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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103510069103510069A(43)申请公布日2014.01.15(21)申请号201310233757.0(51)Int.Cl.(22)申请日2013.06.13C23C16/455(2006.01)C23C16/18(2006.01)(30)优先权数据13/523,1242012.06.14US(71)申请人先进科技新加坡有限公司地址新加坡新加坡市(72)发明人黎子兰柯定福帕拉尼潘·奇达巴拉姆拉加万德拉·拉温德拉(74)专利代理机构北京申翔知识产权代理有限公司11214代理人周春发权权利要求书2页利要求书2页说明书10页说明书10页附图16页附图16页(54)发明名称用于化学气相沉积设备的馈通装置(57)摘要本发明公开了一种用于化学气相沉积设备的馈通装置,该馈通装置包含有:i)馈通主体;ii)多个滑道单元以及iii)可相对于多个滑道单元旋转的馈通设备。滑道单元被提供在馈通主体的内部,而每个滑道单元包含有:流体输入通道,用于接收流体;延伸的滑道,其和流体输入通道进行流体互通,以接收来自流体输入通道的流体,该延伸的滑道螺旋式延展在该滑道单元的表面上。该馈通设备包含有多个馈通设备流体通道,馈通设备流体通道包含有用于接收来自相应的延伸的滑道的流体的馈通设备流体传送孔和用于将流体释放进入反应腔室的馈通设备流体排出孔。特别是,在馈通设备旋转期间每个馈通设备流体传送孔和相应的延伸的滑道进行流体互通,以接收来自相应的延伸的滑道的流体,而每个馈通设备流体排出孔被提供来将流体释放进入反应腔室。CN103510069ACN103569ACN103510069A权利要求书1/2页1.一种用于化学气相沉积设备的馈通装置,该馈通装置包含有:馈通主体;多个滑道单元,其被提供在馈通主体的内部,而每个滑道单元包含有:流体输入通道,用于接收流体;和延伸的滑道,其和流体输入通道进行流体互通,以接收来自流体输入通道的流体,该延伸的滑道螺旋式延展在该滑道单元的表面上;以及馈通设备,其可相对于多个滑道单元旋转,该馈通设备包含有多个馈通设备流体通道,每个馈通设备流体通道包含有至少一个馈通设备流体传送孔和至少一个馈通设备流体排出孔,在馈通设备旋转期间每个馈通设备流体传送孔和相应的延伸的滑道进行流体互通,以接收来自相应的延伸的滑道的流体,每个馈通设备流体排出孔被提供来将流体释放进入反应腔室。2.如权利要求1所述的馈通装置,其中,每个延伸的滑道被设置为位于圆柱形部件上的螺旋式开口。3.如权利要求1所述的馈通装置,其中,每个延伸的滑道被设置为位于一平面上的螺旋式开口,该平面横截于馈通设备的旋转轴线。4.如权利要求1所述的馈通装置,其中,每个延伸的滑道包含有第一端部和第二端部。5.如权利要求4所述的馈通装置,其中,每个滑道单元的流体输入通道设置在延伸的滑道的第一端部。6.如权利要求5所述的馈通装置,其中,每个滑道单元还进一步包含有另一个流体输入通道,其设置在延伸的滑道的第二端部以接收流体。7.如权利要求1所述的馈通装置,该装置还包含有:多个密封设备,其用于防止相邻的滑道和相应的馈通设备流体传送孔之间流体泄露。8.如权利要求1所述的馈通装置,该装置还包含有:涂布器设备,其连接至馈通设备,该涂布器设备包含有多个带有多个叶片流体通道的叶片,每个叶片流体通道包含有至少一个叶片流体传送孔和至少一个叶片流体输出孔,每个叶片流体传送孔被提供来接收来自相应的馈通设备流体输出孔的流体,和每个叶片流体输出孔被提供来将流体释放进入反应腔室。9.如权利要求1所述的馈通装置,其中,该馈通设备包含有内轴,该内轴的一端被安装至涂布器设备,而该内轴的另一端以可释放的方式和馈通设备相连。10.如权利要求9所述的馈通装置,其中,销和槽组件被提供来以可释放的方式将涂布器设备和内轴相连。11.如权利要求9所述的馈通装置,其中,槽和键组件被提供在内轴和馈通设备处,以限制涂布器设备的下降。12.如权利要求9所述的馈通装置,其中,涂布器设备包含有定位凸伸件,其用于在装配期间将内轴和涂布器设备定位对齐。13.如权利要求1所述的馈通装置,其中,该馈通设备包含有:至少一个第一内轴冷却流体通道,该内轴冷却流体通道包含有至少一个第一内轴冷却流体传送孔和至少一个第一内轴冷却流体排出孔,其中第一内轴冷却流体传送孔被提供来2CN103510069A权利要求书2/2页接收散热流体,以及至少一个第二内轴冷却流体通道,该第二内轴冷却流体通道包含有至少一个第二内轴冷却流体传送孔和至少一个第二内轴冷却流体排出孔,涂布器设备的叶片包含有:多个第一叶片冷却流体通道,每个第一叶片冷却流体通道包含有至少一个第一叶片冷却流体传送孔和至少一个第一叶片冷