盐，光致抗蚀剂组合物，以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102731347A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102731347A(43)申请公布日2012.10.17(21)申请号201210103584.6C07D333/46(2006.01)(22)申请日2012.04.10G03F7/004(2006.01)G03F7/00(2006.01)(30)优先权数据2011-0888812011.04.13JP(71)申请人住友化学株式会社地址日本国东京都(72)发明人安立由香子市川幸司(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人李新红(51)Int.Cl.C07C309/17(2006.01)C07C303/32(2006.01)C07C381/12(2006.01)C07C25/02(2006.01)C07C17/00(2006.01)权利要求书权利要求书22页页说明书说明书6868页页(54)发明名称盐，光致抗蚀剂组合物，以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法(57)摘要本发明提供一种盐，光致抗蚀剂组合物，以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述盐由式(I)表示，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，n表示0或1，L1表示单键或其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C10烷烃二基，条件是当n是0时，L1不是单键，环W表示C3-C36脂族环，其中亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替，并且其中氢原子可以被羟基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基代替，R1表示羟基或由保护基团保护的羟基，并且Z+表示有机阳离子。CN102734ACN102731347A权利要求书1/2页1.一种由式(I)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，n表示0或1，L1表示单键或其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C10烷烃二基，条件是当n是0时，L1不是单键，环W表示C3-C36脂族环，其中亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替，并且其中氢原子可以被羟基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基代替，R1表示羟基或由保护基团保护的羟基，并且Z+表示有机阳离子。2.根据权利要求1所述的盐，其中下式的部分：是由式(Ia1-1)、式(Ia1-2)或式(Ia1-3)表示的结构，其中金刚烷环中的亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替，金刚烷环中的氢基团可以被羟基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基代替，其中环己烷环中的亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替，环己烷环中的氢基团可以被羟基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基代替，其中降冰片烯环中的亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替，降冰片烯环中的氢基团可以被羟基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基代替。3.根据权利要求1或2所述的盐，其中n是1。4.根据权利要求3所述的盐，其中L1是单键。5.根据权利要求1或2所述的盐，其中R1表示羟基。6.根据权利要求1或2所述的盐，其中R1由式(1A)或式(2A)表示：2CN102731347A权利要求书2/2页其中Ra61、Ra62和Ra63独立地表示C1至C6烷基，并且*表示结合位置，其中Ra61′和Ra62′各自独立地表示氢原子或C1-C12一价烃基，并且Ra63′表示C1-C20一价烃基，或Ra63′与Ra62′一起表示C2-C20二价烃基，并且这些一价烃基中的亚甲基可以被氧原子或硫原子代替，并且所述二价烃基中的亚甲基可以被氧原子或硫原子代替。7.根据权利要求6所述的盐，其中R1由式(2A)表示。8.根据权利要求1或2所述的盐，其中Z+是芳基锍阳离子。9.一种酸生成剂，所述酸生成剂包含根据权利要求1或2所述的盐。10.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含根据权利要求9所述的酸生成剂和具有酸不稳定基团的树脂，所述树脂不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。11.根据权利要求10所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含溶剂。12.根据权利要求10所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含碱性化合物。13.一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括以下步骤(1)至(5)：(1)将根据权利要求10、11或12所述的光致抗蚀剂组合物涂覆在基板上的步骤，(2)通过进行干燥而形成光致抗蚀剂膜的步骤，(3)将所述光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，(4)将曝光过的光致抗蚀剂膜烘焙的步骤，以及(5)将烘焙过的光致抗蚀剂膜用碱性显影液显影，从而形成光致抗蚀剂图案的步骤。3CN102731347A说明书1/68页盐，光致抗蚀剂组合物，以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法[0001]本非临时申请要求2011年4月13日在日本提交的专利申请号2011-