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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利(10)授权公告号(10)授权公告号CNCN102575127102575127B(45)授权公告日2014.08.13(21)申请号201080045299.2(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专(22)申请日2010.10.29利商标事务所11038代理人夏正东(30)优先权数据(51)Int.Cl.12/609,2222009.10.30USC09D167/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日G03F7/09(2006.01)2012.04.09(56)对比文件(86)PCT国际申请的申请数据CN101501572A,2009.08.05,权利要求PCT/IB2010/0027842010.10.291-12,说明书第26行至第12行.(87)PCT国际申请的公布数据CN1946759A,2007.04.11,权利要求1-27,WO2011/055209EN2011.05.12说明书第5行至第21行.(73)专利权人AZ电子材料美国公司审查员詹红彬地址美国新泽西(72)发明人姚晖蓉林观阳M·O·奈塞尔权权利要求书2页利要求书2页说明书16页说明书16页附图6页附图6页(54)发明名称抗反射光致抗蚀剂组合物(57)摘要本发明涉及用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物,其包含聚合物,交联剂和酸产生剂,其中聚合物包含至少一个结构1单元,(结构式I)(I)其中,X是连接部分,其选自非芳族的(A)组成部分,芳族(P)组成部分及其混合物,R′是结构(2)的基团,R″独立地选自氢,结构(2)的组成部分,Z以及W-OH,其中Z是(C1-C20)烃基组成部分以及W是(C1-C20)亚烃基连接部分,以及,Y′独立地是(C1-C20)亚烃基连接部分,其中结构(2)是(结构式II)(II)其中R1以及R2独立地选自H以及C1-C4烷基以及L是有机烃基。此外本发CN102575127BCN10257B明涉及使该抗反射涂料组合物成像的方法。CN102575127B权利要求书1/2页1.用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物,其包含聚合物、交联剂以及酸产生剂,其中该聚合物包含至少一个结构1单元,其中,X是选自非芳族(A)组成部分、芳族(P)组成部分及其混合物的连接部分,R'是结构(2)的基团,其中结构(2)是衍生自通过采用氟化缩水甘油基封端反应物将羧基封端的其中R1和R2是H以及L是氟化烷基,R"独立地选自氢、结构(2)的组成部分,其中R1和R2是H以及L是氟化烷基和进一步其中结构(2)是衍生自通过采用氟化缩水甘油基封端反应物将羧基封端,以及Y'独立地是(C1-C20)亚烃基连接部分。2.权利要求1的组合物,其中A选自C1-C20未被取代的亚烷基、C1-C20取代的亚烷基、C1-C20未被取代的环脂基、C1-C20取代的环脂基、C1-C20未被取代的杂环脂基、以及C1-C20取代的杂环脂基组成部分。3.权利要求1或者2的组合物,其中该聚合物具有结构3,其中,B是单键或者C1-C6非芳族的脂族组成部分,R'是具有结构(2)的基团,以及R"独立地选自氢、结构(2)的基团,其中R1和R2是H以及L是氟化烷基和进一步其中结构(2)是衍生自通过采用氟化缩水甘油基封端反应物将羧基封端,和R"独立地选自氢或结构(2)的组成部分,其中R1和R2是H以及L是氟化烷基和进一步其中结构(2)是衍生自通过采用氟化缩水甘油基封端反应物将羧基封端,以及Y'独立地是(C1-C20)亚烃基连接组成部分。4.权利要求1的组合物、其中亚烃基连接组成部分选自取代的脂族(C1-C20)亚烷基、未被取代的脂族(C1-C20)亚烷基、取代的脂族(C1-C20)烷基、未被取代的脂族的(C1-C20)烷基、取代的脂族(C1-C20)环烷基、未被取代的脂族(C1-C20)环烷基、取代的硫杂-亚烷基脂族(C1-C20)基团或者未被取代的硫杂-亚烷基脂族(C1-C20)基团、取代的亚环烷基、或者未被取代的亚环烷基、取代的苄基、未被取代的苄基、烷氧基亚烷基、烷氧基芳基、芳基、取代的芳基、取代的脂族(C1-C20)亚烷基芳基、未被取代的脂族(C1-C20)亚烷基芳基、杂亚环烷基、杂芳基、氧代环己基、环状内酯、羟基烷基、羟基烷氧基、烷氧基烷基、烷氧基芳基、烷基2CN102575127B权利要求书2/2页芳基、烯基、芳基酯、带有芳族取代基的酯、杂环烷基、杂芳基、硝基烷基、卤代烷基、烷基酰亚胺、烷基酰胺、或其混合物。5.权利要求1的组合物,其中Y'选自亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、苯基亚乙基、烷基硝基亚烷基、亚新戊基、亚烷基丙烯酸酯、二硫杂亚辛基、溴代硝基亚烷基、亚苯基、亚萘基、亚蒽基、亚苯基衍生物、亚萘基衍生