一种用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110124596A(43)申请公布日2019.08.16(21)申请号201910519746.6B01J4/00(2006.01)(22)申请日2019.06.17B01F5/06(2006.01)(71)申请人郑州大工高新科技有限公司地址450000河南省郑州市自贸试验区郑州片区(经开)第二大街58号兴华大厦2号楼102号申请人大连理工大学重大装备设计与制造郑州研究院(72)发明人阮诗伦樊利芳李朝阳张留新王新宇(74)专利代理机构郑州浩德知识产权代理事务所(普通合伙)41130代理人边鹏(51)Int.Cl.B01J19/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器(57)摘要本发明提出了一种用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器，包括：多通管、螺旋状气体混合管、导流装置、气体均匀分布板、反应装置，多通管、螺旋状气体混合管、导流装置、反应装置依次连接，在反应装置后部也连接有一个螺旋状气体混合管，气体均匀分布板设置在反应装置的前部，导流装置位于气体均匀分布板的正前方，导流装置由导流罩和导流块组成，导流块为锥形结构，导流块的尖端位于螺旋状气体混合管的出气口处，气体均匀分布板上设有大小不一且规则排列的进气孔。其有益效果是：区别于传统的通气方式，气体由直管直接进入反应炉，本装置首先使多种气体在螺旋状管道内进行螺旋流动混合；在进入反应室前通过导流装置，改变气流原有流动方向，使混合气体均匀的向四周分散，最后经过气体均匀分布板，进一步使气体更加均匀的进CN110124596A入反应室内。CN110124596A权利要求书1/1页1.一种用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器，其组成包括：多通管，其特征在于：还包括螺旋状气体混合管、导流装置、气体均匀分布板、反应装置，所述多通管、所述螺旋状气体混合管、所述导流装置、所述反应装置依次连接，在所述反应装置后部也连接有一个所述螺旋状气体混合管，所述气体均匀分布板设置在所述反应装置的前部，所述导流装置位于所述气体均匀分布板的正前方，所述导流装置由导流罩和导流块组成，所述导流块为锥形结构，所述导流块的尖端位于所述螺旋状气体混合管的出气口处，所述气体均匀分布板上设有规则排列的进气孔。2.根据权利要求1所述的用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器，其特征在于：所述多通管为多通道进气管并与所述螺旋状气体混合管螺纹连接。3.根据权利要求1所述的用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器，其特征在于：所述导流罩内曲面与所述导流块外曲面相互配合，所述导流罩前侧中部设有与所述螺旋状气体混合管连接的接口，所述导流块安装在所述气体均匀分布板上，所述导流块的前端位于所述接口的正后方。2CN110124596A说明书1/3页一种用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器技术领域[0001]本发明涉及气体均匀混合分布器，特别是指一种用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器。背景技术[0002]在采用CVD化学气相沉积法生产的过程中，需要向生产反应装置中通入不同的气体，包括反应气、保护气、催化剂等。在通常的生产设备及工艺中，各种不同的气体分别通过气体输送管道进入反应装置，在反应装置内进行混合并发生反应。该过程中存在两个问题：1、各种气体通入反应装置后尚未进行充分混合即被排出，不能充分接触发生化学反应，影响反应物利用率及反应速率，在工业生产中，降低产品出产率；2、反应装置内混合气体分布不均匀，造成目标生成物生长厚度不均匀，影响产品质量。针对上述技术存在的问题，本发明对通气设备及进气方式进行了改进。发明内容[0003]本发明为解决现有技术中存在的问题，提出一种用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器。[0004]本发明的技术方案是这样实现的：一种用于气相沉积装置的气体均匀混合分布器，包括：多通管、螺旋状气体混合管、导流装置、气体均匀分布板、反应装置，所述多通管、所述螺旋状气体混合管、所述导流装置、所述反应装置依次连接，在所述反应装置后部也连接有一个所述螺旋状气体混合管，所述气体均匀分布板设置在所述反应装置的前部，所述导流装置位于所述气体均匀分布板的正前方，所述导流装置由导流罩和导流块组成，所述导流块为锥形结构，所述导流块的尖端位于所述螺旋状气体混合管的出气口处，所述气体均匀分布板上设有规则排列的进气孔。[0005]所述多通管为多通道进气管并与所述螺旋状气体混合管螺纹连接。[0006]导流罩内曲面与导流块外曲面相互配合作用，其具体尺寸和形状可根据反应装置及通气量大小进行设计调整；导流罩前侧中部设有与螺旋状气体混合管连接的接口；导流块安装在气体均匀分布板上，为可拆卸安装；导流块的前端位于所述接口的正后方，气体均匀分