抗蚀剂图案形成方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110383172A(43)申请公布日2019.10.25(21)申请号201880014518.7(74)专利代理机构北京柏杉松知识产权代理事(22)申请日2018.02.21务所(普通合伙)11413代理人邵秋雨刘继富(30)优先权数据2017-0657992017.03.29JP(51)Int.Cl.G03F7/012(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日G03F7/20(2006.01)2019.08.28G03F7/40(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2018/0062752018.02.21(87)PCT国际申请的公布数据WO2018/180045JA2018.10.04(71)申请人日本瑞翁株式会社地址日本东京(72)发明人佐藤信宽权利要求书1页说明书14页(54)发明名称抗蚀剂图案形成方法(57)摘要本发明的目的在于提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其能够形成剖面具有良好的倒锥形状、且减少了残留水分和残留有机组分的抗蚀剂图案。本发明的抗蚀剂图案形成方法包含下述工序：使用包含能够溶于碱的树脂、交联成分和有机溶剂的树脂液而形成放射线敏感性树脂膜的工序，将上述放射线敏感性树脂膜进行曝光而形成固化膜的工序，将上述固化膜进行显影而形成显影图案的工序，以及对上述显影图案施加显影后烘烤而得到抗蚀剂图案的工序，上述能够溶于碱的树脂包含35质量％以上且90质量％以下的聚乙烯酚树脂，上述显影后烘烤的温度为200℃以上。CN110383172ACN110383172A权利要求书1/1页1.一种抗蚀剂图案形成方法，其包含下述工序：使用包含能够溶于碱的树脂、交联成分和有机溶剂的树脂液，形成放射线敏感性树脂膜的工序，将所述放射线敏感性树脂膜进行曝光，形成固化膜的工序，将所述固化膜进行显影，形成显影图案的工序，以及对所述显影图案施加显影后烘烤，得到抗蚀剂图案的工序，所述能够溶于碱的树脂包含35质量％以上且90质量％以下的聚乙烯酚树脂，所述显影后烘烤的温度为200℃以上。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述显影后烘烤的温度为400℃以下。3.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述显影后烘烤的温度为220℃以上。4.根据权利要求1～3中任一项所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述显影后烘烤在非活性气体氛围下进行。5.根据权利要求4所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述非活性气体为氮。6.根据权利要求1～5中任一项所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述树脂液进一步包含活性放射线吸收化合物。2CN110383172A说明书1/14页抗蚀剂图案形成方法技术领域[0001]本发明涉及形成抗蚀剂图案的方法。背景技术[0002]一直以来，在光刻技术的领域中，使用着下述方法，即，通过活性射线(紫外线、远紫外线、准分子激光、X射线、电子束、极端紫外线(ExtremeUltraViolet)等)的照射而将曝光区域的树脂进行交联，利用曝光区域与未曝光区域在显影液中的溶解度差而除去未曝光区域，从而形成期望的抗蚀剂图案。[0003]作为这样的抗蚀剂图案的形成方法，可采用例如下述方法(例如参考专利文献1、2)：准备包含能够溶于碱的树脂、交联成分和有机溶剂的树脂液，对由该树脂液得到的放射线敏感性树脂膜照射活性放射线而形成固化膜，接下来使用碱性显影液将固化膜进行显影。[0004]在专利文献1和2中，对包含能够溶于碱的树脂的树脂液中的成分进行研究，提出了形成耐热性优异且剖面具有良好的倒锥形状的抗蚀剂图案的技术。[0005]而且，剖面具有良好的倒锥形状的抗蚀剂图案能够优选用于利用剥离(lift-off)法而进行的金属布线图案形成、有机EL显示元件所使用的电绝缘性隔离壁的形成。[0006]现有技术文献[0007]专利文献[0008]专利文献1：国际公开第01/61410号；[0009]专利文献2：日本特开第2005-316412号公报。发明内容[0010]发明要解决的问题[0011]然而，当以上述的现有技术的方法来形成抗蚀剂图案时，在抗蚀剂图案中大量残留水分和有机组分，该水分来自于树脂的吸附水和分解物以及碱性显影液等，有机组分来自树脂液中的有机溶剂等。[0012]当将这样大量残留水分和有机组分的抗蚀剂图案用于利用剥离法而进行的金属布线图案形成时，由于在抗蚀剂图案上进行金属蒸镀时的热而产生气体，不能得到良好的布线图案，并且，当将该抗蚀剂图案用于电绝缘性隔离壁的形成时，在有机EL显示元件运作时产生气体，对该元件的性能造成不好的影响。[0013]因此，本发明的目的在于提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其能够形成剖面具有良好的倒锥形状、且减少了残