一次性全表面气相沉积支架、气相沉积炉及其沉积方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109423628A(43)申请公布日2019.03.05(21)申请号201710773760.X(22)申请日2017.08.31(71)申请人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所地址215125江苏省苏州市工业园区若水路398号(72)发明人鞠涛崔志国张立国范亚明张泽洪张宝顺(74)专利代理机构南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32297代理人陆明耀(51)Int.Cl.C23C16/458(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图3页(54)发明名称一次性全表面气相沉积支架、气相沉积炉及其沉积方法(57)摘要本发明揭示了一次性全表面气相沉积支架、气相沉积炉及其沉积方法，一次性全表面气相沉积支架包括共轴的第一支架和第二支架，所述第一支架上形成有至少一个第一支撑平面，所述第二支架上形成有与每个第一支撑平面匹配且共轴的第二支撑平面；第一状态下，每个所述第一支撑平面高于与其对应的所述第二支撑平面；第二状态下，每个所述第一支撑平面低于与其对应的所述第二支撑平面。本发明设计精巧，采用两套支架结构，并使一支架中的每个支撑平面可高于或低于另一支架中的对应支撑平面，可以自动切换与工件接触的支架，进而改变工件被遮蔽的位置，实现一次性沉积，自动化程度高，操作简单，不需要停止沉积过程，减少了时间成本，大大提高了沉积效率。CN109423628ACN109423628A权利要求书1/2页1.一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：包括共轴的第一支架（1）和第二支架（2），所述第一支架（1）上形成有至少一个第一支撑平面，所述第二支架（2）上形成有与每个第一支撑平面匹配且共轴的第二支撑平面，第一状态下，每个所述第一支撑平面高于与其对应的第二支撑平面；第二状态下，每个所述第一支撑平面低于与其对应的第二支撑平面。2.根据权利要求1所述的一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：所述第一支架（2）上具有指定组数的第一支撑点（11），每组第一支撑点（11）的顶端等高且形成多层具有高度差的第一支撑平面，所述第二支架（2）上设置有与每组第一支撑点（11）对应的第二支撑点（21），每组第二支撑点（21）的顶端等高且形成多层具有高度差的第二支撑平面，每组第二支撑点（21）与第一支撑点（11）错位分布。3.根据权利要求2所述的一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：每组第一支撑点（11）和第二支撑点（21）的数量为3个，且它们均分圆周。4.根据权利要求2所述的一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：所述第一支架（1）包括支撑板（12），所述支撑板（12）的中心位置开设有通孔，所述支撑板（12）的一面中心设置有与其垂直的中空转轴（13），其另一面设置有至少3根均分圆周且与其垂直的支杆（14），每根支杆（14）上设置有一组具有高度差且与其垂直的横杆（15），每根横杆（15）向所述支撑板（12）的中心方向延伸，每个所述横杆（15）上设置有一第一支撑点（11）；所述第二支架（2）包括位于支撑板（12）上方的发散板（22），所述发散板（22）包括一组均分圆周的分片（221），每个分片（221）延伸到相邻支杆（14）之间的区域且其上设置有一立杆（23），每根立杆（23）上设置有与所述横杆（15）一一对应的连杆（24），每个连杆（24）上设置一第二支撑点（21），所述发散板（22）的背面设置有延伸到所述中空转轴（13）中的连接轴（25）。5.根据权利要求1-4任一所述的一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：所述第二支架（2）还连接驱动其上下移动的顶升机构。6.根据权利要求5所述的一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：所述顶升机构是丝杆升降装置。7.根据权利要求5所述的一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：所述第二支架（2）还连接驱动其绕其中心轴自转的第一驱动装置，所述第一驱动装置跟随所述第二支架（2）上下移动。8.根据权利要求7所述的一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：所述第一支架（1）连接驱动其绕其中心轴自转的第二驱动装置。9.一次性全表面气相沉积炉，包括真空室（5），其特征在于：还包括权利要求1-8任一所述的一次性全表面气相沉积支架。10.根据权利要求9所述的一次性全表面气相沉积炉，其特征在于：所述第一支架（1）的转轴和第二支架的连接轴（25）均延伸到所述真空室（5）外，并分别通过磁流体密封与所述真空室（5）可转动地连接。11.根据权利要求9所述的一次性全表面气相沉积炉，其特征在于：所述第一支撑平面、第二支撑平面均位于石墨导流罩（6）中，所述石墨导流罩（6）的外周及底部设置有用于加热且缠绕有电阻丝的内衬石墨（7），所述内衬石墨（7）的外周包覆有保温层（8），所述保温层2CN10942362