一种液晶高分子高频双面覆铜板及其制备方法与压合装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110027299A(43)申请公布日2019.07.19(21)申请号201910338086.1(22)申请日2019.04.25(71)申请人江阴骏驰复合材料有限公司地址214411江苏省无锡市江阴市长泾镇兴园路68号(72)发明人周立黄楠昆(74)专利代理机构上海申浩律师事务所31280代理人秦华毅(51)Int.Cl.B32B37/10(2006.01)B32B37/06(2006.01)B32B38/00(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图1页(54)发明名称一种液晶高分子高频双面覆铜板及其制备方法与压合装置(57)摘要本发明公开了一种液晶高分子高频双面覆铜板及其制备方法与压合装置，所述液晶高分子高频双面覆铜板包括两组单面覆铜板，所述单面覆铜板包括铜箔及附在铜箔表面的液晶高分子复合材料层，两组单面覆铜板涂覆有液晶高分子复合材料层的一面相对叠层放置，形成从上至下依次为铜箔、液晶高分子复合材料层、液晶高分子复合材料层和铜箔的结构；制备方法为，将液晶高分子复合材料经由涂布工艺涂布于铜箔上，经过烘烤、退火处理形成液晶高分子复合材料层，获得单面覆铜板，取两组单面覆铜板，并将涂覆有液晶高分子复合材料层的一面相对叠层放置，再高温压合；同时，本发明还提供了一种高温压合装置。CN110027299ACN110027299A权利要求书1/2页1.一种液晶高分子高频双面覆铜板，其特征在于：包括两组单面覆铜板，所述单面覆铜板包括铜箔及附在铜箔表面的液晶高分子复合材料层，两组单面覆铜板涂覆有液晶高分子复合材料层的一面相对叠层放置，形成从上至下依次为铜箔、液晶高分子复合材料层、液晶高分子复合材料层和铜箔的结构。2.根据权利要求1所述的液晶高分子高频双面覆铜板，其特征在于：所述液晶高分子复合材料层是由液晶高分子复合材料涂布在铜箔表面经过烘烤、退火处理形成。3.根据权利要求2所述的液晶高分子高频双面覆铜板，其特征在于：所述液晶高分子复合材料是由以下重量份数的组分制成：100份液晶高分子材料和0.1-30份填充物；所述液晶高分子复合材料的固体份为8-30％，黏度为1200-2000CPs。4.根据权利要求3所述的液晶高分子高频双面覆铜板，其特征在于：所述液晶高分子材料购自日本住友商事株事会社，牌号为VR300，固体份为8％，粘度为300-1200CPs；所述填充物为熔融石英、改性铁氟龙、氢氧化铝。5.根据权利要求2所述的液晶高分子高频双面覆铜板，其特征在于：所述液晶高分子复合材料层的厚度为12-50μm，所述铜箔的厚度为12-18μm。6.根据权利要求5所述的液晶高分子高频双面覆铜板，其特征在于：所述铜箔为日本三井金属矿业株式会社的型号为TQ-M7-VSP的电解铜、日本福田金属箔粉工业株式会社的型号为CF-H9A-DS-HD2R的电解铜、日本日矿金属株式会社的型号为JXEF-V2的电解铜日本、日矿金属株式会社的型号为BHFX-92F-HA-V2的压延铜中的一种。7.如权利要求1至6任一项所述的液晶高分子高频双面覆铜板的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：将所述液晶高分子复合材料经由涂布工艺涂布于铜箔上，经过烘烤、退火处理，形成液晶高分子复合材料层，获得单面覆铜板，取两组单面覆铜板，并将涂覆有液晶高分子复合材料层的一面相对叠层放置，经过压合获得所述液晶高分子高频双面覆铜板。8.根据权利要求7所述的液晶高分子高频双面覆铜板，其特征在于：所述涂布工艺的条件：温度为90℃，保温20min；所述烘烤的条件：温度为90℃，保温20min；所述退火处理的温度为300℃，保温3h；所述压合的温度为300-350℃。9.根据权利要求7所述的液晶高分子高频双面覆铜板，其特征在于：所取的两组单面覆铜板均为同一工艺条件下制得。10.一种制备如权利要求1至6任一项所述的高频双面覆铜板的高温压合装置，其特征在于：包括第一保护膜输入辊、第二保护膜输入辊、第一保护膜导向辊、第二保护膜导向辊、第一单面覆铜板输入辊、第二单面覆铜板输入辊、上高温压轮、下高温压轮、第一保护膜支撑辊、第二保护膜支撑辊、第一保护膜收卷辊、第二保护膜收卷辊、双面覆铜板收卷辊；所述第一保护膜输入辊、第一保护膜导向辊、第一单面覆铜板输入辊、上高温压轮、第一保护膜支撑辊和第一保护膜收卷辊分别与第二保护膜输入辊、第二保护膜导向辊第二单面覆铜板输入辊、下高温压轮、第二保护膜支撑辊和第二保护膜收卷辊按双面覆铜板收卷辊所在水平面呈对称设置；所述第一单面覆铜板输入辊和第二单面覆铜板输入辊分别设置在第一保护膜导向辊的正下方和第二保护膜导向辊的正上方；所述下高温压轮设有高度调节装置，所述上高温压轮和下高温压轮均为中空结构，内2CN110027