盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102952053A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102952053A(43)申请公布日2013.03.06(21)申请号201210280649.4C07D333/46(2006.01)(22)申请日2012.08.08C07D335/02(2006.01)C07D307/33(2006.01)(30)优先权数据C07D307/00(2006.01)2011-1756812011.08.11JPC07C25/18(2006.01)(71)申请人住友化学株式会社C07C17/35(2006.01)地址日本国东京都G03F7/004(2006.01)(72)发明人增山达郎向井优一G03F7/00(2006.01)(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人李新红(51)Int.Cl.C07C309/17(2006.01)C07C303/32(2006.01)C07C381/12(2006.01)C07D327/08(2006.01)C07D327/06(2006.01)权利要求书权利要求书22页页说明书说明书4242页页(54)发明名称盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法(57)摘要本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述光致抗蚀剂组合物包含由式(I)表示的盐和树脂，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或C1-C10一价脂族饱和烃基，X1和X2各自独立地表示单键、羰基或C1-C10二价脂族饱和烃基，其中氢原子可以被羟基代替，并且其中亚甲基可以被氧原子、磺酰基或羰基代替，A1表示C1-C30有机基团，ml表示1至4的整数，并且Z+表示有机阳离子，并且所述树脂难溶或不溶于碱性水溶液但是通过酸的作用可溶于碱性水溶液。CN102953ACN102952053A权利要求书1/2页1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含由式(I)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或C1-C10一价脂族饱和烃基，X1和X2各自独立地表示单键、羰基或C1-C10二价脂族饱和烃基，其中氢原子可以被羟基代替，并且其中亚甲基可以被氧原子、磺酰基或羰基代替，A1表示C1-C30有机基团，ml表示1至4的整数，并且Z+表示有机阳离子；以及树脂，所述树脂难溶或不溶于碱性水溶液但是通过酸的作用可溶于碱性水溶液。2.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中X2表示单键、亚甲基或1，2-亚乙基。3.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中X2表示单键。4.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中X1表示羰基或单键。5.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中X1表示羰基。6.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中R3表示甲基或氢原子。7.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中R3表示甲基。8.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中A1表示可以具有取代基的C3-C30脂环烃基，并且其中亚甲基可以被氧原子、磺酰基或羰基代替。9.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中Z+是由式(b2-1-1)表示的有机阳离子：其中Rb19、Rb20和Rb21在每次出现时均独立地为卤素原子、羟基、C1-C18烷基、C3-C18脂环烃基或C1-C12烷氧基，并且v2、w2和x2各自独立地表示0至5的整数。2CN102952053A权利要求书2/2页10.根据权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物，其中Rb19、Rb20和Rb21是甲基，并且v2、w2和x2各自独立地表示0或1。11.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含具有由式(FI)表示的结构单元的树脂：其中RF1表示氢原子或甲基，AF1表示C1-C6烷二基，并且RF2表示具有氟原子的C1-C10烃基。12.一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括步骤(1)至(5)：(1)将根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物涂敷在基板上的步骤，(2)通过进行干燥而形成光致抗蚀剂膜的步骤，(3)将所述光致抗蚀剂膜对辐射曝光的步骤，(4)将曝光的光致抗蚀剂膜烘焙的步骤，以及(5)将烘焙的光致抗蚀剂膜显影从而形成光致抗蚀剂图案的步骤。13.一种由式(I)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或C1-C10一价脂族饱和烃基，X1和X2各自独立地表示单键、羰基或C1-C10二价脂族饱和烃基，其中氢原子可以被羟基代替，并且其中亚甲基可以被氧原子、磺酰基或羰基代替，A1表示C1-C