一种快速调节退火炉温度的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114317905A(43)申请公布日2022.04.12(21)申请号202210040263.X(22)申请日2022.01.13(71)申请人河北光兴半导体技术有限公司地址050035河北省石家庄市高新区黄河大道9号申请人北京远大信达科技有限公司(72)发明人刘伟涛胡恒广周新亚何永敢(74)专利代理机构北京连和连知识产权代理有限公司11278代理人刘小峰陈黎明(51)Int.Cl.C21D1/30(2006.01)C21D11/00(2006.01)C03B25/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种快速调节退火炉温度的方法(57)摘要本发明涉及退火炉电加热系统技术领域，具体涉及一种快速调节退火炉温度的方法，是通过引入阵列控制的方式对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，对每个加热回路设置阵列开关，通过区阵列设置增量对本区并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制，达到退火炉温度的快速调整；本发明在遇到断板等紧急情况可以对退火炉温度快速调整，通过引入阵列控制的方式实现了对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，极大的简化了操作流程，提高了工作效率，实现了对退火炉温度的快速调整。并且本发明对功率的控制采用增减值的方式，较之前直接逐个回路输入功率值的方式也大幅降低了误操作的概率。CN114317905ACN114317905A权利要求书1/1页1.一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的调节方法是通过引入阵列控制的方式对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，对每个加热回路设置阵列开关，通过区阵列设置增量对本区并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制，达到退火炉温度的快速调整。2.根据权利要求1所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的阵列开关是对每个加热回路的阵列状态加以标记。3.根据权利要求2所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的标记包括并列和解列两种状态。4.根据权利要求2所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的阵列开关通过手动切换每个加热回路的阵列状态。5.根据权利要求1所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的阵列开关在并列状态下可以进行阵列控制，解列状态下不可以进行阵列控制。6.根据权利要求5所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的区阵列设置增量是对本区阵列控制的功率的增减值。7.根据权利要求6所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，在执行阵列控制时，当原功率设定值和区阵列设置增量大于本加热回路额定功率时，则本加热回路设定功率等于本加热回路额定功率。8.根据权利要求7所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，在执行阵列控制时，当原功率设定值和区阵列设置增量小于零时，则本加热回路设定功率等于零。9.根据权利要求8所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的区阵列控制是对退火炉某区域的所有并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制。10.根据权利要求9所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的加热回路数量可以是任意数值。2CN114317905A说明书1/3页一种快速调节退火炉温度的方法技术领域[0001]本发明涉及退火炉电加热系统技术领域，特别的为一种快速调节退火炉温度的方法。背景技术[0002]退火是一种材料热处理工艺，指的是将材料缓慢加热到一定温度，保持足够时间，然后以适宜速度冷却。目的是降低硬度，改善切削加工性；降低残余应力，稳定尺寸，减少变形与裂纹倾向；细化晶粒，调整组织，消除组织缺陷。准确的说，退火是一种对材料的热处理工艺，包括金属材料、非金属材料。[0003]退火是制造TFT‑LCD玻璃基板过程中的重要工序，其直接影响着成品玻璃的应力、翘曲等品质，因此对退火炉温度的要求极为精确。在相关技术中，退火炉的温度调节通常通过电加热系统来实现，通过对几十甚至上百个电加热回路的精准控制实现对退火炉温度的精确调节。在现有技术中，退火炉每个电加热回路需单独控制，这在正常生产只需对退火炉温度进行小幅精确调整时可以满足控制需求，但在遇到断板等紧急情况需要对退火炉温度快速调整时则控制显得繁琐，无法实现对几十甚至上百个电加热回路的快速调整。[0004]综上所述，研发一种快速调节退火炉温度的方法，仍是退火炉电加热系统技术领域中急需解决的关键问题。发明内容[0005]本发明提供的了一种快速调节退火炉温度的方法，本发明在遇到断板等紧急情况可以对退火炉温度快速调整，通过引入阵列控制的方式实现了对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，极大的简化了操作流程，提高了工作效