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接近式曝光装置及曝光方法.pdf

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本发明提供一种接近式曝光装置及曝光方法,其中,第一基板承载台、第一运输器、基板存储结构、第二运输器以及第二基板承载台呈线性排列,利于基板的运输。基板存储结构包括至少两个工位,以实现同时上下板。第一运输器和第二运输器均包括第一机械手和第二机械手,两个机械手可以独立作业,提高生产效率。此外,第一工件台和第二工件台共用一个曝光单元,不仅能有序曝光,还降低成本,缩小接近式曝光装置的尺寸。并且,基板存储结构和曝光单元共线设置,两个基板承载台、两个运输器和两个工件台均关于所述共线呈对称分布。这布局方式不仅有利于提高基板的传输效率,节约时间成本,提高生产效率,还能缩小接近式曝光装置的尺寸,提高产品竞争力。