚容腔，位于坩埚容腔内的蒸镀材料的蒸发气体通过坩埚通孔和炉体开孔后向下沉积到部件表面并蒸镀沉积成所需要的镀层。2.如权利要求1所述的一种蒸发炉，其特征在于，在坩埚容腔内设有对蒸镀材料进行搅拌的搅拌装置。3.如权利要求1所述的一种蒸发炉，其特征在于，所述搅拌装置包括磁力控制系统和由多个磁力座和弹簧圈组成的磁力旋转座，弹簧圈套接在磁力座的外缘，在每个磁力座底部设置安装孔，在安装孔的底部设置有磁铁，对应地在蒸发坩埚上设置凸起的磁力棒，磁力座通过安装孔活动地套接在磁力棒上，在磁力棒底部所对应的炉体内设置磁力柱，磁力控制系统通过磁力柱变换磁力棒的极性，以驱动磁力旋转座绕其所在的磁力棒转动。4.如权利要求3所述的一种蒸发炉，其特征在于，在蒸发坩埚底部所处位置的炉体上设置可开启和闭合的源炉底盖，炉体开孔设置在源炉底盖上。5.如权利要求3所述的一种蒸发炉，其特征在于，炉体外壁的材料为不锈钢，磁力座的材料氮化锆，弹簧圈的材料为不锈钢。6.如权利要求1所述的一种蒸发炉，其特征在于，在蒸发坩埚的外周缘设置外螺纹，在与其对应的炉体上设置与外螺纹配合的内螺纹。7.如权利要求1所述的一种蒸发炉，其特征在于，在坩埚通孔处设置多孔金属过滤层。8.一种双面镀膜装置，其特征在于，其使用了如权利要求1至7中任意一项所述的蒸发炉。9.如权利要求8所述的一种双面镀膜装置，其特征在于，所述蒸发炉位于待蒸镀部件的上方，与位于待蒸镀部件下方的另一蒸发装置一起同时对待蒸镀部件的上下两面进行镀膜。10.如权利要求8所述的一种双面镀膜装置，其特征在于，所述蒸发炉与蒸发装置位于同一蒸镀腔室内。2CN111424239A说明书1/3页一种蒸发炉及双面镀膜装置技术领域[0001]本发明属于蒸发镀膜技术领域，特别涉及一种蒸发炉及双面镀膜装置。背景技术[0002]现有的蒸发镀膜常用单面镀膜方式，在需要双面镀膜的场合，需要增加复杂的换面设备才能进行双面镀膜，势必增加设备占地面积和提高制造成本。发明内容[0003]本发明所要解决的技术问题在于，提供一种结构简单的蒸发炉及双面镀膜装置，在现有单面镀膜装置上进行改造就可以实现双面镀膜，占用体积小，制造成本低。[0004]本发明是这样实现的，提供一种蒸发炉，包括炉体和蒸发坩埚，蒸发坩埚设置在炉体内，炉体的顶面密闭，在炉体内设有加热丝，在炉体的底面设有炉体开孔，在蒸发坩埚的底面也设有与炉体开孔同轴的坩埚通孔，坩埚通孔位于待蒸镀部件上方，在蒸发坩埚内设有盛装蒸镀材料的坩埚容腔，位于坩埚容腔内的蒸镀材料的蒸发气体通过坩埚通孔和炉体开孔后向下沉积到部件表面并蒸镀沉积成所需要的镀层。[0005]进一步地，在坩埚容腔内设有对蒸镀材料进行搅拌的搅拌装置。[0006]进一步地，所述搅拌装置包括磁力控制系统和由多个磁力座和弹簧圈组成的磁力旋转座，弹簧圈套接在磁力座的外缘，在每个磁力座底部设置安装孔，在安装孔的底部设置有磁铁，对应地在蒸发坩埚上设置凸起的磁力棒，磁力座通过安装孔活动地套接在磁力棒上，在磁力棒底部所对应的炉体内设置磁力柱，磁力控制系统通过磁力柱变换磁力棒的极性，以驱动磁力旋转座绕其所在的磁力棒转动。[0007]进一步地，在