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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110629168A(43)申请公布日2019.12.31(21)申请号201911042223.3(22)申请日2019.10.30(71)申请人东北大学地址110169辽宁省沈阳市浑南区创新路195号(72)发明人刘坤关天恩阮智伟胡强巴德纯(74)专利代理机构北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙)11613代理人韩国胜(51)Int.Cl.C23C14/26(2006.01)C23C14/56(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图3页(54)发明名称一种真空镀膜机的蒸发装置(57)摘要本发明涉及一种真空镀膜机的蒸发装置,其包括:蒸发舟、加热系统、布气系统,蒸发舟包括有蒸发舟内层、蒸发舟外层和活动盖板,蒸发舟内层位于蒸发舟外层与活动盖板之间,活动盖板开设有多个蒸发孔,蒸发舟内层上开设有与蒸发孔对应的蒸发凹槽;加热系统包括多个相对独立的蒸发源,蒸发源设置有内坩埚,内坩埚嵌套于蒸发凹槽内,蒸发源能够对放置在内坩埚内的物体进行加热;设置多级二元型结构的布气管路,实现进气量的均匀性的控制,使蒸发气体与外部通入气体可以充分混合,形成均匀的复合薄膜。本发明采用蜂窝状结构的蒸发源加热效率高,能够保证材料的大面积加热蒸发时的均匀性,减少溅射现象,适用于大面积高速卷绕镀膜工艺。CN110629168ACN110629168A权利要求书1/1页1.一种真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于,所述蒸发装置包括:蒸发舟,所述蒸发舟包括有蒸发舟内层、蒸发舟外层和活动盖板,所述蒸发舟内层位于蒸发舟外层与活动盖板之间,所述活动盖板开设有多个蒸发孔,所述蒸发舟内层上开设有与所述蒸发孔对应的蒸发凹槽,蒸发孔与蒸发凹槽均按蜂窝状进行排布;加热系统,所述加热系统包括多个相对独立的蒸发源,所述蒸发源设置有内坩埚,所述内坩埚嵌套于所述蒸发凹槽内,所述蒸发源能够对放置在所述内坩埚内的物体进行加热;布气管道,所述布气管道设置在于所述蒸发舟上端,所述布气管道开设有进气口和多个出气口,所述进气口连接外部气体源,所述出气口朝向所述蒸发源。2.如权利要求1中所述的真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述蒸发源采用高频感应加热,所述蒸发源包括若干个感应线圈、绝热层、外坩埚,所述内坩埚叠套于所述外坩埚内,且所述绝热层设置于所述内坩埚的侧壁与所述外坩埚的侧壁之间,所述感应线圈设置于所述外坩埚的侧壁与所述蒸发舟内层之间。3.如权利要求2中所述的真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述蒸发源还包括有调隙垫片,所述调隙垫片位于所述内坩埚与所述绝热层之间。4.如权利要求3所述的真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述蒸发源还设置有电极块,所述电极块连接外部交流电源,多个所述感应线圈串联为一组感应线圈组,多组所述感应线圈组相互并联,所述感应线圈组与所述电极块相连,所述感应线圈内部为中空管路,所述中空管路能够循环通入冷却剂进行冷却所述感应线圈。5.如权利要求1中所述的真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述蒸发舟内层为电阻加热,所述蒸发源还设置有成对的电极块,所述蒸发舟位于成对的所述电极块之间且所述蒸发舟内层的端部与所述电极块连接,所述内坩埚与所述蒸发舟内层相互接触。6.如权利要求1-5中任意一项所述的真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述蒸发舟外层设置有沟槽,所述活动盖板能够卡持在所述沟槽内。7.如权利要求1-5中任意一项所述真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述布气管道包括依次连通的进气管路、多级分流管路和排气管路,所述排气管路与所述蒸发舟的边缘平行,所述进气口位于所述进气管路上,所述出气口位于所述排气管路上。8.如权利要求7中所述真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述排气管路的轴线所在的水平面与所述出气口的轴线之间呈10°-70°夹角,相邻所述出气口之间的间距相等。9.如权利要求7中所述的真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述排气管路包括多个相对独立的排气支管,所述排气支管均能够与对应的所述分流管路连通,所述排气支管上均开设有多个所述出气口,位于所述排气支管的中部的所述出气口的直径小于位于所述排气支管的两侧的所述出气口的直径,每个所述出气口出气量相等。10.如权利要求1-5中任意一项所述的真空镀膜机的蒸发装置,其特征在于:所述内坩埚的横截面从底部向开口逐渐扩大。2CN110629168A说明书1/7页一种真空镀膜机的蒸发装置技术领域[0001]本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其设计一种真空蒸发镀膜机的蒸发装置。背景技术[0002]近年来,随着光学薄膜技术以及半导体科技的发展,真空镀膜技术在生产中的应用也越来越广泛与重要。真空蒸镀是最普遍、应用最广的真空镀膜工艺,真空蒸镀的物理过程包括:沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态