光致抗蚀剂组合物.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102081303A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102081303A(43)申请公布日2011.06.01(21)申请号201010559041.6(51)Int.Cl.(22)申请日2010.11.23G03F7/004(2006.01)G03F7/00(2006.01)(30)优先权数据2009-2690362009.11.26JP2010-0151452010.01.27JP(71)申请人住友化学株式会社地址日本国东京都(72)发明人市川幸司宫川贵行畑光宏(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人程金山权利要求书2页说明书84页(54)发明名称光致抗蚀剂组合物(57)摘要本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物，其中Rc1表示可以具有一个或多个取代基的芳族基团，Rc2和Rc3各自独立地表示氢原子，可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或可以具有一个或多个取代基的芳族基团，Rc4和Rc6各自独立地表示氢原子或可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或Rc4和Rc6彼此结合以形成烷烃二基，Rc5表示可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或可以具有一个或两个取代基的氨基，Rc7表示氢原子或可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或Rc5和Rc7彼此结合以形成烷烃二基。CN10283ACCNN110208130302081309A权利要求书1/2页1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物：其中Rc1表示可以具有一个或多个取代基的芳族基团，Rc2和Rc3各自独立地表示氢原子，可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或可以具有一个或多个取代基的芳族基团，Rc4和Rc6各自独立地表示氢原子或可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或Rc4和Rc6彼此结合以形成烷烃二基，Rc5表示可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或可以具有一个或两个取代基的氨基，Rc7表示氢原子或可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或Rc5和Rc7彼此结合以形成烷烃二基。2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述化合物(C1)是由式(C1-1)表示的化合物：其中Rc1与权利要求1中的定义相同，并且Rc8和Rc9各自独立地表示可以具有一个或多个取代基的C1-C18烷烃二基。3.根据权利要求2的光致抗蚀剂组合物，其中所述由式(C1-1)表示的化合物是由式(C1-1-1)或(C1-1-2)表示的化合物：其中Rc1与权利要求1中的定义相同。4.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中按100重量份的所述树脂计，所述由式(C1)表示的化合物在所述光致抗蚀剂组合物中的含量为0.01至5重量份。5.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述酸生成剂是含有一个或多个氟原子的酸生成剂。6.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述酸生成剂是由式(B1)表示的2CCNN110208130302081309A权利要求书2/2页盐：其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，Lb1表示单键或其中一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替的C1-C17二价饱和烃基，Y表示可以具有一个或多个取代基的C1-C18脂族烃基，或可以具有一个或多个取代基的C3-C18饱和环状烃基，并且所述脂+族烃基和所述饱和环状烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-，-CO-或-SO2-代替，并且Z表示有机阳离子。7.根据权利要求6所述的光致抗蚀剂组合物，其中Z+为三芳基锍阳离子。8.根据权利要求6所述的光致抗蚀剂组合物，其中Y为可以具有一个或多个取代基的金刚烷基或可以具有一个或多个取代基的氧代金刚烷基。9.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中按100重量份的所述树脂计，所述酸生成剂在所述光致抗蚀剂组合物中的含量为1至20重量份。10.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。11.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还含有2，6-二异丙基苯胺。12.一种用于制造光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括下面的步骤(1)至(5)：(1)将根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物涂覆在衬底上的步骤，(2)通过进行干燥而形成光致抗蚀剂膜的步骤，(3)将所述光致抗蚀剂膜对辐射曝光的步骤，(4)将已曝光的光致抗蚀剂膜烘焙的步骤，以及(5)使用碱性显影剂将已烘焙的光致抗蚀剂膜显影，由此形成光致抗蚀剂图案的步骤。3CCNN110208130302081309A说明书1/84页光致抗蚀剂组合物技术领域[0001]本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物。背景技术[0002]光致抗蚀剂组合