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多晶硅还原炉.pdf
2023-06-20
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是丹****ni
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还原炉底盘及多晶硅还原炉.pdf
本发明涉及多晶硅生产技术领域，尤其是涉及一种还原炉底盘及多晶硅还原炉。还原炉底盘包括底盘主体，底盘主体上安装有多圈电极组；底盘主体包括相对间隔设置的第一底盘、第二底盘和第三底盘，以及位于第二底盘和第一底盘之间的多个导流环板；第三底盘上开设有进气孔，用于向进气腔室内通气；导流环板形成环形的导流通道且导流通道的两端分别与进气腔室和还原炉相连通；多个导流环板呈同心间隔分布于任意相邻的两圈电极组之间。原料气体经由环形的导流通道均匀地进入到还原炉内，从而在一定程度上提高原料气体在还原炉内的流场分布及温度分布，原料气
2023-06-16
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用于多晶硅还原炉的底盘组件和多晶硅还原炉.pdf
本发明公开了一种用于多晶硅还原炉的底盘组件和多晶硅还原炉，用于多晶硅还原炉的底盘组件包括：底盘本体，底盘本体内限定有冷却腔；多个电极，多个电极设在底盘本体上且在底盘本体上排列成多圈，每圈电极等间距设置且中心位于底盘本体的中心轴线上；多个进气端管，多个进气端管设在底盘本体上且位于相邻圈电极之间以及底盘本体的中心处；多个出气端管，多个出气端管设在底盘本体上且位于最外圈电极与最内圈电极之间；至少一个进气管，每个进气管与至少一个进气端管相连。至少一个出气管，每个出气管与至少一个出气端管相连。根据本发明实施例的用于
2023-06-18
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多晶硅还原炉.pdf
本发明公开了一种多晶硅还原炉，包括：底盘和炉体，所述炉体连接在所述底盘上且在所述炉体与所述底盘之间限定出反应腔室；三十对电极，所述三十对电极设在所述底盘上且分别分布在第一至第六圈上，所述第一至第六圈为以所述底盘中心为中心且由内向外依次增大的六个同心正五边形；进气系统，所述进气系统包括设在所述底盘中部的多个喷嘴；和排气系统，所述排气系统包括多个排气口，所述排气口设在所述底盘上且位于所述第五圈与所述底盘的之间。根据本发明实施例的多晶硅还原炉，可以合理利用热能，同时也可以避免炉体内侧壁带走过多热量，可以降低热量
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多晶硅还原炉.pdf
本发明公开了一种多晶硅还原炉，包括炉体、底盘组件、进气系统和出气系统，底盘组件包括底盘本体、电极、进气端管和出气端管，炉体与底盘本体限定出反应腔，多个电极设在底盘本体上且为沉积载体硅芯提供安装基础，多个电极在底盘本体上排列成多圈，每圈电极等间距设置且中心位于底盘本体的中心轴线上，多圈电极沿底盘本体的径向间隔设置，多个进气端管设在底盘本体上且位于相邻圈电极之间以及底盘本体的中心处，多个出气端管设在底盘本体上且位于最外圈电极与最内圈电极之间；进气系统与多个进气端管相连；出气系统与多个出气端管相连。根据本发明的
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本发明实施例公开了一种多晶硅还原炉，包括炉体和底盘，所述底盘上具有多对均匀分布的电极，所述电极的排布呈蜂窝状，具体为：所述底盘中心具有六个电极，所述六个电极以所述底盘的中心为中心点呈正六边形排布，所述六个电极分别位于所述正六边形的六个顶点处；以所述正六边形为中心，其它电极向外排布，并且，最外层电极的连线近似为以所述底盘的中心为圆心的圆。本发明实施例提供的多晶硅还原炉，提高了多晶硅产品的质量，并且，通过扩展电极的对数，在保证产品质量的同时，还能够降低生产单位质量的多晶硅产品的能量消耗。
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