抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法.pdf
一条****彩妍
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抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法.pdf
本发明涉及一种抗蚀剂组合物,通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而变化。含有具有以通式(a0?1)表示的结构单元(a0)的高分子化合物(A1)、以通式(b1)表示的化合物(B1)以及以通式(d1)表示的化合物(D1)。R为氢原子等;Va<base:Sup>01</base:Sup>为2价的连接基团;n<base:Sub>a01</base:Sub>为1~2的整数;Ra<base:Sup>01</base:Sup>为具有氰基等的含内酯环式基;Yb<base:Sup>01</base:Sup>为2价的
正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利说明书(10)申请公布号CN1525250A(43)申请公布日2004.09.01(21)申请号CN200410005582.9(22)申请日2004.02.18(71)申请人东京应化工业株式会社地址日本神奈川县(72)发明人森尾公隆青木知三郎加藤哲也中岛哲矢(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人朱丹(51)Int.CIG03F7/023权利要求说明书说明书幅图(54)发明名称正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法(57)摘要一种正型
抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂.pdf
本发明的抗蚀剂图案形成方法包含以下工序:制备放射线敏感性树脂组合物的制备工序、在基板上形成放射线敏感性树脂组合物的涂膜的涂敷工序、在第1温度对涂膜进行加热的第1热处理工序、对得到的抗蚀剂膜照射活性放射线的曝光工序、以及曝光工序开始以后在第2温度条件下保持抗蚀剂膜的第2热处理工序,上述放射线敏感性树脂组合物含有碱溶性树脂(a)、交联成分(b)及吸收活性放射线的化合物(c),相对于100质量份的树脂(a),包含超过1.0质量份的化合物(c)。在此,第1温度为第2温度以上。
化学增幅负型抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法.pdf
本发明为化学增幅负型抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法。提供了包含具有含桥接的环的基团的芳烃磺酸的鎓盐和基础聚合物的负型抗蚀剂组合物,该鎓盐能够产生具有适当的强度和扩散受控的大体积酸。当该抗蚀剂组合物通过光刻法处理时,形成具有高分辨率和降低的LER的矩形轮廓的点图案。
树脂、抗蚀剂组合物和抗蚀图案的制造方法.pdf
本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物,其含有:具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。<base:Imagehe=@430@wi=@1000@file=@DDA0003691841560000011.JPG@imgContent=@drawing@imgFormat=@JPEG@orientation=@portrait@inline=@yes@/>[式中、R<base:Sup>i41</base