一种化学气相沉积设备及其气体混合装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115786881A(43)申请公布日2023.03.14(21)申请号202111435929.3(22)申请日2021.11.29(66)本国优先权数据202111056615.22021.09.09CN(71)申请人中微半导体设备（上海）股份有限公司地址201201上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号(72)发明人龚岳俊李雪子(74)专利代理机构上海元好知识产权代理有限公司31323专利代理师张妍张静洁(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)B01F25/46(2022.01)权利要求书2页说明书7页附图7页(54)发明名称一种化学气相沉积设备及其气体混合装置(57)摘要一种化学气相沉积设备及其气体混合装置，化学气相沉积设备包含反应腔和位于反应腔内部上方的气体喷淋头，位于气体喷淋头上方的气体混合装置包含：具有主气体通道和第二气体通道的主体结构，以及设置在主气体通道内的气流塞。主气体通道的进气端连接至第一反应气体源，出气端朝向气体喷淋头，第二气体通道的进气端连接至第二反应气体源，出气端连接至所述主气体通道。气流塞具有柱状的弹身部，弹身部包括第一端和第二端，第一端朝向主气体通道进气端，第二端朝向主气体通道出气端，第二端包括一呈锥状结构的气体导流部。本发明能够实现较高的气体混合均匀度，从而降低了气体喷淋头的工艺复杂度，进一步降低了设备成本。CN115786881ACN115786881A权利要求书1/2页1.一种气体混合装置，用于化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包含反应腔以及位于反应腔内部上方的气体喷淋头，其特征在于，所述气体混合装置位于所述气体喷淋头上方，且其包含：主体结构，其具有主气体通道和第二气体通道；所述主气体通道的进气端连接至第一反应气体源，出气端朝向气体喷淋头；所述第二气体通道的进气端连接至第二反应气体源，还包括多个第二气体出气喷口连接至所述主气体通道；以及，设置在所述主气体通道内的气流塞；所述气流塞具有柱状的弹身部，所述弹身部的第一端朝向主气体通道进气端，弹身部的第二端朝向主气体通道出气端，所述弹身部第二端还包括一呈锥状的气体导流部，所述多个第二气体出气喷口围绕所述主气体通道，使得第二反应气体流经所述第二气体出气喷口后朝向所述弹身部或者气体导流部喷出。2.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述主气体通道的进气端具有锥状内壁结构，所述锥状内壁结构延伸至所述气流塞的弹身部所在的位置。3.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述第二气体通道的横截面呈环状，所述第二气体通道与所述主气体通道同心设置。4.如权利要求2所述的气体混合装置，其特征在于，所述锥状内壁结构的开口宽度朝向主气体通道进气端方向逐渐减小，所述锥状内壁结构的锥状顶角朝上。5.如权利要求2所述的气体混合装置，其特征在于，所述锥状内壁结构的高度大于等于所述气流塞的气体导流部的高度。6.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞的第一端还包括呈锥状的第二气体导流部。7.如权利要求6所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞的第二气体导流部的锥状顶角大于所述主气体通道的锥状内壁结构的锥状顶角。8.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞的弹身部的长度小于所述主气体通道的长度。9.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞的弹身部的宽度小于所述主气体通道的最小宽度。10.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞上具有连接部，所述连接部将所述气流塞固定设置在所述主气体通道内。11.如权利要求10所述的气体混合装置，其特征在于，所述连接部呈环形，所述连接部通过多条连接筋与所述气流塞的弹身部连接，所述连接部嵌入固定至所述主气体通道的进气端。12.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述多个第二气体出气喷口设置的位置高于所述气流塞的气体导流部。13.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述主体结构具有至少两个其他气体通道，所述其他气体通道的进气端连接至至少一种其他反应气体源，出气端连接至所述主气体通道。14.如权利要求13所述的气体混合装置，其特征在于，所述其他气体通道的出气喷口设置的位置高于所述弹状气流塞的气体导流部。2CN115786881A权利要求书2/2页15.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述主体结构具有至少两个清洁气体通道，所述清洁气体通道的进气端连接至清洁气体源，出气端朝向气体喷淋头。16.如权利要求15中所述的气体混合装置，其特征在于，所述第二气体通道、清洁气体通道围绕所述主气体通道均匀设置。17.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气体混合装置