光致抗蚀剂组合物.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN101995769A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN101995769A(43)申请公布日2011.03.30(21)申请号201010247395.7C07C229/36(2006.01)C07C229/08(200601)(22)申请日2010.08.05.C07C227/20(2006.01)(30)优先权数据C07D207/16(2006.01)2009-18690720090811..JPC07D295/15(2006.01)(71)申请人住友化学株式会社地址日本国东京都(72)发明人畑光宏增山达郎(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人柳春琦(51)Int.Cl.G03F7/004(2006.01)C08F220/18(2006.01)C08F222/14(2006.01)C07C229/56(2006.01)权利要求书2页说明书73页(54)发明名称光致抗蚀剂组合物(57)摘要本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物，在式(C1)中，Rc2表示可以具有一个或多个取代基的C7-C20芳烷基，并且Rc1表示由式(1)表示的基团，在式(1)中，Rc3和Rc4各自独立地表示氢原子或直链，支链或环状C1-C12脂族烃基，Rc5表示C1-C30二价有机基团，并且Rc3和Rc4或Rc5可以彼此结合以与Rc3和Rc4或Rc5结合的氮原子一起形成环。ACN109576CCNN110199576901995774A权利要求书1/2页1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物：其中Rc2表示可以具有一个或多个取代基的C7-C20芳烷基，并且Rc1表示由式(1)表示的基团：其中Rc3和Rc4各自独立地表示氢原子或直链，支链或环状C1-C12脂族烃基，Rc5表示C1-C30二价有机基团，并且Rc3和Rc4或Rc5可以彼此结合以与Rc3和Rc4或Rc5结合的氮原子一起形成环。2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中Rc2是由式(2)表示的基团：c6-CH2-R(2)其中Rc6表示具有一个或多个取代基的C6-C18芳族烃基，并且所述取代基中的至少一个是吸电子基团。3.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述吸电子基团是硝基。4.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂组合物，其中Rc6是硝基苯基。5.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中Rc1是由式(1-1)，(1-2)或(1-3)表示的基团：其中Rc3和Rc4与权利要求1中定义的相同，并且Rc7在每次出现时独立地为直链，支链或环状C1-C10脂族烃基，m3表示0至4的整数，Rc8表示氢原子，直链，支链或环状C1-C15脂族烃基或C7-C15芳烷基，并且所述脂族烃基和所述芳烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-，-CO-或-S-代替，并且所述脂族烃基和所述芳烷基可以具有选自由卤素原子，羟基和巯基(-SH)组成的组中的一个或多个取代基，并且Rc3和Rc8可以彼此结合以与Rc8结合的碳原子和Rc3结合的氮原子一起形成环，Rc9表示直链，支链或环状C1-C10二价脂族烃基，并且式(1-3)中的Rc3和Rc4可以彼此结合以与Rc3和Rc4结合的氮原子一起形成环。6.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述由式(C1)表示的化合物是由式(C1-1-1)，(C1-2-1)，(C1-2-2)，(C1-2-3)或(C1-3-1)表示的化合物：2CCNN110199576901995774A权利要求书2/2页7.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂在碱水溶液中不溶或难溶，但是通过酸的作用变得在碱水溶液中可溶。3CCNN110199576901995774A说明书1/73页光致抗蚀剂组合物技术领域[0001]本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物。背景技术[0002]用于采用光刻法的半导体微型制造的光致抗蚀剂组合物含有酸生成剂，该酸生成剂包含通过辐照产生酸的化合物。[0003]US2003/0194639A1公开了一种包含2，6-二异丙基苯胺或氢氧化四丁基铵的光致抗蚀剂组合物。发明内容[0004]本发明的目的是提供一种光致抗蚀剂组合物。[0005]本发明涉及下列内容：[0006]<1>一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物：[0007][0008]其中Rc2表示可以具有一个或多个取代基的C7-C20芳烷基，并且Rc1表示由式(1)表示的基团：[0009][0010]其中Rc3和Rc4各自独立地表示氢原子或直链，支链或环状C1-C12脂族烃基，Rc5表示C1-C30二价有机基团，并且Rc3和Rc4或Rc5可以彼此结合以与