一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置及均匀进气的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102433548A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102433548A(43)申请公布日2012.05.02(21)申请号201110401653.7(22)申请日2011.12.06(71)申请人山东国晶新材料有限公司地址251200山东省禹城市南环东路88号(72)发明人刘汝萃刘汝强(74)专利代理机构济南金迪知识产权代理有限公司37219代理人吕利敏(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置及均匀进气的方法(57)摘要本发明公开一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置，包括设有进气孔的原料气体混合腔、与混合腔相连通的出气通道，所述出气通道为两个，该两个出气通道的出气方向相同且长度不同，该两个出气通道的长度比例为1∶0.3～0.6。本发明的优势在于，所述反应气体通过进气孔进入混合腔，沿所述两个出气通道向沉积炉内的模具出气，由于所述两个出气通道的长度不同，较长的出气通道引导气体流向模具的中部，气体出来后可以均匀分散沉积到模具的各个部位上，避免了坩埚较长时，气体聚集在坩埚底部，难以到达上部沉积的缺陷，大大提高生产坩埚制品的成品率。CN1024358ACCNN110243354802433552A权利要求书1/1页1.一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置，其特征在于，该进气口装置包括设有进气孔的原料气体混合腔、与混合腔相连通的出气通道，所述出气通道为两个，该两个出气通道的出气方向相同且长度不同，该两个出气通道的长度比例为1∶0.3～0.6。2.根据权利要求1所述的进气口装置，其特征在于，在混合腔内，且在两个出气通道与混合腔相连的位置设置有导流板，所述导流板分别与两个出气通道相连。3.根据权利要求2所述的进气口装置，其特征在于，所述的导流板的截面形状为直角扇形，所述直角扇形导流板的直角边与长度较短的出气通道相连，所述直角扇形导流板的圆弧边与长度较长的出气通道相连。4.根据权利要求1所述的进气口装置，其特征在于，所述的均匀气流进气口装置外形整体呈“L”形。5.根据权利要求1所述的进气口装置，其特征在于，所述进气孔的进气方向与所述两个出气通道的出气方向相同，所述进气孔与所述直角扇形导流板相对设置；所述的进气孔为圆孔。6.根据权利要求1所述的进气口装置，其特征在于，所述两个出气通道分别为长方体形。7.根据权利要求1所述的进气口装置，其特征在于，所述两个出气通道的长度比例为1∶0.4～0.5。8.根据权利要求1所述的进气口装置，其特征在于，其中较长出气通道的长度为气相沉积炉内的模具长度的一半。9.一种在气相沉积反应中利用权利要求1所述进气口装置均匀进气的方法，包括将上述的进气口装置置于气相沉积炉进气口位置，并使气相沉积炉内模具距离所述进气口装置中长度较短的出气通道口2厘米～3厘米，长度较长的出气通道则位于模具的一侧。10.一种在气相沉积反应中利用权利要求1所述进气口装置均匀进气的方法，在气相沉积炉底部设置三个进气口，在中间的进气口为所述进气口装置，两边分别为现有的喇叭形进气口，喇叭形进气口的高度与所述进气口装置中长度较短出气通道的高度相同，将模具置于气相沉积炉中，距离进气口装置中较短的出气通道口2厘米～3厘米。2CCNN110243354802433552A说明书1/3页一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置及均匀进气的方法技术领域[0001]本发明涉及一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置及均匀进气的方法，属于利用气相沉积法生产热解氮化硼坩埚制品的技术领域。背景技术[0002]近年来，热解氮化硼由于其优异的性能如高热导率、电绝缘和强化学惰性等，而非常适于用作坩埚、高温夹具、电子元器件基板以及介电等用材料。化学气相沉积法(CVD)是生产热解氮化硼最常用的方法，且利用这种方法制得的热解氮化硼坩埚制品具有良好的可加工性，能很好地满足应用要求。目前，常用气相沉积炉包括炉体、加热体、进气口、出气口和模具，进气口在炉体的底部或顶部，出气口的位置与进气口相对，所述模具悬挂于旋转上，与外部的电机连接旋转，出气口的形状一般为喇叭口型，或者是有两个平行平面的立体喇叭口型，这类形状的进气口在生产板材或小尺寸坩埚制品时，对产品的均匀性影响不大；但在生产长度较长的热解氮化硼坩埚制品时，气体容易在模具靠近进气口的地方聚集，造成坩埚不同部位的厚薄不均。发明内容[0003]针对以上的技术不足，本发明提供一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置。[0004]本发明还提供一种在气相沉积反应中利用上述进气口装置均匀进气的方法。[0005]本发明的技术方案如下：[0006]一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置，包括设有进气孔的原料气