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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102936013A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102936013A(43)申请公布日2013.02.20(21)申请号201210469519.5(22)申请日2012.11.19(71)申请人中国恩菲工程技术有限公司地址100038北京市海淀区复兴路12号(72)发明人严大洲肖荣晖毋克力汤传斌汪绍芬姚心(74)专利代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201代理人宋合成(51)Int.Cl.C01B33/035(2006.01)权利要求书权利要求书2页2页说明书说明书66页页附图附图22页(54)发明名称多晶硅还原炉(57)摘要本发明公开了一种多晶硅还原炉,包括:底盘和炉体,所述炉体连接在所述底盘上且在所述炉体与所述底盘之间限定出反应腔室;三十对电极,所述三十对电极设在所述底盘上且分别分布在第一至第五圈上,所述第一至第五圈为以所述底盘中心为中心且由内向外依次增大的五个同心正六边形;进气系统,所述进气系统包括设在所述底盘中部的多个喷嘴;和排气系统,所述排气系统包括多个排气口,所述排气口设在所述底盘上且位于所述第五圈与所述底盘的之间。根据本发明实施例的多晶硅还原炉,可以合理利用热能,同时也可以避免炉体内侧壁带走过多热量,可以降低热量损耗。CN102936ACN102936013A权利要求书1/2页1.一种多晶硅还原炉,其特征在于,包括:底盘和炉体,所述炉体连接在所述底盘上且在所述炉体与所述底盘之间限定出反应腔室;三十对电极,所述三十对电极设在所述底盘上且分别分布在第一至第五圈上,所述第一至第五圈为以所述底盘中心为中心且由内向外依次增大的五个同心正六边形;进气系统,所述进气系统包括设在所述底盘中部的多个喷嘴;和排气系统,所述排气系统包括多个排气口,所述排气口设在所述底盘上且位于所述第五圈与所述底盘的外周沿之间。2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,在所述第一圈的每条边上分布有一个电极,在所述第二圈的每条边上分布有一个电极,所述第一圈上的六个电极与所述第二圈上的六个电极一一对应以构成六对电极。3.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,在所述第三圈的每条边上分布有二个电极,在所述第四圈的每条边上分布有二个电极,所述第三圈上的十二个电极与所述第四圈上的十二个电极一一对应以构成十二对电极。4.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,在所述第五圈的每条边上分布有四个电极且第五圈上每相邻的两个电极构成一对电极以构成十二对电极。5.根据权利要求1-4中任一项所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述第一至第五圈的对应边彼此平行。6.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述多个喷嘴分别分布在所述底盘中心处、第四圈、第六圈和第七圈上,所述第六和第七圈为以所述底盘中心为中心且由内向外依次增大的二个同心正六边形,其中所述第六圈位于第一和第二圈之间,所述第七圈位于所述第三和第四圈之间。7.根据权利要求6所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述第一至第七圈的对应边彼此平行。8.根据权利要求6所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述多个喷嘴的数量为十九个,其中在所述第四圈上分布有六个喷嘴,在所述第六圈上分布有六个个喷嘴,在所述第七圈上分布有六个喷嘴,其中第四圈、第六圈和第七圈中的任一圈上的喷嘴与和其相邻的圈上的电极沿周向交错布置。9.根据权利要求8所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述底盘上形成有气体腔,所述十九个喷嘴分别与所述气体腔相连,所述进气系统还包括:进气环管,所述进气环管位于所述底盘下方且与外部气源相连通;六个进气管,所述六个进气管分别与所述进气环管和所述气体腔相连。10.根据权利要求9所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述底盘内形成有位于所述气体腔上面的第一冷却腔,且所述第一冷却腔具有第一冷却介质进口和多个第一冷却介质出口,所述第一冷却介质进口位于所述底盘的中央,而所述多个第一冷却介质出口与所述多个排气口一一对应设置,每个所述第一冷却介质出口连接有第一冷却管且每个所述排气口连接有尾气管,所述第一冷却管套设在所述尾气管上。11.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述多个排气口的数量为三至十二个且分布在以所述底盘的中心为圆心的一个圆周上。2CN102936013A权利要求书2/2页12.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述炉体内设有第二冷却腔且所述第二冷却腔连接有第二冷却介质进口和第二冷却介质出口,所述第二冷却介质进口位于所述炉体的底部且所述第二冷却介质出口位于所述炉体的顶部,所述第二冷却腔内设有多个隔流挡板,所述多个隔流挡板在所述第二冷却腔内由下至上绕所述反应腔室呈螺旋状分布。13.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉,其特征在于,所述