

刻蚀烘烤设备升降装置.pdf
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相关资料
刻蚀烘烤设备升降装置.pdf
本发明涉及一种刻蚀烘烤设备升降装置。该装置包括升降机构(1)和支承在升降机构(1)上的尾气收集器(2),该尾气收集器(2)随升降机构(1)在上限位置和下限位置之间升降。该装置还包括气缸组件(3),在升降机构(1)将尾气收集器(2)提升到上限位置时,使用气缸组件(3)进一步提升尾气收集器(2),以形成尾气收集器(2)与刻蚀烘烤设备的反应炉之间的密封。本发明的刻蚀烘烤设备升降装置在将尾气收集器顶靠在反应炉底座上之后,通过挤压反应炉底座上的O圈而将尾气收集器严实地密封在反应炉底座上,从而克服先前所述的反应炉密封
刻蚀烘烤设备的反应炉.pdf
本发明提供了一种刻蚀烘烤设备的反应炉,所述反应炉包括反应室组件、加热组件以及冷却组件,其中,所述反应室组件包括反应罩,所述反应罩上设有通气管,反应气体通过所述通气管输入到反应罩内部;所述加热组件包括红外灯管组件,所述红外灯管组件设置在所述反应罩外侧;所述冷却组件包围所述加热组件设置。采用根据发明的反应炉,可以使反应炉可以使反应腔内的温度稳定均匀、加热反应周期短,从而延长石墨盘的使用寿命。
用于晶圆刻蚀的升降装置.pdf
本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种用于晶圆刻蚀的升降装置。本发明所述的用于晶圆刻蚀的升降装置,其中包括升降杆、与所述升降杆固定连接的支撑件,所述升降杆和所述支撑件上均设有齿轮传动单元,所述支撑件上还设有用于支撑并能够使晶圆转动的导向单元,所述齿轮传动单元的输出端与所述导向单元的输入端传动连接,从而驱动所述导向单元完成对晶圆的转动。通过使用本发明所述的用于晶圆刻蚀的升降装置,能够将刻蚀过程中的晶圆进行转动,有效地对晶圆表面进行均匀的刻蚀,提高晶圆表面质量。
刻蚀烘烤设备及其操作方法.pdf
本发明涉及一种刻蚀烘烤设备及其操作方法,该设备包括:容纳需进行烘烤的物件的反应炉;位于反应炉下方并对物件进行升降的升降装置;在升降过程中对物件进行冷却的层流冷却装置;位于反应炉内部、包括循环风冷却系统和水冷却系统的第一冷却组件,循环风冷却系统构造成通入气流进行冷却,水冷却系统构造成通入冷却水进行冷却;换热器;鼓风机;以及位于反应炉外部的第二冷却组件,第二冷却组件包括将循环风冷却系统、换热器和鼓风机连接成通风回路的通风管道。本发明所提供的这种刻蚀烘烤设备具有优化的布局、紧凑的结构,不但可以改善MOCVD的外
烘烤设备的烘烤控制方法、控制装置、烘烤设备及多士炉.pdf
一种烘烤设备的烘烤控制方法、装置、烘烤设备及多士炉,烘烤控制方法包括步骤:获取被烘烤食品的被控档位信息;识别被烘烤食品的种类;判断被烘烤食品的种类是否属于预设颜色食品类型;若是,根据关联映射调用被控档位信息所对应的目标烘烤颜色,及根据被烘烤食品的烘烤过程颜色变化调整烘烤设备的烘烤参数,直至被烘烤食品当前的烘烤过程颜色达到目标烘烤颜色。将档位与其所对应的目标烘烤口味、及目标烘烤颜色进行关联映射,实际烘烤过程中,每一档位并没有具体的时间控制,而是根据烘烤过程中的被烘烤食品的烘烤过程颜色变化调整烘烤设备的烘烤参