气相沉积炉的均匀供气装置及气相沉积炉.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109423623A(43)申请公布日2019.03.05(21)申请号201710773743.6(22)申请日2017.08.31(71)申请人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所地址215125江苏省苏州市工业园区若水路398号(72)发明人鞠涛张立国李哲范亚明张泽洪张宝顺(74)专利代理机构南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32297代理人陆明耀(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)C23C16/458(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图6页(54)发明名称气相沉积炉的均匀供气装置及气相沉积炉(57)摘要本发明揭示了气相沉积炉的均匀供气装置及气相沉积炉，气相沉积炉的均匀供气装置，包括至少一条呈T字形的匀气管路，所述匀气管路的出气孔的朝向与反应气体的上升方向相反且背向工件。本发明设计精巧，通过设置出气孔的朝向，能够使反应气体流出后逐步的扩散到工件区域，避免了一个气口直接朝向工件供气时易造成气流冲击以及易使反应气体集中于某一区域，造成反应气体分布不均匀的问题，能够保证反应气体供应的均匀性，有利于提高薄膜沉积的质量。CN109423623ACN109423623A权利要求书1/2页1.气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：包括至少一条呈T字形的匀气管路（1201），所述匀气管路（1201）上的一组出气孔（1205）的朝向与反应气体的上升方向相反且背向工件。2.根据权利要求1所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述匀气管路（1201）包括气体导入管（1202），所述气体导入管（1202）的一端连接有三通过渡接头（1203），所述三通过渡接头（1203）共轴的两个接口分别连接一匀气管（1204），所述匀气管（1204）上设置所述出气孔(1205)。3.根据权利要求2所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述匀气管路（1201）为至少两条且平行设置，每条匀气管路（1201）与一个用于放置工件并驱动工件自转的驱动机构对应。4.根据权利要求1-3任一所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：每条所述匀气管路（1201）分别连接供气管路（170），所述供气管路（170）至少包括液态反应源供应管路（1701）以及载气供应管路（1702），它们均连接混合装置（1703）且通过所述混合装置（1703）将液态反应源气化并与载气混合，所述混合装置（1703）连接并联的供气支路（1704）及稳压管路（1705），所述供气支路（1704）包括一组并联的且分别与一条匀气管路（1201）连接的供气分路。5.根据权利要求4所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：每个供气分路可单独调整与其连接的匀气管路（1201）的反应气体供应量。6.根据权利要求5所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述载气供应管路（1703）包括并联的氩气供应支路和氢气供应支路。7.根据权利要求5所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述保温供气支路（1704）的外周设置有加热带（1706）。8.根据权利要求5所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述混合装置是液体蒸发器控制系统。9.根据权利要求5所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述稳压管路（1705）至少包括管道上依次设置的第一阀们、泄压阀（C5）、第二阀门及抽气泵。10.气相沉积炉，包括真空室（8），其特征在于：所述真空室（8）包括圆柱形的真空室主体（81）以及位于所述真空室主体（81）的两个圆形开口处的密封门（82），所述真空室主体（81）的外圆周面连接支架（9），还包括权利要求1-9任一所述的均匀供气装置。11.根据权利要求10所述的气相沉积炉，其特征在于：所述匀气管路（1201）的出气孔（1205）均位于所述真空室（8）内的石墨毡材料的保温箱（11）中。12.根据权利要求10所述的气相沉积炉，其特征在于：所述真空室（8）内还设置有工件驱动组件（10），所述工件驱动组件（10）包括至少一对配合支撑并驱动工件自转，且持续改变与工件接触位置的第一转盘（2）和第二转盘（3），所述第一转盘（2）和第二转盘（3）的对数与所述匀气管路（1201）相同，且一对第一转盘（2）和第二转盘（3）位于一条匀气管路（1201）上方。13.根据权利要求12所述的气相沉积炉，其特征在于：所述第一转盘（2）和第二转盘（3）相同且它们中的一个连接驱动其绕其中心轴自转的驱动装置，它们均包括至少一个内凹于它们的圆周面且宽度相同的卡槽（7），所述卡槽（7）包括具有深度差的浅槽区（71）和深槽区2CN109423623A权利要求书2/2页（72）。3CN109423623A说明书1/9页气相沉积