抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108700835A(43)申请公布日2018.10.23(21)申请号201780010236.5(74)专利代理机构北京柏杉松知识产权代理事(22)申请日2017.03.15务所(普通合伙)11413代理人邵秋雨赵曦(30)优先权数据2016-0715582016.03.31JP(51)Int.Cl.G03F7/38(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日G03F7/004(2006.01)2018.08.07G03F7/038(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据G03F7/20(2006.01)PCT/JP2017/0105182017.03.15G03F7/26(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据H01L21/027(2006.01)WO2017/169807JA2017.10.05(71)申请人日本瑞翁株式会社地址日本东京(72)发明人阿部信纪佐藤信宽权利要求书1页说明书17页(54)发明名称抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂(57)摘要本发明的抗蚀剂图案形成方法包含以下工序：制备放射线敏感性树脂组合物的制备工序、在基板上形成放射线敏感性树脂组合物的涂膜的涂敷工序、在第1温度对涂膜进行加热的第1热处理工序、对得到的抗蚀剂膜照射活性放射线的曝光工序、以及曝光工序开始以后在第2温度条件下保持抗蚀剂膜的第2热处理工序，上述放射线敏感性树脂组合物含有碱溶性树脂(a)、交联成分(b)及吸收活性放射线的化合物(c)，相对于100质量份的树脂(a)，包含超过1.0质量份的化合物(c)。在此，第1温度为第2温度以上。CN108700835ACN108700835A权利要求书1/1页1.一种抗蚀剂图案形成方法，包含以下工序：制备工序，制备放射线敏感性树脂组合物，涂敷工序，将所述放射线敏感性树脂组合物涂敷在基板上并进行干燥而形成涂膜，第1热处理工序，在第1温度对所述涂膜进行加热，曝光工序，对经过所述第1热处理工序而得到的抗蚀剂膜照射活性放射线，以及第2热处理工序，在所述曝光工序开始以后，在第2温度条件下保持所述抗蚀剂膜，所述放射线敏感性树脂组合物含有碱溶性树脂a、通过活性放射线的照射或者活性放射线的照射及其后的热处理而交联所述碱溶性树脂的交联成分b、以及吸收所述活性放射线的化合物c，(1)所述交联成分b是通过所述活性放射线的照射而产生酸的化合物和将所述通过活性放射线而产生的酸作为催化剂从而交联所述碱溶性树脂a的化合物的组合，(2)相对于100质量份的所述碱溶性树脂a，包含超过1.0质量份的所述吸收活性放射线的化合物c，且所述第1温度为所述第2温度以上。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物进一步包含碱性化合物d。3.一种抗蚀剂，是使用放射线敏感性树脂组合物而形成的，在形成由线和间隔形成的、截面为倒锥形状的抗蚀剂图案的情况下，非曝光面的线宽Wb与曝光面的线宽Wt的比率Wb/Wt小于0.7，在120℃的温度条件下加热1分钟后，构成所述抗蚀剂图案的倒锥形状的所述线的侧壁与抗蚀剂表面所成的角度小于90°，所述放射线敏感性树脂组合物含有碱溶性树脂a、通过活性放射线的照射或者活性放射线的照射及其后的热处理而交联所述碱溶性树脂的交联成分b、以及吸收所述活性放射线的化合物c，(1)所述交联成分b是通过所述活性放射线的照射而产生酸的化合物和将所述通过活性放射线而产生的酸作为催化剂从而交联所述碱溶性树脂a的化合物的组合，(2)相对于100质量份的所述碱溶性树脂a，包含超过1.0质量份的所述吸收活性放射线的化合物c。2CN108700835A说明书1/17页抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂技术领域[0001]本发明涉及抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂，特别是涉及能够形成截面为倒锥状的抗蚀剂图案的抗蚀剂图案形成方法及具有截面为倒锥状的抗蚀剂图案的抗蚀剂。背景技术[0002]在光刻技术中，有时要求能够形成截面为倒锥形状的抗蚀剂图案的抗蚀剂材料。具体而言，可举出通过剥离法(liftoff)而形成图案的情况、形成有机EL显示元件的电绝缘性的分隔壁的情况。例如，在使用截面为倒锥形状的抗蚀剂图案、通过剥离法而形成布线时，在截面为倒锥形状的抗蚀剂图案的最表面和底部使金属布线材料堆积，其后，与在最表面堆积的金属布线材料一同除去抗蚀剂图案。如果抗蚀剂图案的截面为倒锥形状，则在金属布线材料的堆积时，能够抑制金属布线材料堆积于构成倒锥形状的侧壁，因此，能够使由堆积在抗蚀剂图案的底部的金属布线材料形成的布线图案良好地形成。[0003]于是，在现有技术中，提案有能够形成倒锥形状良好并且高灵敏度的抗蚀剂图案的光致抗蚀剂组合物(参照例如专利文献1)。专