一种退火炉温度调节控制系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113739591A(43)申请公布日2021.12.03(21)申请号202111012703.2(22)申请日2021.08.31(71)申请人襄阳鑫明宇光电科技有限公司地址441116湖北省襄阳市襄州区伙牌工业园四季青农贸城七区(72)发明人邵德辉鲁庆霞(74)专利代理机构上海精晟知识产权代理有限公司31253代理人黄小灵(51)Int.Cl.F27D19/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种退火炉温度调节控制系统(57)摘要本发明公开了一种退火炉温度调节控制系统，包括温度控制终端，所述温度控制终端一端设置有燃气控制阀，所述温度控制终端一端设置有空气控制阀，所述温度控制终端一端设置有炉压控制阀；本发明中通过参数输入模块可人工调整参数，从而适应退火炉使用情况进行调整参数，能够更加精确调整整体控制精度，通过手动控制模块，在控制系统出现故障时，能够进行人工调控，尽量降低损失，在温度控制终端对温度进行调控时，调控数据以及温度数据通过数据存储模块，实时存储备份；数据调取模块调取数据存储模块中存储备份数据，通过数据对比模块，对往期数据进行对比分析，分析退火炉具体使用情况，以及温度调整情况，为参数调整提供有效数据支持。CN113739591ACN113739591A权利要求书1/1页1.一种退火炉温度调节控制系统，包括温度控制终端，其特征在于，所述温度控制终端一端设置有燃气控制阀，所述温度控制终端一端设置有空气控制阀，所述温度控制终端一端设置有炉压控制阀，所述温度控制终端一端设置有数据存储模块。2.根据权利要求1所述的退火炉温度调节控制系统，其特征在于，所述温度控制终端一端电性连接有参数输入模块，所述温度控制终端一端电性连接有数据计算模块，所述温度控制终端一端电性连接有手动控制模块。3.根据权利要求1所述的退火炉温度调节控制系统，其特征在于，所述温度控制终端一端电性连接有数据调取模块，所述温度控制终端一端电性连接有数据对比模块。4.根据权利要求1所述的退火炉温度调节控制系统，其特征在于，所述温度控制终端一端电性连接有AD转换器，所述AD转换器一端电性连接有温度传感器。5.根据权利要求1‑4所述的退火炉温度调节控制系统，其特征在于，所述退火炉温度调节控制系统步骤如下：S1：选取多组温度传感器，安装与退火炉各个部位，通过参数输入模块输入预设温度参数和控制参数至温度控制终端中；S2：温度传感器监测退火炉内部温度，将温度信号传输至AD转换器，AD转换器接收温度传感器信号，将信号转换为数字信号传输至温度控制终端；S3：温度控制终端接收温度传感器监测数据，通过数据计算模块计算控制参数，计算完毕后温度控制终端控制燃气控制阀和空气控制阀，调整燃气与助燃空气的混合比例，从而调整燃烧效率，控制温度，控制炉压控制阀，从而调整退火炉内部炉压，从而精确调整炉内温度；S4：根据使用情况，通过参数输入模块可人工调整参数，从而适应退火炉使用情况进行调整参数，能够更加精确调整整体控制精度，通过手动控制模块，在控制系统出现故障时，能够进行人工调控，尽量降低损失；S5：在温度控制终端对温度进行调控时，调控数据以及温度数据通过数据存储模块，实时存储备份；S6：数据调取模块调取数据存储模块中存储备份数据，通过数据对比模块，对往期数据进行对比分析，分析退火炉具体使用情况，以及温度调整情况，为参数调整提供有效数据支持。2CN113739591A说明书1/3页一种退火炉温度调节控制系统技术领域[0001]本发明涉及温度控制系统技术领域，具体是一种退火炉温度调节控制系统。背景技术[0002]退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底，退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。[0003]退火炉在使用中，需要使用到一种退火炉温度调节控制系统，对退火炉内的温度进行调控。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种退火炉温度调节控制系统，以解决上述背景技术中提出的问题。[0005]为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：[0006]一种退火炉温度调节控制系统，包括温度控制终端，所述温度控制终端一端设置有燃气控制阀，所述温度控制终端一端设置有空气控制阀，所述温度控制终端一端设置有炉压控制阀，所述温度控制终端一端设置有数据存储模块。[0007]作为本发明进一步的方案：所述温度控制终端一端电性连接有参