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抗蚀剂图案形成方法.pdf
2023-05-09
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念珊****写意
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相关资料
抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂.pdf
本发明的抗蚀剂图案形成方法包含以下工序：制备放射线敏感性树脂组合物的制备工序、在基板上形成放射线敏感性树脂组合物的涂膜的涂敷工序、在第1温度对涂膜进行加热的第1热处理工序、对得到的抗蚀剂膜照射活性放射线的曝光工序、以及曝光工序开始以后在第2温度条件下保持抗蚀剂膜的第2热处理工序，上述放射线敏感性树脂组合物含有碱溶性树脂(a)、交联成分(b)及吸收活性放射线的化合物(c)，相对于100质量份的树脂(a)，包含超过1.0质量份的化合物(c)。在此，第1温度为第2温度以上。
2023-06-11
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抗蚀剂图案形成方法.pdf
本发明的目的在于提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其能够形成剖面具有良好的倒锥形状、且减少了残留水分和残留有机组分的抗蚀剂图案。本发明的抗蚀剂图案形成方法包含下述工序：使用包含能够溶于碱的树脂、交联成分和有机溶剂的树脂液而形成放射线敏感性树脂膜的工序，将上述放射线敏感性树脂膜进行曝光而形成固化膜的工序，将上述固化膜进行显影而形成显影图案的工序，以及对上述显影图案施加显影后烘烤而得到抗蚀剂图案的工序，上述能够溶于碱的树脂包含35质量％以上且90质量％以下的聚乙烯酚树脂，上述显影后烘烤的温度为200℃以上。
2023-11-15
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547KB
抗蚀剂图案形成方法.pdf
一种抗蚀剂图案形成方法,具有:使用通过曝光产生酸且相对于碱性显影液的溶解性因酸的作用而增大的抗蚀剂组合物,在支承体上形成抗蚀剂膜的工序;对抗蚀剂膜进行曝光的工序;及对曝光后的抗蚀剂膜进行碱性显影而形成正型抗蚀剂图案的工序,作为抗蚀剂组合物,含有第1树脂成分与第2树脂成分,第1树脂成分包含具有由与α位的碳原子键合的氢原子可被取代基取代的丙烯酸衍生的结构单元的高分子化合物,第2树脂成分包含兼具含酚性羟基的结构单元与含极性因酸的作用而增大的酸分解性基团的结构单元的高分子化合物。由此,能够提供显影膜减少得以抑制、
2023-05-09
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抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法.pdf
本发明涉及一种抗蚀剂组合物,通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而变化。含有具有以通式(a0?1)表示的结构单元(a0)的高分子化合物(A1)、以通式(b1)表示的化合物(B1)以及以通式(d1)表示的化合物(D1)。R为氢原子等;Va<base:Sup>01</base:Sup>为2价的连接基团;n<base:Sub>a01</base:Sub>为1～2的整数;Ra<base:Sup>01</base:Sup>为具有氰基等的含内酯环式基;Yb<base:Sup>01</base:Sup>为2价的
2023-06-06
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光致抗蚀剂图案形成方法.pdf
一种光致抗蚀剂图案形成方法，包括：(i)在支承体上使用光致抗蚀剂组合物形成光致抗蚀剂膜的工序；(ii)将所述光致抗蚀剂膜曝光的工序；及(iii)将所述曝光后的光致抗蚀剂膜显影而形成光致抗蚀剂图案的工序，其特征在于，所述抗蚀剂组合物含有：对显影液的溶解性因酸的作用而变化的树脂(A)、通过曝光产生酸的产酸剂(B)、可光降解的碱(D1)、溶剂(S)及以下述式(x‑1)表示的化合物(X)，在所述工序(i)中形成的光致抗蚀剂膜中残留的溶剂的量为910ppm以上，式中，R
2023-11-09
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